專利名稱：放射線圖像傳感器及閃爍器板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及檢測用于醫(yī)療等方面的放射線圖像的圖像傳感器以及將放射線圖像變換為可用圖像傳感器檢測出的光圖像的閃爍器板。
背景技術(shù)：
醫(yī)療、工業(yè)用的X射線攝影歷來采用X射線感光膠片，而從便利性與攝影效果的保存性方面考慮，采用放射線檢測元件的放射線成像系統(tǒng)正在普及。在這種放射線成像系統(tǒng)中，采用具有多個像素的放射線檢測元件，將放射線產(chǎn)生的二維圖像數(shù)據(jù)作為電信號取得，通過處理裝置處理此信號而顯示于監(jiān)控器上。有代表性的放射線檢測元件是在一維或二維排列的光傳感器上配置閃爍器，由閃爍器將入射的放射線變換為例如可見光，組成檢測結(jié)構(gòu)。
典型的閃爍器材料CsI是吸濕性材料，會吸收空氣中的水蒸汽(潮氣)而溶解。結(jié)果將使閃爍器的特征尤其是分辨率惡化，因而必須采用使閃爍器免受潮氣影響的保護(hù)結(jié)構(gòu)。作為這種使閃爍器免受潮氣影響的保護(hù)結(jié)構(gòu)，已知有特開平5-196742號公報與特開平5-242841號公報、國際公開號WO98/36290與36291公報中分別公開的技術(shù)。
但是，特開平5-196742號公報與特開平5-242841號公報中所公開的技術(shù)不易形成防濕結(jié)構(gòu)。國際公開號WO98/36290號與36291號公報中所公開的技術(shù)雖然解決了這類問題，但看來不能具有充分的強(qiáng)度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供充分兼具耐濕性和強(qiáng)度的保護(hù)手段的放射線圖像傳感器和閃爍器板。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的放射線圖像傳感器的特征在于具有(1)由多個受光元件按1維或2維排列構(gòu)成的圖像傳感器；(2)將在此圖像傳感器的受光表面上按柱狀結(jié)構(gòu)形成的放射線變換成能由此圖像傳感器探測到的波段的光的閃爍器；(3)緊密地覆蓋閃爍器的柱狀結(jié)構(gòu)而形成的保護(hù)膜；(4)在此閃爍器的周邊上與閃爍器隔離配置將保護(hù)膜固定于圖像傳感器上的框；(5)夾持此保護(hù)膜在與圖像傳感器相反一側(cè)將此框固定設(shè)置的放射線透過板。
另一方面，本發(fā)明的閃爍器板的特征在于具有(1)基板；(2)在此基板上形成柱形結(jié)構(gòu)，將放射線變換成可透過上述基板的光的閃爍器；(3)緊密地覆蓋此閃爍器的柱狀結(jié)構(gòu)而形成的保護(hù)膜；(4)在此閃爍器的周邊上與此閃爍器隔離配置，將保護(hù)膜固定于圖像傳感器上的框；(5)具有夾持此保護(hù)膜的和基板在相反一側(cè)通過上述框固定配置的放射線透過板。
本發(fā)明的放射線圖像傳感器也可以是上述閃爍器板和檢測透過基板的光圖像的檢測器的組合形式。
本發(fā)明的閃爍器板與放射線圖像傳感器中，由于有保護(hù)膜緊密地覆蓋于閃爍器上，就能使閃爍器不受潮氣影響。還由于有固定配置于保護(hù)膜上的放射線透過板覆蓋到保護(hù)膜上，也能確保強(qiáng)度。再由于保護(hù)膜、放射線透過板是通過框固定的，所以除易于制造外，也有助于確保整體的強(qiáng)度。
此框與放射線透過板之間的一部分中最好設(shè)置開口部。這樣，由于放射線透過板與閃爍器周邊之間的空間并未密閉，在制造中進(jìn)行熱處理等時，就能防止放射線透過板與基板以及圖像傳感器的變形與破損等。
此放射線透過板最好能相對于閃爍器發(fā)生的光具有反射性，例如可以采用金屬板或放射線透過基板上具有反射膜如金屬膜的形式。這里的放射性透過基板最好采用玻璃或樹脂或碳質(zhì)的基板。
通過使放射線透過板具有光反射性，由于在閃爍器上發(fā)生的光之中逆行向放射線入射面?zhèn)鹊墓庠俅畏祷氐介W爍器一側(cè)，就能提高閃爍器輸出的可見光的輸出強(qiáng)度。


圖1是本發(fā)明的放射線圖像傳感器第一實施形式的剖面圖，圖2是圖1中部分II的放大圖，圖3是圖1的俯視圖。
圖4A～4D說明圖1的圖像傳感器的制造過程。
圖5A～5D說明本發(fā)明的放射線圖像傳感器第二實施形式及其制造工序。
圖6A～6D說明本發(fā)明的放射線圖像傳感器的第三實施形式及其制造工序。
圖7是本發(fā)明的放射線圖像傳感器的第四實施形式的剖面圖，圖8是其部分VIII的放大圖。
圖9是本發(fā)明的放射線圖像傳感器的第五實施形式的剖面圖。
圖10是其部分X的放大圖。
圖11是本發(fā)是的閃爍器板的第一實施形式的剖面圖。
具體實施例方式
下面參照附圖詳述本發(fā)明的最佳實施形式。為使于理解此說明，在各附圖中對于同一部件盡可能附以相同的標(biāo)號而略去其重復(fù)性說明，此外，各附圖中的尺寸與形狀未必與實際情形一致，為易于理解，有些部分已加以放大。
圖1是本發(fā)明的放射線圖像傳感器第一實施形式的剖面圖，圖2是圖1中一部分的放大圖，圖3是圖1的俯視圖。
此放射線圖像傳感器9的固體攝像元件1是在絕緣性的例如玻璃制基板11上將進(jìn)行光電變換的受光元件12按二維排列，形成受光部。此受光元件12由無定形硅制的光電二極管(PD)與薄膜晶體管(TFT)構(gòu)成。
于固體攝像元件1的受光部上形成了柱形結(jié)構(gòu)的閃爍器2，它將入射的放射線變換成具有預(yù)定的波段的光(不僅是可見光而且包括紫外線、紅外線等預(yù)定波長的電磁波)。閃爍器2雖可采用各種材料，但最好采用能發(fā)可見光的且發(fā)光效率良好的Tl摻雜的CsI等。此閃爍器2的各柱狀結(jié)構(gòu)的頂部，如圖2所示，不取平齊形狀而是朝向頂部變尖的形式。
覆蓋此閃爍器2的柱狀結(jié)構(gòu)，進(jìn)入其空隙中以密封此閃爍器2，形成了保護(hù)膜3。在其表面上形成了微細(xì)的凹凸。此保護(hù)膜3最好是采用透過X射線和遮斷水蒸汽的材料，最好使用例如聚對二甲苯樹脂(スリ-ボンド公司生產(chǎn)，商品名聚對亞苯基二甲基)，特別是聚對氯二甲苯(與上述同一公司制，商品名聚對亞苯基二甲基C)。用聚對亞苯基二甲基涂層的膜只會透過極少的水蒸汽與氣體。除具有很高疏水性與耐試劑性外，即使是很薄的膜也能具有優(yōu)越的電絕緣性，而在透過放射線與可見光方面等則具有與保護(hù)膜3相應(yīng)的優(yōu)越特征。
有關(guān)聚對亞苯基二甲基C涂層的細(xì)節(jié)記述于スリ-ボンド·テクニカルニユ-ス(平成4年9月23日發(fā)行)中，這里中描述其特征。
聚對亞苯基二甲基C與金屬的真空蒸鍍工藝相同，可通過在真空中于支承體上蒸鍍的化學(xué)蒸鍍(CVD)法涂層。此方法包括將用作原料的二對二甲苯單體熱分解，將此生成物于甲苯、苯等有機(jī)溶劑中急冷而獲得稱之為二聚物的二對二甲苯的工序，與將此二聚物熱分解生成穩(wěn)定的自由基對二甲苯氣體的工序，以及將此生成的氣體于相應(yīng)原料上吸附、聚合而聚合形成分子量約50萬的聚對二甲苯膜的工序。
聚對亞苯基二甲基蒸鍍與金屬真空蒸鍍有兩點顯著不同。首先，聚對亞苯基二甲基C蒸鍍時的壓力與金屬真空蒸鍍時的壓力約0.1Pa相比是很高的，約為10～20Pa，這樣，聚對亞苯基二甲基蒸鍍的適應(yīng)系數(shù)與金屬蒸鍍的適應(yīng)系數(shù)1相比，低2～4位。因此在蒸鍍時當(dāng)單分子膜覆蓋住整個被蒸鍍物后，可在其上蒸鍍聚對亞苯基二甲基。于是，厚0.2μm以上的薄膜能夠在無針孔的狀態(tài)下均勻生成，連液狀物質(zhì)不可能進(jìn)到的銳角部或邊緣部以及微米級的狹窄間隙也能進(jìn)行這種涂膜。此外，在涂膜時不需要熱處理等，可在接近室溫下涂膜，故不會產(chǎn)生伴隨硬化而有的機(jī)械應(yīng)力與熱應(yīng)變，涂膜的穩(wěn)定性也優(yōu)越。還有，能對幾乎所有的固體材料進(jìn)行這種蒸鍍涂膜。
在此保護(hù)膜3之上，將反射膜42涂層于放射線透過材41上形成的反射光透過板4，以反射膜42的側(cè)表面(反射面)面向保護(hù)膜3一側(cè)設(shè)置。在此反射面與固體攝像元件1的受光表面大致被平行設(shè)置。由于保護(hù)膜3的表面如前所述存在微細(xì)的凹凸，故在保護(hù)膜3的表面與反射透過板4(反射膜42)的表面之間形成了空間5。放射線透過材料41最好采用玻璃、聚乙烯等樹脂或碳質(zhì)基板等。反射膜42最好采用蒸鍍工藝等形成的金屬膜或感電體多層膜，作為金屬膜例如可采用光反射率高的鋁蒸鍍膜。
該反射線透過板4由框6固定于固體攝像元件1的表面上。該框如圖1、圖3所示，被設(shè)置在與其側(cè)面隔開的閃爍器2的周圍，使其可以包圍閃爍器2。框6從固體攝像元件1鄰近的一側(cè)起組成6a、6b與6c的三層結(jié)構(gòu)，第一層6a與第二層6b之間夾持保護(hù)膜3而其外周部被固定。框6所用的硅樹脂最好采用信越化學(xué)制的KJR651或KE4897，東芝シリコン制的TSE397，住友3M制的DYMAX625T等。這類材料已廣泛用于半導(dǎo)體元件的機(jī)械的、電氣保護(hù)的表面處理，與保護(hù)膜3的密切接附性也高?；蛞部刹捎门c保護(hù)膜3接合性良好的樹脂，例如丙烯類粘合劑的協(xié)立化學(xué)產(chǎn)業(yè)株式會社生產(chǎn)的World Rock No.801-SET2(70000cP型)。這種樹脂粘合劑在100mW/cm2的紫外線照射下約20秒固化，形成的表面膜柔軟且具有充分的強(qiáng)度，且有良好的耐濕、耐水、耐電接觸性和耐遷移性，具有與各種材料，尤其是玻璃、塑料等接附性好的特性。當(dāng)然，也可對各層選擇適當(dāng)?shù)牟牧?、樹脂、粘合劑再組合，作為第一層6a與第二層6b材料也可用金屬框或玻璃框，而第一層6a本身可與固體攝像元件1形成整體。
框6的第三層6c用來使框6的第一層6a、第二層6b與放射線透過板4接合。于是，第三層6c不必要覆蓋放射線透過板4的外緣全部，例如在沿固體攝像元件1的鄰接二邊配置電極部13時，在沒有設(shè)置此電極部13側(cè)的放射線透過板4的一邊則可不設(shè)置第三層6c，而設(shè)置與內(nèi)部空間5連通的開口部51一處或多處。
通過設(shè)置放射透過板4，就能對薄膜保護(hù)膜3防止誤傷，能可靠地加以保護(hù)，同時能確保放射線圖像傳感器的強(qiáng)度。其結(jié)果有利于使處理變得容易。
下面參看圖1～圖3說明本實施形式的制造工序。首先如圖4A所示，于固體攝像元件1的受光面(受光元件12的形成側(cè))上，由蒸鍍法使Tl摻雜的CsI柱狀晶體僅長600μm的厚度，因此形成閃爍器2。
此后，在蒸鍍了閃爍器2的固體攝像元件于200～210℃退火處理后，于閃爍器2的周邊依框的形狀涂布UV硬化樹脂，以紫外線照射使其固化，形成樹脂框6的第一層6a。在形成這種框時，例如也可以用如巖下ヱンジニアリング制的AutoShooter3型的自動X-Y涂層裝置。此時，為了改進(jìn)與形成在上部的保護(hù)膜3的密合性，最好是對樹脂框6的表面施加糙化處理。糙化處理的方法可以嵌入紋道或于表面上形成眾多的微坑。
形成閃爍器2的CsI吸濕性高，若按原樣暴露就會吸收空氣中的水蒸汽而溶解。為了防止這種現(xiàn)象，可用CVD法蒸鍍厚10μm的聚對亞苯基二甲基以覆蓋固體攝像元件1，形成保護(hù)膜3。CsI的柱狀晶體中如圖2所示存在間隙，而聚對亞苯基二甲基可進(jìn)到這種狹窄的間隙中。結(jié)果，保護(hù)膜3密著地形成于閃爍器2上。通過聚對亞苯基二甲基涂層，在凹凸的閃爍器2的表面上可以有大致均勻厚度的精密薄膜涂層。至于聚對亞苯基二甲基的CVD形成，如前所述，由于所需真空度比蒸鍍金屬時低，可在常溫下進(jìn)行，因而容易加工。
將這樣形成的保護(hù)膜3如圖4B所示沿框6的第一層6a的縱向用切刀切斷。由于框6的第一層6a處形成了凸部，除容易識別切斷處外，還由于僅以框6的第一層6a的厚度即可在切刀插入時有余量，不必?fù)?dān)心損傷框6下固體攝像元件1，其加工簡單，可以提高制品的合格率，然后從此切斷部除去外側(cè)與入射面內(nèi)側(cè)上形成的保護(hù)膜3。
然后，涂布丙烯酸樹脂以覆蓋保護(hù)膜3的外周部和露出的框6的第一層6a，經(jīng)紫外線照射固化，形成圖6所示的框6的第二層6b。此時，第二層6b的高度要形成為比閃爍器2的頂面約高0.5mm的程度。
這樣地將框6的第一層6a與第二層6b夾持保護(hù)膜3，就能更好地改進(jìn)保護(hù)膜3對固體攝像元件1的密合性。結(jié)果，由于保護(hù)膜3完全地密封住閃爍器2，就能可靠地防止水分浸入閃爍器2中，從而能防止因閃爍器2的吸潮變質(zhì)而降低攝像元件的分辨率。
再如圖4C所示的厚0.4mm的玻璃板組成的放射線透過材料41的一個側(cè)表面上蒸鍍厚1000的鋁，將由此形成了反射膜42的反射線透過板4以其反射面即反射膜42的形成面面向保護(hù)膜3側(cè)面配置于固體攝像元件1之上。此時，使固體攝像元件1的受光面與反射膜42的反射表面大致平行，讓保護(hù)膜3與反射膜42接觸或接進(jìn)地配置。然后如圖4D所示，于反射線透過板4與框6的第二層6b之間涂布UV硬化樹脂，以紫外線照射固化而形成第三層6c，而將放射線透過板4固定于固體攝像元件1之上。此時在位于未設(shè)置固體攝像元件1的電極部13側(cè)的放射線透過板4的一側(cè)的一部分未涂布UV效應(yīng)樹脂，由此可以設(shè)置開口部51。這樣便制得了圖1所示的本實施形式的放射線圖像傳感器9。
這樣制造成的放射線圖像傳感器9在需要進(jìn)行熱處理時或是用在溫度變化的環(huán)境中時，因為能確保通過開口部51向空間5進(jìn)行空氣交換，所以也能防止因空間5內(nèi)的空氣膨脹、收縮導(dǎo)致的如反射線透過板4的放射線圖像傳感器9的構(gòu)成材料的變形。
下面說明本實施形式的操作。從入射面即從圖1、圖2中的上側(cè)入射的X射線(放射線)透過反射線透過板4(放射線透過材料41與反射膜42)、空間5與保護(hù)膜3而到達(dá)閃爍器2。此X射線為閃爍器2吸收。放射出與X射線光量成正比的可見光。在放射出的可見光之中，與X射線入射方向逆行的可見光于保護(hù)膜3的界面處反射其一部分而再返回到閃爍器2。然后從保護(hù)膜3發(fā)出的可見光也由反射膜42反射而再次返回到閃爍器2。由此，在閃爍器2上發(fā)生的可見光幾乎完全地入射到受光元件2，從而能效率良好地對高敏感度進(jìn)行測定。
各個受光元件2通過光電變換生成與此可見光光量相對應(yīng)的電信號，存儲一定時間。由于此可見光的光量對應(yīng)于入射的X射線的光量，也就是說存儲于各受光元件2中的電信號對應(yīng)于入射的X射線的光量，而能獲得與X射線圖像對應(yīng)的圖像信號。將存儲于受光元件2中的這種圖像信號傳送到外部。由預(yù)定的處理電路對其處理，可以表示X射線圖像。
圖5A～5C說明本發(fā)明的放射線圖像傳感器的第二實施形式制造工序。此放射線圖像傳感器如圖5D所示，保護(hù)膜3的端部固定于固體攝像元件1的表面上，而其外像部從上面由框6固定，這一點是與圖1所示的第一實施形式不同的。
將閃爍器2蒸鍍到固體攝像元件1上直至退火處理都與第一實施形式的制造方法相同。然后由CVD法蒸鍍上10μm厚的聚對亞苯基二甲基覆蓋固體攝像元件1，形成如圖5A所示的保護(hù)膜3。由于保護(hù)膜3形成的詳細(xì)過程與第一實施形式相同，略去其說明。
將這樣形成的保護(hù)膜3于閃爍器2的外側(cè)部分，按圖5所示以切刀切斷。然后從此切斷部將形成于外側(cè)及入射面內(nèi)側(cè)的保護(hù)膜3除去。
再沿保護(hù)膜3的外緣部按框形涂布UV固化樹脂，照射紫外線使其固化，形成框6的第一層6a。在形成這種框時，例如可以用巖下工程制AutoShooter3型的自動X-Y涂層裝置。這時第一層6a的高度形成為較閃爍器2頂面約高0.5mm的程度。
于框6的第一層6a處壓入保護(hù)膜3的外緣部，可使保護(hù)膜3于固體攝像元件1上的密合性進(jìn)一步提高。結(jié)果能使保護(hù)膜3完全地密封閃爍器2，能夠可靠地防止水份浸入閃爍器2中，得以防止閃爍器2因吸潮變質(zhì)而降低攝像元件的分辨率。
再如圖5C所示，于厚0.4mm的玻璃板組成的放射線透過材料41的一側(cè)表面上蒸鍍厚1000的鋁，將如此形成了反射膜42的放射線透過板4以其反射面即反射膜42的形成面朝向保護(hù)膜3側(cè)面配置于固體攝像元件1之上。此時，固體攝像元件1的受光面與反射膜42的反射表面大致平行地配置成使保護(hù)膜3與反射膜42接觸或接近。然后如圖5D所示，在放射線透過板4與框6的第一層6a之間涂布UV固化樹脂，用紫外線照射使樹脂固化而形成第二層6b，再將放射線透過板4固定于固體攝像元件1之上。
顯然，在本實施形式中，第一層6a并不限于樹脂，而是也可用金屬框與玻璃框等，這種情形下，在接合第一層6a與固體攝像元件1時最好用粘合劑或樹脂進(jìn)行。
圖6A～6D說明本發(fā)明放射線圖像傳感器第三實施形式的制造工序。此放射線圖像傳感器如圖6D所示，框6的第一層6a比第一實施形式的高，而且是由于其上設(shè)置的第二層6b來固定放射線透過板4，這一點是與第一實施形式的情形不同的。
于固體攝像元件1上蒸鍍閃爍器2直到退火處理，都與第一實施形式的制造方法相同。然后，與第一實施同樣地形成框6的第一層6a，但此時將第一層6a形成為較閃爍器2的頂面約高0.5mm。隨即與第一實施形式相同地由聚對亞苯基二甲基形成保護(hù)膜(參看圖6A)。
將這樣形成的保護(hù)膜3依圖6B所示，沿框6的第一層6a的縱向用切刀切斷，從此切斷部除去外側(cè)與入射面內(nèi)側(cè)上形成的保護(hù)膜3，有關(guān)細(xì)節(jié)同于第一實施形式，略去其說明。
再如圖6C所示，于厚0.4mm的玻璃板組成的放射線透過材料41的一側(cè)表面上將鋁蒸鍍到厚1000，將形成有反射膜42的放射線透過板4以其反射面即反射膜42的形成面朝向保護(hù)膜3一側(cè)，配置于固體攝像元件1之上，此時，固體攝像元件1的受光面與反射膜42的反射面大致平行地配置，使保護(hù)膜3與反射膜42接觸或接近。
然后，為覆蓋保護(hù)膜3的外周部與露出的框6的第一層6a，且進(jìn)入到與放射線透過板4構(gòu)成的間隙中，除布丙烯酸樹脂，通過紫外線照射使此樹脂固化，形成了圖6D所示的框6的第二層6b。這樣就將放射線透過板4固定到固體攝像元件1之上。由此制得了本實施形式的放射線圖像傳感器。
按以上所述將保護(hù)膜3夾持于框6的第一層6a與第一層6b之間，能更好地改進(jìn)保護(hù)膜3對固體攝像元件1的密合性。結(jié)果，由于以保護(hù)膜3完全地密封了閃爍器2，就能可靠地制止水份浸入閃爍器2，得以防止因閃爍器2因吸濕變質(zhì)而降低了攝像元件的分辨率。
本實施形式中的第一層6a可以預(yù)光整體成形于固體攝像元件1的基板上或也可光與金屬框或玻璃框接合而形成。
圖7與8示明本發(fā)明的放射線圖像傳感器的第四實施形式。此放射線圖像傳感器中用單一部件組成的放射線透過板4a取代了圖1與2所示的第一實施形式中的放射線透過板4。作為放射線透過板4a可以用光反射性部件或是光透過性部件，而作為光反射性部件的金屬板例如可以用厚約0.05mm的鋁片。在采用金屬板時，可以使裝置薄型化。另一方面，采用光透過性部件時則易于確認(rèn)受光元件的位置。
圖9與圖10示明本發(fā)明的放射線圖像傳感器的第五實施形式。此放射線圖像傳感器與圖1和圖2所示第一實施形式中將放射線透過板4與保護(hù)膜3作接觸或接近設(shè)置的情形不同，是使放射線透過板4與保護(hù)膜3隔離配置。為使放射線透過板4隔離配置而采用了隔件7。此隔件7還能有效地防止保護(hù)膜3從外周剝落。顯然，也可不用隔件7而可通過加高框6來隔離放射線透過板4。在放射線透過板4與保持膜3隔離后生成的空間5a內(nèi)可以構(gòu)成空氣層或封入特定的氣體，或也可構(gòu)成為減壓、真空狀態(tài)。顯然也可如第一實施形式所述，設(shè)置連通空間5a與外部的空間的開口部51。
還可以于空間5a的閃爍器2的外側(cè)的配置固體攝像元件1的受光元件12更外側(cè)的空間內(nèi)配置吸濕劑。通過于空間5a內(nèi)配置吸濕劑，將空間5a內(nèi)的溫度保持于預(yù)定溫度之下的狀態(tài)，就能提高防濕效果。
圖11是示明本發(fā)明的閃爍器板的第一實施形式的剖面圖。此閃爍器板除用光透過性基板1a取代圖1與圖2所示放射線圖像傳感器的固體攝像元件1之外，其他結(jié)構(gòu)則相同。另外，圖4～圖10所示的放射線透過板。框的結(jié)構(gòu)與布置也能適用于圖11所示的閃爍板。將這類閃爍板與電視攝像機(jī)等組合，可以構(gòu)成本發(fā)明的放射線圖像傳感器。
本發(fā)明的閃爍器板與放射線圖像傳感器可以作為醫(yī)療、工業(yè)用的X射線攝影裝置被廣泛應(yīng)用。
權(quán)利要求
1.放射線圖像傳感器，它具有由多個受光元件按1維或2維排列構(gòu)成的圖像傳感器；在所述圖像傳感器的受光表面上按柱狀結(jié)構(gòu)形成的，將放射線變換成具有由所述圖像傳感器能探測到的波段的光的閃爍器；覆蓋所述閃爍器的柱狀結(jié)構(gòu)且密著地形成的保護(hù)膜；在所述閃爍器的周邊上閃爍器隔離配置，將所述保護(hù)膜固定于圖像傳感器上的框；挾持所述保護(hù)膜，在所述圖像傳感器的相反一側(cè)通過所述框固定配置的放射線透過板。
2.權(quán)利要求1所述的放射線圖像傳感器，其中所述框與放射線透過板之間的一部分中設(shè)有開口部。
3.權(quán)利要求1或2所述的放射線圖像傳感器，其中所述放射線透過板對于所述閃爍器上產(chǎn)生的光具有反射性。
4.權(quán)利要求3所述的放射線圖像傳感器，其中所述放射線透過板是金屬板。
5.權(quán)利要求3所述的放射線圖像傳感器，其中所述放射線透過板上設(shè)有與前述閃爍器上發(fā)生的光相對應(yīng)的反射膜。
6.權(quán)利要求5所述的放射線圖像傳感器，其中所述反射膜是金屬膜。
7.權(quán)利要求5或6所述的放射線圖像傳感器，其中所述放射線透過基板是玻璃、樹脂、碳質(zhì)的基板之一。
8.閃爍器板，它具有基板；于所述基板上按柱狀結(jié)構(gòu)形成的能將放射線變換為能透過所述基板的光的閃爍器；覆蓋所述閃爍器的柱狀結(jié)構(gòu)且密著地形成保護(hù)膜；在此閃爍器的周邊上與閃爍器隔離配置，將所述保護(hù)膜固定于所述圖像傳感器上的框；夾持所述保護(hù)膜，在所述基板的相反一側(cè)通過所述框固定配置的放射線透過板。
9.權(quán)利要求1所述的放射線圖像傳感器，其中在所述框與所述放射線透過板之間的一部分中設(shè)有開口部。
10.權(quán)利要求8或9所述的閃爍器板，其中所述放射線透過板對于上述閃爍器發(fā)生的光具有反射性。
11.權(quán)利要求10所述的閃爍器板，其中所述放射線透過板是金屬板。
12.權(quán)利要求10所述的閃爍器板，其中所述放射線透過板上設(shè)有與前述閃爍器上發(fā)生的光相對應(yīng)的反射膜。
13.權(quán)利要求12所述的閃爍器板，其中反射膜是金屬膜。
14.權(quán)利要求12或13所述的閃爍器板，其中所述放射線透過基板是玻璃、樹脂、碳質(zhì)的基板。
15.放射線圖像傳感器，它具有權(quán)利要求8～14中任一所述的閃爍器板和能檢測透過上述基板的光圖像的檢測器。
全文摘要
放射線圖像傳感器，它具有(1)由多個受光元件(12)按1維或2維排列構(gòu)成的圖像傳感器(1)；(2)在此圖像傳感器(1)的受光表面上按柱狀結(jié)構(gòu)形成的，將放射線變換成能由此圖像傳感器(1)探測到的光的閃爍器(2)；(3)覆蓋此閃爍器(2)的柱狀結(jié)構(gòu)密著地形成的保護(hù)膜(3)；(4)在此閃爍器(2)的周邊上與閃爍器隔離配置，將保護(hù)膜(3)固定于圖像傳感器(1)上的框(6)；(5)夾持此保護(hù)膜(3)，在和圖像傳感器1相反一側(cè)通過框(6)固定配置的放射線透過反射板(4)。
文檔編號G01T1/00GK1394286SQ01803215
公開日2003年1月29日 申請日期2001年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2000年1月13日
發(fā)明者鈴木孝治 申請人:浜松光子學(xué)株式會社