專利名稱：光學組件量測裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學組件量測裝置，特別是一測量反射率的光學組件量測裝置。
背景技術(shù)：
光電產(chǎn)業(yè)近年來成為熱門的新興產(chǎn)業(yè)之一，不論是工業(yè)上的應(yīng)用或是學術(shù)上的研究都有很大的進展。
在光學組件中，高反射鏡(High Reflection Mirror)的應(yīng)用極廣，大部分的高反射鏡是在一基板上鍍一光學薄膜所制成。在高反射鏡的制造過程中，需要經(jīng)過光學儀器檢測其反射率，并經(jīng)由訊號處理轉(zhuǎn)換成可供比對的數(shù)據(jù)，借以控制高反射鏡的良率。
如圖1所示，在量測一光學組件8的反射率時，由一光源區(qū)5發(fā)射一光束進入設(shè)置有光學組件8的一量測裝置6中。接著，經(jīng)由光學組件8所反射出的光束再射入一積分球7中，經(jīng)由訊號處理得到所需的數(shù)據(jù)。其中，量測裝置6由四個反射組件61、62、63以及64固定于一基座65上所組成，該等反射組件61、62、63以及64之間的相對位置皆需精準對位，以確保所量測的反射角度的精確度以及再現(xiàn)性。
于上述的量測裝置中，一種量測裝置只能測量一固定角度的反射率，并無法隨需要而任意調(diào)整。即，當測量不同的反射角度時，即需更換另一量測裝置，造成使用上的不便，同時增加制造成本。而且，量測裝置上反射組件之間的相對位置必須非常精準，若其中一個發(fā)生位移，即無法準確量測到光學組件的反射率，造成所量測的再現(xiàn)性差。同時，光源、量測裝置以及積分球必須位于同一直線上，使得整個儀器的體積過大，造成儀器面積上縮小的限制，進而減少每單位面積的產(chǎn)能。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，本發(fā)明的目的在于提供一種能夠量測多種反射角度、突破裝置面積限制，以及提高精確度的光學組件量測裝置。
然而，本發(fā)明是利用同心軸旋轉(zhuǎn)原理提供一種光學組件量測裝置，能夠量測光學組件的各種反射角角度的反射率。
為達上述目的，本發(fā)明提供一種光學組件量測裝置，包含一基座、一轉(zhuǎn)盤、一積分球單元組以及一支架。其中，基座的圓周面上設(shè)有一參考點；轉(zhuǎn)盤軸設(shè)于基座上，且轉(zhuǎn)盤的圓周面上設(shè)有一定位刻度；積分球單元于轉(zhuǎn)盤的半徑方向自轉(zhuǎn)盤而向外側(cè)延設(shè)；支架軸設(shè)于轉(zhuǎn)盤上，用以挾持一光學組件，基座、轉(zhuǎn)盤與支架位于同心軸上，支架設(shè)有一用以供支架定位的參考組件。另外，本發(fā)明亦提供一種光學組件量測裝置，其包含一基座、一積分球單元以及一支架。其中，基座的圓周面上設(shè)有一定位刻度；積分球單元樞接于基座上，且積分球單元設(shè)有一第一參考組件；支架軸設(shè)于積分球單元上，用以挾持一光學組件，基座、積分球單元與支架位于同心軸上，支架設(shè)有一用以供支架定位的第二參考組件。
本發(fā)明所提供的一種光學組件量測裝置，是利用同心軸旋轉(zhuǎn)原理來量測光學組件的各種反射角度的反射率。與公知技術(shù)相比，本發(fā)明將基座、積分球單元以及支架設(shè)置于同心軸上，以基座當作參考坐標，即能快速并精確地調(diào)整積分球單元與支架的角度，進而能夠量測光學組件的各種反射角度的反射率，縮短了量測上的時間。同時，由于量測不同反射角度時不需更換另一量測裝置，更進一步節(jié)省了成本。再者，由于光源與積分球單元不須位于同一直線上，減少整個儀器所占的面積，進而增加每單位面積的產(chǎn)能。另外，本發(fā)明中量測裝置的組件是固定于同心軸上，不易位移且減少發(fā)生量測上的誤差，所以測量到結(jié)果的準確性以及重復(fù)性皆高。


圖1是公知的光學組件量測裝置的示意圖。
圖2A與圖2B系本發(fā)明實施例一的光學組件量測裝置的立體圖。
圖3A、圖3B與圖3C系為本發(fā)明實施例一具體實施的一系列立體示意圖。
圖4系本發(fā)明實施例二的光學組件量測裝置的立體圖。
圖5A、圖5B與圖5C為本發(fā)明實施例二具體實施的一系列立體示意圖。
組件符號說明1光學組件量測裝置，11基座，111圓周面，12轉(zhuǎn)盤，121圓周面，13積分球單元，131積分球，132外殼體，133臂部，14支架，141參考組件，15微調(diào)單元，2光學組件，3光學組件量測裝置，31基座，311圓周面，32積分球單元，321積分球，322外殼體，323臂部，324第一參考組件，33支架，331第二參考組件，4光學組件，5光源區(qū)，6量測裝置，61、62、63、64反射組件，65基座，7積分球，8光學組件。
具體實施例方式
以下將參照相關(guān)附圖，說明依據(jù)本發(fā)明實施例的一種光學組件量測裝置。
如圖2A及圖2B所示，本發(fā)明的實施例一提供一種光學組件量測裝置1，其包含一基座11、一轉(zhuǎn)盤12、一積分球單元13以及一支架14。其中，基座11的圓周面111上設(shè)有一參考點；轉(zhuǎn)盤12軸設(shè)于基座11上，且轉(zhuǎn)盤12的圓周面121上設(shè)有一定位刻度；積分球單元13于轉(zhuǎn)盤12的半徑方向自轉(zhuǎn)盤12而向外側(cè)延設(shè)；支架14軸設(shè)于轉(zhuǎn)盤12上，用以挾持一光學組件2(顯示于圖3A)，基座11、轉(zhuǎn)盤12與支架14位于同心軸上，支架14設(shè)有一用以供支架14定位的參考組件141。
如圖2A及圖2B所示，本實施例的基座11將光學組件量測裝置1固定于光學儀器的測量槽(未顯示)中，以防止光學組件量測裝置1在測量人員置換光學組件2時造成位移。在此，基板11的特點包括重心低、平穩(wěn)而不易產(chǎn)生搖晃。另外，基座11的圓周面111上設(shè)有一參考點，以供轉(zhuǎn)盤12以及支架14定位之用。
請參考圖2A及圖2B，轉(zhuǎn)盤12軸設(shè)于基座11之上，且轉(zhuǎn)盤12的圓周面121上設(shè)有一定位刻度。
再請參考圖2A及圖2B，積分球單元13于轉(zhuǎn)盤12的半徑方向自轉(zhuǎn)盤12而向外側(cè)延設(shè)。在此，積分球單元13包含一積分球131、一外殼體132以及一臂部133，積分球131設(shè)置于外殼體132內(nèi)，且外殼體132借由臂部133而固定于轉(zhuǎn)盤12上。其中，積分球131用以收集反射的光束，并偵測其光通量，再經(jīng)由訊號處理而得可供比較的數(shù)據(jù)。
于本實施例中，轉(zhuǎn)盤12的功能在調(diào)整積分球單元13的旋轉(zhuǎn)角度，當轉(zhuǎn)盤12轉(zhuǎn)動時，積分球單元13隨的轉(zhuǎn)動，并依據(jù)基座11的參考點的位置來調(diào)整積分球單元13的旋轉(zhuǎn)角度。
另外，如圖2A及圖2B所示，本實施例中支架14軸設(shè)于轉(zhuǎn)盤12上，用以挾持一光學組件2(顯示于圖3A)，基座11、轉(zhuǎn)盤12與支架14位于同心軸上，且支架14上設(shè)有一用以供支架14定位的參考組件141。在此，支架14依據(jù)參考組件141與轉(zhuǎn)盤12的定位刻度的相對位置來調(diào)整支架14的旋轉(zhuǎn)角度。亦即，支架14依據(jù)所需，調(diào)整入射光線射入光學組件2的入射角度，借以改變光線自光學組件2射出的方向，使得自光學組件2射出的光線能夠射入積分球單元13。
另外，本發(fā)明的光學組件量測裝置1還可以包含一微調(diào)單元15，此微調(diào)單元15設(shè)置于基座11內(nèi)，用以精密調(diào)整轉(zhuǎn)盤12的旋轉(zhuǎn)角度，如圖2A及圖2B所示。
于本發(fā)明中，是利用基座11、轉(zhuǎn)盤12與支架14位于同心軸上的原理來進行作動。當光源射入光學組件2的入射角增加θ度時，其反射角會相對增加θ度，故光線經(jīng)過光學組件2的路徑的角度會增加2θ度；同理，當光源射入光學組件2的入射角減少θ度時，其反射角會相對減少θ度，故光線經(jīng)過光學組件2的路徑的角度亦減少2θ度。
圖3A、圖3B以及圖3C系為本實施例具體實施之一系列示意圖。在利用光學儀器(未顯示)進行光學組件2的反射率測量時，一開始必須將基座11鎖在光學儀器的測量槽(未顯示)中，并將光學組件2放置于支架14上，如圖3A所示。當欲量測的反射角度為70度時，先將轉(zhuǎn)盤12上定位刻度140度(即欲量測的反射角度的2倍)對準基座11的參考點(0度)的位置，借以調(diào)整積分球單元13的旋轉(zhuǎn)角度，如圖3B所示。接著，再將支架14的參考組件141對準轉(zhuǎn)盤12上定位刻度70度(即欲量測的反射角度)，借以調(diào)整支架14的旋轉(zhuǎn)角度，如圖3C所示。最后，光源發(fā)射一光束于光學組件2中，接著反射光束進入積分球131中，經(jīng)由訊號處理將反射光的光通量轉(zhuǎn)換成可供比對的數(shù)據(jù)。
需注意者，在本發(fā)明的光學組件量測裝置中，轉(zhuǎn)盤12是以基座11的參考點為基準而轉(zhuǎn)動，支架14則以轉(zhuǎn)盤12為基準而轉(zhuǎn)動，因此，轉(zhuǎn)盤12與支架14皆能夠以基座11的參考點為基準而定位。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當了解，如圖3A、圖3B以及圖3C所示的光學組件量測裝置1的積分球131是固定于轉(zhuǎn)盤12上，而支架14軸設(shè)于轉(zhuǎn)盤12上，以便使得積分球131及支架14能夠以基座11的參考點為基準而定位；反之，亦可以將支架固定于轉(zhuǎn)盤上，而將積分球軸設(shè)于轉(zhuǎn)盤上，同樣能夠使得積分球及支架以基座的參考點為基準而定位。
接著，如圖4所示，本發(fā)明的實施例二亦提供一種光學組件量測裝置3，其包含一基座31、一積分球單元32以及一支架33。
其中，基座31的圓周面311上設(shè)有一定位刻度；積分球單元32樞接于基座31上，且積分球單元32設(shè)有第一參考組件324；支架33軸設(shè)于基座31上，用以挾持一光學組件4(顯示于圖5A)。在此，基座31、積分球單元32與支架33位于同心軸上，支架33設(shè)有一用以供支架33定位的第二參考組件331。
請參考圖4，積分球單元32系包含一積分球321、一外殼體322、一臂部323以及第一參考組件324。其中，積分球321設(shè)置于外殼體322內(nèi)，且外殼體322借由臂部323樞接于基座31上，且臂部323系設(shè)有第一參考組件324，其以基座31為間隔與積分球321相對而設(shè)。在此，積分球單元32依據(jù)基座31的定位刻度以第一參考組件324調(diào)整積分球單元32的旋轉(zhuǎn)角度。
再請參考圖4，支架33軸設(shè)于基座31上，用以挾持一光學組件4(顯示于圖5A)。其中，支架33設(shè)有一用以供支架33定位的第二參考組件331，且支架33依據(jù)基座31的定位刻度以第二參考組件331調(diào)整支架33的旋轉(zhuǎn)角度。
相同地，于本實施例中，基座31、積分球單元32與支架33亦位于同心軸上。需注意者，在本發(fā)明中，支架33的軸承與臂部323的樞軸系為一同心軸結(jié)構(gòu)，而支架33的軸承為內(nèi)軸，臂部323的樞軸為外軸(如圖4所示)；另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員亦可以采用支架33的軸承為外軸、臂部323的樞軸為內(nèi)軸的設(shè)計。
本實施例所依據(jù)的原理與實施例一相同，但操作上因組件的調(diào)整而有些許的差異。
接著，圖5A、圖5B以及圖5C為本實施例具體實施之一列示意圖。當欲量測70度反射角的反射率時，將支架33的第二參考組件331旋至基座31的定位刻度20度的位置，即反射角70度的余角，如圖5B所示。接著，再將積分球單元32的第一參考組件324旋至基座31上定位刻度40度的位置，即反射角70度的余角的2倍，如圖5C所示。最后，光源自刻度0度處發(fā)射一光束于光學組件4中，接著反射光束進入積分球321中，經(jīng)由訊號處理將反射光的光通量轉(zhuǎn)換成可供比對的數(shù)據(jù)。
上述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發(fā)明的精神與范疇，而對其進行的等效修改或變更，均應(yīng)包擴在本申請專利保護范圍中。
權(quán)利要求
1.一種光學組件量測裝置，其特征在于包含一基座，該基座的圓周面上設(shè)有一參考點；一轉(zhuǎn)盤，軸設(shè)于該基座上，且該轉(zhuǎn)盤的圓周面上設(shè)有一定位刻度；一積分球單元，于該轉(zhuǎn)盤的半徑方向自轉(zhuǎn)盤而向外側(cè)延設(shè)；以及一支架，軸設(shè)于該轉(zhuǎn)盤上，用以挾持一光學組件，該基座、該轉(zhuǎn)盤與該支架位于同心軸上，該支架設(shè)有一用以供該支架定位的參考組件。
2.如權(quán)利要求1所述的光學組件量測裝置，其特征在于還包含一微調(diào)單元，設(shè)置于該基座上，且用以精密調(diào)整該轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)角度。
3.如權(quán)利要求1所述的光學組件量測裝置，其特征在于，該積分球單元包含一積分球、一外殼體以及一臂部，該積分球設(shè)置于該外殼體內(nèi)，且該外殼體借由該臂部而固定于該轉(zhuǎn)盤上。
4.如權(quán)利要求1所述的光學組件量測裝置，其特征在于該轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動時該積分球單元隨的轉(zhuǎn)動，并依據(jù)該基座的參考點的位置調(diào)整該積分球單元的旋轉(zhuǎn)角度。
5.如權(quán)利要求1所述的光學組件量測裝置，其特征在于，該支架依據(jù)該參考組件與該轉(zhuǎn)盤的定位刻度的相對位置調(diào)整該支架的旋轉(zhuǎn)角度。
6.如權(quán)利要求1所述的光學組件量測裝置，其特征在于，量測時先依據(jù)該基座的參考點以該轉(zhuǎn)盤調(diào)整該積分球單元的旋轉(zhuǎn)角度，接著依據(jù)該轉(zhuǎn)盤的定位刻度以該支架的參考組件調(diào)整該支架的旋轉(zhuǎn)角度。
7.一種光學組件量測裝置，其特征在于包含一基座，該基座的圓周面上設(shè)有一定位刻度；一積分球單元，樞接于該基座上，且該積分球單元設(shè)有一第一參考組件；以及一支架，軸設(shè)于該基座上，用以挾持一光學組件，該基座、該積分球單元與該支架位于同心軸上，該支架設(shè)有一用以供該支架定位的第二參考組件。
8.如權(quán)利要求7所述的光學組件量測裝置，其特征在于該積分球單元包含一積分球、一外殼體以及一臂部，該積分球設(shè)置于該外殼體內(nèi)，該外殼體借由該臂部而樞接于該基座上，且該第一參考組件系設(shè)置于該臂部上。
9.如權(quán)利要求8所述的光學組件量測裝置，其特征在于該第一參考組件及該基分球系分別位于該基座的相對兩側(cè)。
10.如權(quán)利要求7所述的光學組件量測裝置，其特征在于該積分球單元依據(jù)該基座的定位刻度以該第一參考組件調(diào)整該積分球單元的旋轉(zhuǎn)角度。
11.如權(quán)利要求7所述的光學組件量測裝置，其特征在于該支架依據(jù)該基座的定位刻度以該第二參考組件調(diào)整該支架的旋轉(zhuǎn)角度。
全文摘要
一種光學組件量測裝置，包含一基座、一轉(zhuǎn)盤、一積分球單元以及一支架。其中，基座的圓周面上設(shè)有一參考點；轉(zhuǎn)盤軸設(shè)于基座上，且轉(zhuǎn)盤的圓周面上設(shè)有一定位刻度；積分球單元于轉(zhuǎn)盤的半徑方向自轉(zhuǎn)盤而向外側(cè)延設(shè)；支架軸設(shè)于轉(zhuǎn)盤上，用以挾持一光學組件，基座、轉(zhuǎn)盤與支架系位于同心軸上，支架設(shè)有一用以供支架定位的參考組件。另外，本發(fā)明亦提供一種光學組件量測裝置，其包含一基座、一積分球單元以及一支架。
文檔編號G01M11/02GK1510414SQ0215931
公開日2004年7月7日 申請日期2002年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月26日
發(fā)明者張智能, 徐振源 申請人:精碟科技股份有限公司