專利名稱：測量波長很小帶寬很窄的高功率激光器的光譜輸出帶寬的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對(duì)光源帶寬的精確估計(jì)，例如以窄帶寬發(fā)射激光的激光器發(fā)射的激光的帶寬。
背景技術(shù)：
眾所周知可以用光譜儀來測量例如激光器的光源的波長和帶寬。例如采用對(duì)位置敏感的探測器，如在現(xiàn)有技術(shù)中所熟知的光電二極管陣列(“PDA”)，這樣一個(gè)帶寬儀的輸出實(shí)際上就是測量的結(jié)果。帶寬儀有其自身的響應(yīng)函數(shù)，它在測量帶寬的過程中修改正在被測的光譜。
然而，例如，由于對(duì)超大規(guī)模積成電路(“ULSI”)的集成電路制備中具有更窄的臨界尺寸線特征的要求不斷增大(臨界尺寸減小)，要求在某個(gè)特定短波長(深紫外-“DUV”和極端紫外-“EUV”)處的純激光，且純度由中心波長周圍十分狹窄的可控帶寬所限定，用于這種測量的標(biāo)準(zhǔn)具正變得對(duì)誤差更加敏感，這是因?yàn)樗璧募す鈳捼吔诤蛯?shí)際使用的標(biāo)準(zhǔn)具有同樣的帶通。例如在Cymer公司(通過本申請(qǐng)的轉(zhuǎn)讓成為所有者)近來推出的產(chǎn)品XLA100上，在板(on-board)帶寬儀使用了帶通約為0.12pm的標(biāo)準(zhǔn)具，不計(jì)帶寬共振，激光器提供的輸出通常是在約0.1pm和0.18pm之間。這種復(fù)雜性使被測量的激光發(fā)生多方面(例如在帶寬方面)畸變，它現(xiàn)在或者不久將會(huì)使得對(duì)例如半極大值滿寬度(“FWHM”)的測量沒有足夠的精度來適當(dāng)?shù)乇O(jiān)控激光輸出。
當(dāng)前用作測量激光帶寬的帶寬指示的帶寬儀的輸出是，例如，在沒有有時(shí)稱為標(biāo)準(zhǔn)具分辨率(“ER”)或者標(biāo)準(zhǔn)具修正(“EC”)的某些常數(shù)誤差值的標(biāo)準(zhǔn)具光學(xué)器件產(chǎn)生的條紋的半極大值滿寬度(“FWHM”)處的條紋寬度的測量值。例如，這在本發(fā)明的受讓人出售的名稱為NL-7000和ELS的激光器中已經(jīng)采用，采用EIS波長計(jì)，利用光譜的斜率和截距的公式，F(xiàn)WHM＝A(條紋的FWHM)+C，其中A和C是在校準(zhǔn)的過程中，例如在制造時(shí)計(jì)算得到。
因此需要有改進(jìn)的方法。

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明公開了一種監(jiān)控激光器系統(tǒng)的設(shè)備和方法，它可以包括用來測量由激光器發(fā)射的激光的光譜未知寬度的帶寬儀，即光譜儀，該帶寬儀可包含光學(xué)帶寬測量單元，用于提供作為輸出的測量參數(shù)，其表示被測光譜未知帶寬的參數(shù)；報(bào)道參數(shù)計(jì)算單元，按照下面的公式來計(jì)算被測光譜未知帶寬的報(bào)道參數(shù)報(bào)道參數(shù)(“RP”)＝A*(測量參數(shù)(“MP”))+C，其中RP和MP是不同類型的參數(shù)，而A和C的數(shù)值則是根據(jù)光學(xué)帶寬測量單元中MP對(duì)已知RP數(shù)值的光的響應(yīng)的校準(zhǔn)來確定的。光學(xué)帶寬測量單元可以包含諸如標(biāo)準(zhǔn)具或光柵分光計(jì)的干涉測量的或者色散的光學(xué)儀器。RP可以是在，譬如說FWXM處，而MP可以在FWX’M處，其中X≠X’。RP可以是在，譬如說EX％處，而MP可以是例如在FWXM處。


圖1表示的按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例所用的激光帶寬監(jiān)控系統(tǒng)的示意圖。
具體實(shí)施例方式
申請(qǐng)人發(fā)現(xiàn)上面提及的系數(shù)A和C可以近似地隨光源具體光譜形狀的改變而變化，這些改變可以從操作條件或者光源壽命來預(yù)測。
現(xiàn)在來看圖1，它示出按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的激光帶寬控制系統(tǒng)10的示意圖。系統(tǒng)10可以包括，例如激光器12，如受激原子氣體放電激光器，例如當(dāng)前由本申請(qǐng)的受讓人所出售的XLA-100。激光器可以發(fā)射光束14，譬如說名義上在193.368nm處，其帶寬譬如說是0.1～0.3pm。
光束14可以入射到一個(gè)分光器16上，它可以讓例如光束14中幾乎99％的光通過，形成光束20，并基本上把光束其余的部分反射成光束22。光束22可以通過帶寬探測器，如色散的或干涉測量的帶寬探測器，例如標(biāo)準(zhǔn)具24，它能夠產(chǎn)生譬如說在同軸環(huán)上有峰值(“條紋”)的光束，它們是光束20、22的光譜中波長的函數(shù)，峰的寬度也是光束20、22光譜帶寬的函數(shù)。
光束28可以入射在光探測器陣列30上，例如光電二極管的陣列(“PDA”)。PDA30的光電二極管(圖中未示出)能夠產(chǎn)生譬如說電流，它是入射在PDA30中相應(yīng)的光電二極管上入射光強(qiáng)度的度量。電壓的數(shù)值可以轉(zhuǎn)換為數(shù)字表示，并通過總線32傳送到處理機(jī)34中，或者每個(gè)光電二極管的電壓的類似形式可以傳送到處理機(jī)34，并在處理機(jī)34中或者是處理機(jī)34的接口(未示出)中轉(zhuǎn)換為數(shù)字?jǐn)?shù)值，為處理機(jī)34所用。在其他物件中，處理機(jī)34可以用來計(jì)算光束20、22的光譜帶寬的測量值。
計(jì)算可以采用例如確定存在的峰值的電壓值的形式，例如連續(xù)地比較相鄰光電二極管(也稱為“像素”)的數(shù)值，直至譬如說像素電流的數(shù)值小于在前的像素電流數(shù)值，表明在前的像素是峰值，接下來就可以利用在峰值兩側(cè)的像素的光電二極管電流數(shù)值，例如±10像素。利用任何公知的許多種插值算法，處理機(jī)能夠確定數(shù)值，即，例如最大電壓值的一半以及在最大值的每一側(cè)，產(chǎn)生由光電二極管感測到的光譜的半最大值的以子像素間距沿光電二極管的位置，從而從這個(gè)間距來確定PDA 30感測到的FWHM。有時(shí)將它稱為例如在FWHM處的條紋測量值。例如，利用這個(gè)FWHM帶寬測量值，控制器能夠發(fā)送信號(hào)給操作控制臺(tái)(未示出)，指明光束20、22的計(jì)算帶寬估計(jì)值超出規(guī)范。
控制器中的處理機(jī)34(未示出)可以按照斜率和截距公式BW1(如在FWHM處)＝A*(條紋測量值(如在FWMH處的))+C，來計(jì)算未知的，例如在光束20、22中的激光的光譜的譜帶寬。斜率和截距，A和C，例如可以是預(yù)定校準(zhǔn)值，例如在制造時(shí)例如根據(jù)給定波長計(jì)確定的數(shù)值。例如可以通過用其FWHM由很精確的帶寬儀測量的光源的來確定A和C的數(shù)值。為申請(qǐng)的目的，校準(zhǔn)所用的數(shù)值，如校準(zhǔn)光的光譜FWHM將被稱為報(bào)道參數(shù)。用來確定帶寬探測器響應(yīng)由帶寬探測器/儀正在測量的光譜的帶寬的數(shù)值將被稱為測量參數(shù)。因此測量參數(shù)是由PDA30得到的報(bào)道電壓計(jì)算得到的數(shù)值，其主要用來確定光束是否有正確的帶寬，并當(dāng)激光器不在操作規(guī)范時(shí)向激光器提供控制指令。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，申請(qǐng)人發(fā)現(xiàn)可以成功地獲得上述帶寬探測器改進(jìn)的性能，其中校準(zhǔn)值被確定用于不同于報(bào)道參數(shù)(“RP”)的測量參數(shù)(“MP”)。例如，如果激光器12的用戶正在尋找FWHM的RP，則可能會(huì)在別的地方校準(zhǔn)系統(tǒng)10，如X不等于50％(半最大值)時(shí)的FWXH，譬如說FW75％M，在制造時(shí)已完成帶寬探測器在這個(gè)數(shù)值FWXM，如FW75％M的校準(zhǔn)。這會(huì)有有利的效果，就是FW75％M對(duì)帶寬儀響應(yīng)由于壽命或者操作環(huán)境的改變而引起的其他變化靈敏性降低，或者當(dāng)激光器壽命增長，如EX％，如E95％(“E95”)時(shí)，對(duì)激光器壽命譜中的其他參數(shù)的改變靈敏性降低。也就是說，從含有譜的總能的某個(gè)百分比的光譜的峰值任一側(cè)上(或者至少是總能的某種合理的近似，如在峰值任一側(cè)±10pm)光譜部分的寬度，測量譜純度，即窄帶寬。例如，這可能是E95％，或者E95.5％，或者E93％。即，例如在峰值任一側(cè)±10pm處存在的光譜的能量相應(yīng)的為95％、95.5％或者93％。
按照本發(fā)明這個(gè)實(shí)施例的操作，控制器中的處理機(jī)34可以編制程序，以利用相同的插值算法來計(jì)算FW75％M，即如PDA30中光電二極管的電流所顯示的那樣，例如在極大值任一側(cè)，在插入值之間的1/4像素的數(shù)目等于在光譜波峰處的極大值的75％。于是這個(gè)數(shù)值可以報(bào)道給用戶作為如系統(tǒng)10測得的實(shí)際光束的FWHM。
類似地，報(bào)道參數(shù)(“RP”)可以是EX，如E95％，而測量參數(shù)(“MP”)可以是FWXM，例如FWHM。在制造中工廠的校準(zhǔn)將比較在FWXM，例如FWHM處的帶寬探測器響應(yīng)具有E95的高精度測量值的光譜，以確定A和C的數(shù)值，從而處理機(jī)34根據(jù)下述公式輸出報(bào)道參數(shù)RP((E95％)＝A*(條紋測量值(FWXM))+C按類似的方式，可以在FW75％M處校準(zhǔn)，對(duì)已知FWHM帶寬的光測量在帶寬探測器的FW75％M處的響應(yīng)特性，而控制器中的處理機(jī)34用來按如下公式報(bào)道出報(bào)道參數(shù)RP(FWHM)＝A*(條紋測量值(FW75％M))+C在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，公式可以是RP(E95)＝A*(條紋測量值(FW25％M))+C申請(qǐng)人發(fā)現(xiàn)應(yīng)用譬如帶寬探測器測得的FW75％M，其斜率和截距也是在當(dāng)前所用的帶寬探測器上FW75％M處校準(zhǔn)的，例如該帶寬探測器在本申請(qǐng)的受讓人制造的XLA-100上的光譜的分析組件(“SAM”)中，分辨率不改變，即相對(duì)于像素標(biāo)度，則例如光譜的E955流通(bleed-through)靈敏度可能減小約50％。相信這種作用會(huì)使諸如FWHM的跟蹤誤差約減小一半，例如對(duì)共振感應(yīng)的帶寬偏移，明顯地減小了當(dāng)激光器的光束實(shí)際是處在帶寬規(guī)范之內(nèi)而報(bào)道出來的帶寬在規(guī)范之外的幾率，以及其他問題發(fā)生的幾率。在以FWHM作為報(bào)道參數(shù)而FW75％M作為測量參數(shù)的特定的實(shí)施例中，利用譬如說PDA30中光電二極管的輸出中的FW75％M，可產(chǎn)生報(bào)道參數(shù)，該報(bào)道參數(shù)對(duì)正被測量的光譜的譜翼中能量的靈敏度要比在PDA30中光電二極管輸出中實(shí)際采用FWHM時(shí)低。例如，依靠特定的譜形狀，在基于如PDA光電二極管的輸出的測量中可實(shí)現(xiàn)其他帶寬的測量，而且在校準(zhǔn)過程中，目標(biāo)是在最寬的帶寬范圍中要產(chǎn)生最佳性能(報(bào)道帶寬估算值的精度)以及在具體的光譜形狀的預(yù)期的變化。
本領(lǐng)域中的技術(shù)人員會(huì)了解本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的重要方面在于對(duì)斜率和截距方程兩邊所用的帶寬度量不必是相同類型的。用這個(gè)方法常?？梢缘玫礁朴趯?shí)際測量帶寬的值，其中報(bào)道參數(shù)的測量(期望報(bào)道具有未知帶寬的光譜的帶寬的測量)不同于在探測器中實(shí)際測量的測量參數(shù)(即基于PDA30的光電二極管的輸出電壓，如處理機(jī)所做的那樣)，例如采用E95的RP和采用FWHM的MP，或者是采用FWHM的RP和采用FW75％M的MP，規(guī)定校準(zhǔn)也是在相應(yīng)的MP值處進(jìn)行的，可以限定可能未知光譜形狀的細(xì)節(jié)，合理地系統(tǒng)地或自然地約束，以使RP對(duì)MP的適當(dāng)選擇可以確定下來，付諸應(yīng)用。
以上描述的本發(fā)明的實(shí)施例只是為了解釋和說明的目的，它們不是本發(fā)明所有的僅有的實(shí)施例。本領(lǐng)域的技術(shù)人員會(huì)理解對(duì)所述的實(shí)施例可以作諸多修改和變化而不改變本發(fā)明的意圖和精神。例如，除了標(biāo)準(zhǔn)具還可以用其他帶寬探測設(shè)備以提供用以計(jì)算報(bào)道參數(shù)的測量參數(shù)。因此可以僅根據(jù)附加的權(quán)利要求和法律上的等價(jià)解釋來考慮本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.一種激光監(jiān)控系統(tǒng)，包括用來測量激光器發(fā)射的激光的光譜未知帶寬的光譜儀，它包括光學(xué)帶寬測量單元，它用來提供作為輸出的測量參數(shù)，其表示被測光譜未知帶寬的參數(shù)；報(bào)道參數(shù)計(jì)算單元，它可以按照如下公式，計(jì)算被測光譜未知帶寬的報(bào)道參數(shù)報(bào)道參數(shù)(“RP”)＝A*(測量參數(shù)(“MP”))+C其中RP和MP是不同類型的參數(shù)，而A和C的數(shù)值則是根據(jù)所述光學(xué)帶寬測量單元中MP對(duì)已知RP數(shù)值的光的響應(yīng)的校準(zhǔn)來確定的。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量單元包含干涉測量的或者色散的光學(xué)儀器。
3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量單元包含標(biāo)準(zhǔn)具。
4.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量單元包含標(biāo)準(zhǔn)具。
5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
6.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
7.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
8.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
10.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
11.如權(quán)利要3所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
12.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
13.一種測量光譜未知帶寬的光譜儀，包括光學(xué)帶寬測量單元，它用來提供作為輸出的測量參數(shù)，其表示被測譜未知帶寬的參數(shù)；報(bào)道參數(shù)計(jì)算單元，它可以按照以下公式，計(jì)算被測譜未知帶寬的報(bào)道參數(shù)(報(bào)道參數(shù)(“RP”)＝A*(測量參數(shù)(“MP”))+C其中RP和MP是不同類型的參數(shù)，而A和C的數(shù)值則是根據(jù)所述光學(xué)帶寬測量單元中的MP對(duì)已知RP數(shù)值的光的響應(yīng)的校準(zhǔn)來確定的。
14.如權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量單元包含干涉測量的或者色散的光學(xué)儀器。
15.如權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量單元包含標(biāo)準(zhǔn)具。
16.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量單元包含標(biāo)準(zhǔn)具。
17.如權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
18.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
19.如權(quán)利要求15所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
20.如權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
21.如權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，而MP是在FWXM處。
22.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
23.如權(quán)利要15所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
24.如權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
25.一種激光控制系統(tǒng)，包括用來測量由激光器發(fā)射的激光的光譜的未知帶寬的光譜儀裝置，它包含光學(xué)帶寬測量裝置，它用來提供作為輸出的測量參數(shù)，其表示被測光譜未知帶寬的參數(shù)；報(bào)道參數(shù)計(jì)算裝置，它可以按照如下公式，計(jì)算被測譜未知帶寬的報(bào)道參數(shù)(報(bào)道參數(shù)(“RP”)＝A*(測量參數(shù)(“MP”))+C其中RP和MP是不同類型的參數(shù)，而A和C的數(shù)值則是根據(jù)所述光學(xué)帶寬測量單元中的MP對(duì)已知RP數(shù)值的光的響應(yīng)來確定的。
26.如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量裝置包含干涉測量的或者色散的光學(xué)儀器。
27.如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量裝置包含標(biāo)準(zhǔn)具。
28.如權(quán)利要求26所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量裝置包含標(biāo)準(zhǔn)具。
29.如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
30.如權(quán)利要求26所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
31.如權(quán)利要求27所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
32.如權(quán)利要求28所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
33.如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
34.如權(quán)利要求26所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
35.如權(quán)利要27所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
36.如權(quán)利要求28所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是位于EX％，而MP是在FWXM處。
37.一種測量光的光譜未知帶寬的光譜儀，包括光學(xué)帶寬測量裝置，它用來提供作為輸出的測量參數(shù)，其表示被測光譜未知帶寬的參數(shù)；報(bào)道參數(shù)計(jì)算裝置，它可以按照以下公式，計(jì)算被測光譜未知帶寬的報(bào)道參數(shù)(報(bào)道參數(shù)(“RP”)＝A*(測量參數(shù)(“MP”))+C其中RP和MP是不同類型的參數(shù)，而A和C的數(shù)值則是根據(jù)光學(xué)帶寬測量單元中的MP對(duì)已知RP數(shù)值的光的響應(yīng)的校準(zhǔn)來確定的。
38.如權(quán)利要求37所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量裝置包含干涉測量的或者色散的光學(xué)儀器。
39.如權(quán)利要求37所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量裝置包含標(biāo)準(zhǔn)具。
40.如權(quán)利要求38所述的設(shè)備，其特征在于，還包括所述光學(xué)帶寬測量單元包含標(biāo)準(zhǔn)具。
41.如權(quán)利要求37所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
42.如權(quán)利要求38所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
43.如權(quán)利要求39所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
44.如權(quán)利要求40所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
45.如權(quán)利要求37所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
46.如權(quán)利要求38所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
47.如權(quán)利要39所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
48.如權(quán)利要求40所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
49.一種控制激光器的方法，包括采用光譜儀裝置來測量由激光器發(fā)射的光的光譜的未知帶寬，通過提供對(duì)測量參數(shù)的測量，該測量產(chǎn)生表示被測光譜未知帶寬的參數(shù)；按照如下公式計(jì)算被測光譜未知帶寬的報(bào)道參數(shù)(報(bào)道參數(shù)(“RP”)＝A*(測量參數(shù)(“MP”))+C其中RP和MP是不同類型的參數(shù)，而A和C的數(shù)值則是根據(jù)光學(xué)帶寬測量單元中的MP對(duì)已知RP數(shù)值的光的響應(yīng)來確定的。
50.如權(quán)利要求49所述的方法，其特征在于，還包括采用用于測量光學(xué)帶寬的干涉測量的或者色散的光學(xué)儀器。
51.如權(quán)利要求49所述的方法，其特征在于，還包括采用用于測量光學(xué)帶寬的標(biāo)準(zhǔn)具。
52.如權(quán)利要求50所述的方法，其特征在于，還包括采用用于測量光學(xué)帶寬的標(biāo)準(zhǔn)具。
53.如權(quán)利要求49所述的方法，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
54.如權(quán)利要求50所述的方法，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
55.如權(quán)利要求51所述的方法，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
56.如權(quán)利要求52所述的方法，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
57.如權(quán)利要求49所述的方法，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
58.如權(quán)利要求50所述的方法，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
59.如權(quán)利要51所述的方法，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
60.如權(quán)利要求52所述的方法，其特征在于，還包括RP是位于EX％，且MP是在FWXM處。
61.一種測量光的光譜未知帶寬的方法，包括采用光學(xué)帶寬測量裝置以提供作為輸出的測量參數(shù)，其表示被測光譜未知帶寬的參數(shù)；按照如下公式，計(jì)算被測光譜未知帶寬的報(bào)道參數(shù)(報(bào)道參數(shù)(“RP”)＝A*(測量參數(shù)(“MP”))+C其中RP和MP是不同類型的參數(shù)，而A和C的數(shù)值則是根據(jù)光學(xué)帶寬測量單元中的MP對(duì)已知RP數(shù)值的光的響應(yīng)來確定的。
62.如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于，還包括采用干涉測量的或者色散的光學(xué)儀器以提供光學(xué)帶寬測量。
63.如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于，還包括用標(biāo)準(zhǔn)具以提供光學(xué)帶寬測量。
64.如權(quán)利要求62所述的方法，其特征在于，還包括采用標(biāo)準(zhǔn)具以提供光學(xué)帶寬測量。
65.如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
66.如權(quán)利要求62所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
67.如權(quán)利要求63所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
68.如權(quán)利要求64所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在FWXM處，且MP是在FWX’M處，其中X≠X’。
69.如權(quán)利要求61所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
70.如權(quán)利要求62所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
71.如權(quán)利要63所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
72.如權(quán)利要求64所述的設(shè)備，其特征在于，還包括RP是在EX％處，且MP是在FWXM處。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種控制激光器系統(tǒng)的設(shè)備和方法，它可以包括用來測量由激光器發(fā)射的激光的光譜未知寬度的光譜儀，該光譜儀可包含光學(xué)帶寬測量單元，用于提供作為輸出的測量參數(shù)，其表示被測光譜未知帶寬的參數(shù)；報(bào)道參數(shù)計(jì)算單元，按照下面的公式來計(jì)算被測光譜未知帶寬的報(bào)道參數(shù)報(bào)道參數(shù)(“RP”)＝A*(測量參數(shù)(“MP”))+C，其中RP和MP是不同類型的參數(shù)，而A和C的數(shù)值則是根據(jù)光學(xué)帶寬測量單元中MP對(duì)已知RP數(shù)值的光的響應(yīng)的校準(zhǔn)來確定的。光學(xué)帶寬測量單元可以包含諸如標(biāo)準(zhǔn)具的干涉測量的或者色散的光學(xué)儀器。RP可以是在，譬如說FWXM處，而MP可以在FWX’M處，其中X≠X’。RP可以是在，譬如說EX％處，而MP可以是例如在FWXM處。
文檔編號(hào)G01J1/42GK1813167SQ200480018076
公開日2006年8月2日 申請(qǐng)日期2004年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月26日
發(fā)明者R·J·拉法克 申請(qǐng)人:西默股份有限公司