專(zhuān)利名稱(chēng)：用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的電極盒和系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及帶有應(yīng)變計(jì)(strain gauge)的用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的電極盒(electrode cartridge)，以及用于利用該電極盒來(lái)執(zhí)行測(cè)量的系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，鍍敷已被廣泛地應(yīng)用于金屬表面。被施加鍍敷的對(duì)象物的尺寸越小，對(duì)更薄的鍍敷膜及其性能的要求就越高。尤其是在半導(dǎo)體領(lǐng)域中，已經(jīng)到了要求將鍍敷的厚度和寬度控制為小到幾個(gè)納米的地步。
必需最優(yōu)化電鍍品淀積的條件(例如鍍敷液的成分、電流密度、攪拌速度以及鍍敷液的溫度)以恒定地獲得最好的鍍敷膜。在通常公知的鍍敷方法中有時(shí)會(huì)發(fā)生這樣的情況即使在鍍敷開(kāi)始時(shí)建立了最優(yōu)化條件，鍍敷膜的特性也會(huì)隨著鍍敷液的成分逐漸地偏離其原始成分而發(fā)生漂移。這導(dǎo)致必須通過(guò)連續(xù)地監(jiān)測(cè)鍍敷槽來(lái)對(duì)狀態(tài)進(jìn)行控制，以使得可以保持鍍敷膜的穩(wěn)定特性。對(duì)鍍敷槽狀態(tài)進(jìn)行監(jiān)測(cè)的一個(gè)示例是測(cè)量鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力(以下如有必要?jiǎng)t簡(jiǎn)稱(chēng)為“內(nèi)鍍敷應(yīng)力”)。用于測(cè)量鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力的常規(guī)裝置包括使用螺旋應(yīng)力計(jì)(spiral stress meter)的裝置。下面對(duì)該裝置(以下如有必要?jiǎng)t稱(chēng)為“螺旋鍍敷應(yīng)力計(jì)”)進(jìn)行描述。
如圖7所示，螺旋鍍敷應(yīng)力計(jì)50保持有一測(cè)試樣品51，測(cè)試樣品51是環(huán)繞帶有夾具(clamp)53的支承軸52和帶有夾具54的轉(zhuǎn)動(dòng)軸57的螺旋形成構(gòu)件。測(cè)試樣品51的內(nèi)表面(背面)涂敷有熒光樹(shù)脂，以使得鍍敷膜只形成在其外表面上(正面)上。支承軸52是具有中空部分的圓筒形構(gòu)件。夾具53連接到支承軸52的下端部，保持測(cè)試樣品51的上端部。轉(zhuǎn)動(dòng)軸57是細(xì)長(zhǎng)的桿，其可轉(zhuǎn)動(dòng)地貫穿支承軸52的中空部分。轉(zhuǎn)動(dòng)軸57的上端部連接到轉(zhuǎn)換器(transducer)56的指針，并且其下端部連接到夾具54。這樣，測(cè)試樣品51的轉(zhuǎn)矩被傳送到轉(zhuǎn)動(dòng)軸57，該轉(zhuǎn)動(dòng)軸57引起轉(zhuǎn)換器56的指針的轉(zhuǎn)動(dòng)。
當(dāng)把螺旋鍍敷應(yīng)力計(jì)50置于充有鍍敷液的槽中，并通過(guò)電源(未示出)在應(yīng)力計(jì)50與陽(yáng)極板之間提供電流時(shí)，測(cè)試樣品51的正面被鍍敷，從而在測(cè)試樣品51中產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力并由此引起轉(zhuǎn)動(dòng)軸57的轉(zhuǎn)動(dòng)。轉(zhuǎn)換器56將該轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)換為扭轉(zhuǎn)角(α)，從而應(yīng)力計(jì)50測(cè)量到內(nèi)鍍敷應(yīng)力(σ)，所述內(nèi)鍍敷應(yīng)力可以由公式(1)來(lái)計(jì)算σ＝(2k/pt)×(α/d) (1)其中k為螺旋常數(shù)(spiral constant)(mm·N/deg)，p為螺距(pitchof spiral)(mm)，t為螺旋板的厚度(mm)，α為扭轉(zhuǎn)角(deg)，d為鍍敷的厚度(mm)。
盡管螺旋鍍敷應(yīng)力計(jì)50能夠以相對(duì)高的精度來(lái)測(cè)量鍍敷的內(nèi)應(yīng)力，但是難以將應(yīng)力計(jì)50用于測(cè)量微小的應(yīng)力，這是因?yàn)楸匦栌萌庋蹃?lái)讀取轉(zhuǎn)換器56的指針。而且，當(dāng)負(fù)責(zé)人以預(yù)定的時(shí)間間隔來(lái)讀取指針以監(jiān)測(cè)螺旋鍍敷應(yīng)力計(jì)50能夠?qū)崟r(shí)提供的內(nèi)應(yīng)力變化時(shí)，對(duì)他是沉重的負(fù)擔(dān)。此外，由于轉(zhuǎn)換器56的指針是人用肉眼讀取的，所以存在另一問(wèn)題將產(chǎn)生由讀取引起的誤差。
由于在螺旋鍍敷應(yīng)力計(jì)50中是用肉眼來(lái)對(duì)轉(zhuǎn)換器56的指針進(jìn)行讀取的，所以該指針必需位移至使肉眼能夠看到該位移的程度。測(cè)試樣品5 1的剛性越小，就使得轉(zhuǎn)換器56的指針的轉(zhuǎn)動(dòng)位移越大。因此，測(cè)試樣品51越薄，理論上來(lái)說(shuō)就可以測(cè)量到越小的應(yīng)力。然而，存在這樣的問(wèn)題如果降低測(cè)試樣品51的剛性(減小測(cè)試樣品51的厚度)，就不可能精確地測(cè)量鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。這歸因于以下事實(shí)測(cè)試樣品51的形變減小了鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力，從而給出誤導(dǎo)的較小值。換句話說(shuō)，螺旋鍍敷應(yīng)力計(jì)50在測(cè)量鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力的精度方面存在局限性。
另一方面，已利用應(yīng)變計(jì)的原理對(duì)用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的另一方法進(jìn)行了研究，在以下非專(zhuān)利文獻(xiàn)中對(duì)該方法進(jìn)行了報(bào)導(dǎo)Yutaka Tsuru etal.，Development of the Measuring System for Mean Internal Stress in NickelFilm Plated on Copper Substance，page 780-784 DENKI KAGAKU Vol.60No.9，September 1992。
該方法使用了接合到陰極板的背面的應(yīng)變計(jì)。該應(yīng)變計(jì)測(cè)量由鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力引起的陰極板的扭曲(distortion)(微小形變)進(jìn)行測(cè)量。這樣，該方法基于該扭曲來(lái)計(jì)算內(nèi)應(yīng)力。
圖8是示出根據(jù)使用應(yīng)變計(jì)來(lái)測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的常規(guī)裝置的鍍敷槽內(nèi)的電壓分布的剖面圖。用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的常規(guī)裝置60包括鍍敷槽61、陰極板C、陽(yáng)極板A以及屏蔽板62。鍍敷槽61充有鍍敷液。陰極板C和陽(yáng)極板A被布置為使這兩塊板以預(yù)定的間隔相互面對(duì)。具有預(yù)定尺寸的通孔62a的屏蔽板62插在陰極板C與陽(yáng)極板A之間。應(yīng)變計(jì)HG接合到陰極板C的鍍敷部分的背面。
使用裝置60來(lái)精確測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力要求鍍敷膜的厚度均勻，該鍍敷膜形成在作為待鍍敷對(duì)象的陰極板C上。因此，如圖8所示，使裝置60適于提供與陰極板C平行的等勢(shì)線。這是通過(guò)不僅布置具有通孔62a的屏蔽板62、而且對(duì)陰極板C與屏蔽板62之間的間隔以及屏蔽板62與陽(yáng)極板A之間的間隔適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行調(diào)節(jié)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。這樣，就恰當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)了槽內(nèi)的電壓分布，從而可以形成均勻的鍍敷膜厚度。
這里列出本申請(qǐng)人提交的日本公布專(zhuān)利申請(qǐng)2000-002598作為參考，其公開(kāi)了一種用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的裝置。
然而，為了獲得均勻的鍍敷膜厚度，曾需要調(diào)節(jié)(1)陰極板C與屏蔽板62之間的間隔以及陽(yáng)極板A與屏蔽板62之間的間隔；(2)通孔62a與陰極板C之間的寬度比；以及(3)通孔62a與陰極板C的鍍敷部分之間的高度方向上的幾何關(guān)系。當(dāng)手動(dòng)地進(jìn)行調(diào)節(jié)時(shí)，有時(shí)需要花費(fèi)大量時(shí)間，或者有時(shí)由于不恰當(dāng)?shù)恼{(diào)節(jié)而不可能獲得均勻的鍍敷膜厚度。這在對(duì)非常薄的鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力進(jìn)行測(cè)量時(shí)更經(jīng)常地發(fā)生。
即使成功地執(zhí)行了如(1)到(3)的調(diào)節(jié)，有時(shí)也發(fā)生由于陽(yáng)極板A在持續(xù)鍍敷過(guò)程中的溶解而使得其寬度變化的情況。這導(dǎo)致等勢(shì)線的變化，從而打亂它們相對(duì)于陰極板C的平行性。這樣，存在如下問(wèn)題無(wú)法獲得均勻的鍍敷膜厚度并且相應(yīng)地?zé)o法準(zhǔn)確地測(cè)量?jī)?nèi)應(yīng)力。
當(dāng)將電源連接到陰極板C和陽(yáng)極板A以提供電流時(shí)，氫離子(H+)聚集在陰極板C的表面上，在鍍敷膜上形成凹陷(凹口)。如果產(chǎn)生了大量凹陷，就不可能準(zhǔn)確地測(cè)量鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。為解決此問(wèn)題，有必要制備用于去除聚集在鍍敷膜上的氫離子的裝置。用于去除氫離子的方法包括一種為陰極板C提供振動(dòng)的方法；以及另一種通過(guò)向陰極板C噴射氣泡來(lái)吹除氫離子的方法。然而，使用振動(dòng)的方法對(duì)應(yīng)變計(jì)的測(cè)量具有產(chǎn)生噪聲的不利影響。另一方面，使用氣泡的方法有時(shí)由于注入氣泡的位置變化而影響了鍍敷膜的狀態(tài)。這樣，當(dāng)對(duì)陰極板C與注入孔之間的幾何關(guān)系進(jìn)行手動(dòng)調(diào)節(jié)時(shí)，由于幾何關(guān)系的細(xì)微偏差而使得難以保證鍍敷膜的可重復(fù)性，這將導(dǎo)致對(duì)鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力進(jìn)行測(cè)量的精度劣化。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明致力于解決上述缺點(diǎn)，并且致力于不僅提供一種能夠使用應(yīng)變計(jì)對(duì)鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力執(zhí)行準(zhǔn)確且容易的測(cè)量的電極盒，而且提供一種帶有該電極盒的鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)。
本發(fā)明的一方面是提供一種用于測(cè)量鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力的電極盒。該電極盒包括陰極支承部、陽(yáng)極支承部、屏蔽板以及陽(yáng)極殼(shell)。所述陰極支承部將陰極板支承在鍍敷液中，而該陰極板具有一鍍敷部分，該鍍敷部分的背面接合有應(yīng)變計(jì)。陽(yáng)極支承部將陽(yáng)極板支承在鍍敷液中，使得陽(yáng)極板以預(yù)定間隔與陰極板相對(duì)。屏蔽板插在陰極板與陽(yáng)極板之間。陽(yáng)極殼在鍍敷液中包圍陽(yáng)極板的周部和端部。在屏蔽板中以這樣的方式形成通孔即，使該通孔面對(duì)所述鍍敷部分并具有相對(duì)于所述鍍敷部分的幾何形狀以第一預(yù)定比例系數(shù)縮小的幾何形狀。在陽(yáng)極殼中以這樣的方式形成開(kāi)口即，使該開(kāi)口面對(duì)所述鍍敷部分并具有相對(duì)于所述鍍敷部分的幾何形狀以第二預(yù)定比例系數(shù)放大的幾何形狀。
上述電極盒使得可以實(shí)現(xiàn)這樣的布置即，陰極板和陽(yáng)極板不但以預(yù)定的間隔相互面對(duì)，而且具有由上述通孔和開(kāi)口給出的預(yù)定尺寸關(guān)系。這種布置不僅免除了對(duì)陰極板和陽(yáng)極板的布置的細(xì)調(diào)，而且免除了對(duì)它們之間的間隔的細(xì)調(diào)，從而提供了對(duì)鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力更容易的測(cè)量。
此外，盡管陽(yáng)極板的寬度因溶解而發(fā)生變化，上述電極盒仍然能夠保持陽(yáng)極殼的開(kāi)口的恒定寬度(尺寸)，從而保持鍍敷液內(nèi)的電壓分布以使其在陰極板的附近平行于所述陰極板。換句話說(shuō)，可以對(duì)鍍敷膜獲得均勻厚度而不受由于陽(yáng)極板的溶解而導(dǎo)致的不利影響。因此，可以準(zhǔn)確并容易地測(cè)量鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。優(yōu)選地而非必要地，將陽(yáng)極板的寬度調(diào)節(jié)為大于開(kāi)口的寬度，以使得即使陽(yáng)極板的寬度由于溶解而減小，陽(yáng)極板也完全占據(jù)開(kāi)口的寬度。
關(guān)于這一點(diǎn)，優(yōu)選地而非必要地，將電極盒的屏蔽板的通孔的寬度和高度分別調(diào)節(jié)為所述鍍敷部分的寬度和高度的0.4到0.8倍。此外，優(yōu)選地而非必要地，將陽(yáng)極殼的開(kāi)口的寬度和高度調(diào)節(jié)為所述鍍敷部分的寬度和高度的1.1到1.3倍。選擇這些尺寸能夠防止鍍敷膜的厚度在所述鍍敷部分的邊緣附近比其它區(qū)域更厚。
本發(fā)明的另一方面是提供一種還包括氣泡提供裝置的電極盒。該氣泡提供裝置從陰極支承部延伸到與陰極板的下端相對(duì)的部分，并從該部分注射氣泡。
上述電極盒避免了對(duì)陰極板與氣泡之間的相對(duì)位置的調(diào)節(jié)，能夠保持穩(wěn)定地向陰極板噴射氣泡。因?yàn)闊o(wú)需調(diào)節(jié)就可以防止形成凹陷，保證了鍍敷膜的可重復(fù)性，所以可以準(zhǔn)確并容易地測(cè)量鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。
本發(fā)明的又一方面是提供一種帶有電極盒的鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)，其包括鍍敷槽、電源、測(cè)量裝置以及計(jì)算機(jī)。鍍敷槽貯存有鍍敷液，支承陰極板和陽(yáng)極板的電極盒浸入所述鍍敷液中。電源電連接到陰極板和陽(yáng)極板。所述測(cè)量裝置電連接到接合于陰極板的應(yīng)變計(jì)。計(jì)算機(jī)根據(jù)測(cè)量裝置獲得的結(jié)果以及陰極板和鍍敷膜的特性，來(lái)計(jì)算鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。
配備有所述電極盒的上述系統(tǒng)能夠提供對(duì)鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的準(zhǔn)確且容易的測(cè)量。這歸因于以下事實(shí)只有將電極置于所述電極盒中，才可以無(wú)需對(duì)電極和屏蔽板進(jìn)行煩瑣的定位就形成均勻的鍍敷膜厚度。這樣，所述系統(tǒng)提供了對(duì)鍍敷內(nèi)應(yīng)力的準(zhǔn)確且容易的測(cè)量。
此外，與其刻度由肉眼讀取的螺旋鍍敷應(yīng)力計(jì)相比，帶有計(jì)算機(jī)的所述系統(tǒng)能夠測(cè)量?jī)?nèi)應(yīng)力的更細(xì)微的變化。由于應(yīng)變計(jì)發(fā)送的信號(hào)被電并入到測(cè)量裝置中，所以所述系統(tǒng)能夠以電子數(shù)據(jù)的形式獲得內(nèi)應(yīng)力的變化。此外，由于所述系統(tǒng)解決了人工讀數(shù)誤差，所以其能夠提供對(duì)鍍敷內(nèi)應(yīng)力的更準(zhǔn)確且更容易的測(cè)量。
關(guān)于這一點(diǎn)，所述電源除了包括直流電源，例如還包括脈沖電源和交流電源。例如，計(jì)算機(jī)可以利用公式(2)來(lái)計(jì)算鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。所述計(jì)算機(jī)包括商用個(gè)人計(jì)算機(jī)等。
σ＝Et2δ/[3(1-ν)dl2] (2)其中σ為鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力，l為陰極板的鍍敷部分的長(zhǎng)度，t為陰極板的厚度，E為陰極板的楊氏模量，ν為陰極板的泊松比，δ為陰極板的撓曲(deflection)，d為鍍敷膜的厚度。
所述電極盒和所述系統(tǒng)使用用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的應(yīng)變計(jì)來(lái)提供準(zhǔn)確且容易的測(cè)量。這樣，如果基于所述系統(tǒng)測(cè)量到的結(jié)果來(lái)調(diào)節(jié)鍍敷條件，就可以恒定地獲得最佳鍍敷膜。
由于應(yīng)變計(jì)能夠測(cè)量陰極板的微小變形，所以可以準(zhǔn)確且容易地測(cè)量被形成得薄到足以用于所謂納米技術(shù)的鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。


圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的系統(tǒng)的立體圖。
圖2是示出鍍敷槽和安裝有陰極板和陽(yáng)極板的電極盒的立體圖。
圖3是示出電極盒的六個(gè)視圖(俯視圖、正視圖、右側(cè)視圖、左側(cè)視圖、背視圖以及仰視圖)。
圖4A-4C分別是沿圖3的俯視圖中的線A-A、B-B以及C-C所截取的剖視圖。
圖5是從線D-D所看到的立體圖。
圖6是示出陰極板的鍍敷部分、屏蔽板的通孔以及陽(yáng)極殼的開(kāi)口之間的幾何關(guān)系的示意圖。
圖7是示出常規(guī)螺旋鍍敷應(yīng)力計(jì)的立體圖。
圖8是示出根據(jù)使用應(yīng)變計(jì)來(lái)測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的常規(guī)裝置的鍍敷槽內(nèi)的電壓分布的剖視圖。
具體實(shí)施例方式
下面參照附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行描述。當(dāng)相同單元出現(xiàn)在不同的圖中時(shí)，在這些圖中一致地使用相同的符號(hào)。在對(duì)單元進(jìn)行一次描述之后，不再進(jìn)行重復(fù)。
a.用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)描述如圖1中所示，用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的系統(tǒng)100包括電極盒10、鍍敷槽20、測(cè)量裝置30以及筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40。電極盒10配備有陰極板C和陽(yáng)極板A。鍍敷槽20貯存有鍍敷液。測(cè)量裝置30電連接到應(yīng)變計(jì)HG，應(yīng)變計(jì)HG接合到陰極板C。筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40根據(jù)測(cè)量裝置30測(cè)量到的結(jié)果來(lái)計(jì)算鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。關(guān)于這一點(diǎn)，假定測(cè)量裝置30具有直流電源以提供鍍敷所需電力。
電極盒10將陰極板C和陽(yáng)極板A支承在鍍敷液中。電極盒10浸入充在鍍敷槽20的蓄池部分22中的鍍敷液，后面將描述鍍敷槽20。陰極板C和陽(yáng)極板A的下端部相應(yīng)地浸入鍍敷液中。電極盒10由從電極盒10的側(cè)面延伸的凸緣支承在蓄池部分22的上表面22a上。這樣，陰極板C和陽(yáng)極板A的上端部暴露在鍍敷液上方。后面將參照?qǐng)D2給出對(duì)電極盒10的結(jié)構(gòu)的詳細(xì)描述。
電纜E電連接到陰極板C和陽(yáng)極板A的上端部，以向這些板C和A供電。應(yīng)變計(jì)HG接合到陰極板C(參見(jiàn)圖2)并電連接到測(cè)量裝置30。后面將參照?qǐng)D2給出對(duì)陰極板C和陽(yáng)極板A的結(jié)構(gòu)的詳細(xì)描述。
其中安裝有電極盒10的鍍敷槽20用作用于貯存鍍敷液的槽。鍍敷槽20包括基座21和蓄池部分22?；?1是用于支承蓄池部分22的基部結(jié)構(gòu)。蓄池部分22是具有上開(kāi)口的長(zhǎng)方體。蓄池部分22的中空部分22b充有鍍敷液(未示出)。
優(yōu)選地但不是必需地，電極盒10和鍍敷槽20由不易受到鍍敷液所引起的腐蝕的玻璃或塑性材料(如壓克力(acryl)、聚丙烯和氟樹(shù)脂)制成。
測(cè)量裝置30基于接合到陰極板C的應(yīng)變計(jì)HG(見(jiàn)圖2)的電阻(電壓信號(hào))的變化來(lái)測(cè)量陰極板C的扭曲。配備有包括應(yīng)變計(jì)HG的等效電路(惠斯通電橋)的測(cè)量裝置30例如能夠基于應(yīng)變計(jì)HG的電阻變化來(lái)測(cè)量陰極板C的扭曲。此外，測(cè)量裝置30能夠經(jīng)由連接纜線K向筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40發(fā)送所測(cè)量到的扭曲的信號(hào)。
由于具有直流電源，所以測(cè)量裝置30能夠向包括陰極板C和陽(yáng)極板A的電路提供電流。所提供的電流及其時(shí)間段被發(fā)送給個(gè)人計(jì)算機(jī)40，在個(gè)人計(jì)算機(jī)40處，利用所述電流及其時(shí)間段來(lái)計(jì)算鍍敷膜的厚度等?？梢愿鶕?jù)預(yù)先確定的供電電流和時(shí)間段來(lái)控制測(cè)量裝置30的直流電源，以使得要形成的鍍敷膜的厚度符合預(yù)定值。在此情況下，可以預(yù)先在個(gè)人計(jì)算機(jī)40中輸入電流和時(shí)間段。
筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40根據(jù)測(cè)量裝置30測(cè)量到的陰極板C的扭曲來(lái)計(jì)算內(nèi)應(yīng)力。經(jīng)由連接纜線K電連接到測(cè)量裝置30的筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40能夠接收測(cè)量裝置30測(cè)量到的數(shù)據(jù)。筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40根據(jù)應(yīng)變計(jì)HG的測(cè)量結(jié)果(扭曲)、陰極板C(鍍敷部分CP)的特征值(厚度、長(zhǎng)度、楊氏模量、泊松比等)、以及鍍敷膜的特征值(厚度)，使用上述公式(2)來(lái)計(jì)算鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。內(nèi)應(yīng)力σ以曲線圖的形式示于顯示器上，這有助于測(cè)量人員更好地了解鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。
關(guān)于這一點(diǎn)，另選地，筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40可以利用預(yù)先實(shí)驗(yàn)獲得的扭曲(ε)與撓曲(δ)之間的關(guān)系，根據(jù)測(cè)量裝置30測(cè)量到的扭曲來(lái)計(jì)算撓曲。
b.電極盒的結(jié)構(gòu)參照?qǐng)D2至6，對(duì)電極盒10的結(jié)構(gòu)進(jìn)行描述。
如圖2至6中所示，電極盒10包括陰極支承部11、陽(yáng)極支承部12、屏蔽板13、陽(yáng)極殼14(見(jiàn)圖5)、氣泡提供裝置15、以及連接這些部件11至15的連接部分16。
陰極支承部11包括主體部分11a、凸緣11b和11c、陰極插槽11d以及螺栓11e。當(dāng)電極盒10浸入鍍敷液中時(shí)，陰極支承部11支承插入陰極插槽11d中的陰極板C。
作為類(lèi)似于長(zhǎng)方體的構(gòu)件的主體部分11a具有從其兩個(gè)縱向端側(cè)向延伸的凸緣11b和11c。當(dāng)電極盒10浸入鍍敷槽20中時(shí)，凸緣11b和11c置于蓄池部分22的上端部22a上以支承電極盒10(主體部分11a)。
在主體部分11a的中間鉆有陰極插槽11d，陰極板C穿過(guò)陰極插槽11d而被插入(見(jiàn)圖4A)。主體部分11a具有螺栓11e，螺栓11e用于調(diào)節(jié)和保持陰極板C的垂直位置。
利用凸緣11b和11c，帶有插入陰極插槽11d中的陰極板C(其由螺栓11e來(lái)固定)的陰極支承部11置于鍍敷槽20的上端部22a上。這樣，可以將主體部分11a安裝在蓄池部分22的中空部分22b中。主體部分11a以這樣的方式來(lái)支承陰極板C，即，使得陰極板C的下部浸入鍍敷液中同時(shí)其上部處于鍍敷液的液面上方。
對(duì)陰極支承部11支承的陰極板C進(jìn)行描述。
陰極板C被形成為由導(dǎo)電材料制成的細(xì)長(zhǎng)板(矩形片)，用作待鍍敷對(duì)象物。在陰極板C的一個(gè)端部處形成有待鍍敷的鍍敷部分CP，鍍敷膜被淀積在所述鍍敷部分CP上。例如，通過(guò)向陰極板C除了鍍敷部分CP之外的部分施加絕緣敷層來(lái)形成鍍敷部分CP。在鍍敷部分CP的背面上接合有用于測(cè)量陰極板C的扭曲的應(yīng)變計(jì)HG。陰極板C安裝在陰極插槽11d中，同時(shí)使其鍍敷部分CP朝下。由螺栓11e來(lái)調(diào)節(jié)陰極板C的位置，以將鍍敷部分CP垂直定位成面對(duì)屏蔽板13的通孔13a。關(guān)于這一點(diǎn)，另選地，可以在陰極板C的上部配備凸部從而消除垂直調(diào)節(jié)。優(yōu)選地而非必要地，該凸部被形成為使得在該凸部接觸到主體部分11a的上表面時(shí)，鍍敷部分CP的中心與通孔13a的中心和陽(yáng)極殼14的開(kāi)口14a的中心二者都重合。自屬于測(cè)量裝置30的直流電源引出的纜線E連接到陰極板C的另一端部。
盡管在本發(fā)明中不限制陰極板C的厚度(t)，但是優(yōu)選地而非必要地，示例值可以在0.6mm的量級(jí)。類(lèi)似地，鍍敷部分CP的長(zhǎng)度(l)的示例值優(yōu)選而非必要地可以在25mm的量級(jí)。用于陰極板C的許多金屬所固有的楊氏模量(E)和泊松比(ν)可以通過(guò)測(cè)試和所述許多金屬所附的鑒定而獲得。
陽(yáng)極支承部12包括主體部分12a、凸緣12b和12c以及陽(yáng)極插槽12d。陽(yáng)極支承部12將插入陽(yáng)極插槽12d中的陽(yáng)極板A支承在鍍敷液中。除了陽(yáng)極支承部12不具有螺栓11e的對(duì)應(yīng)物外，陽(yáng)極支承部12在結(jié)構(gòu)上類(lèi)似于陰極支承部11。
陽(yáng)極支承部12的主體部分12a是形狀像長(zhǎng)方體的構(gòu)件，其經(jīng)由連接部分16(16a和16b)(見(jiàn)圖3)以預(yù)定的間隔機(jī)械連接(固定)到陰極支承部11的主體部分11a。該間隔被調(diào)節(jié)得使鍍敷膜的厚度均勻。從主體部分12a的兩個(gè)端部延伸的凸緣12b和12c置于鍍敷槽22的上端部22a上。陽(yáng)極插槽12d沿垂直方向穿過(guò)主體部分12a，并面對(duì)陰極插槽11d。當(dāng)陽(yáng)極板A被插入陽(yáng)極插槽12d中時(shí)，它將面對(duì)陰極板C。
下面對(duì)陽(yáng)極支承部12支承的陽(yáng)極板A進(jìn)行描述。
陽(yáng)極板A是由導(dǎo)電材料制成的細(xì)長(zhǎng)板形的電極，該導(dǎo)電材料通常與溶解在鍍敷液中的材料相同。例如，在鍍鎳的情況下，使用屬于鎳族的材料。如果陽(yáng)極板A不可溶解，則可以選擇與鍍敷液不同的材料。陽(yáng)極板A受到垂直支承，同時(shí)與形成在陽(yáng)極插槽12d之下的陽(yáng)極殼14(見(jiàn)圖5)相接觸。
屏蔽板13是板狀構(gòu)件且位于陰極板C與陽(yáng)極板A之間，其在預(yù)定位置處具有通孔13a(見(jiàn)圖4A)，通孔13a在幾何上與陰極板C的鍍敷部分CP相似。具有通孔13a的屏蔽板13調(diào)節(jié)鍍敷液內(nèi)的電壓分布以使其與陰極板C平行。屏蔽板13連接到連接部分16c和16d的側(cè)面。連接部分16c和16d的兩個(gè)下端部通過(guò)連接部分16g相連接。屏蔽板13的垂直長(zhǎng)度被調(diào)節(jié)為等于從陰極支承部11的主體部分11a的下表面到連接部分16g的上表面的長(zhǎng)度。這樣，由連接部分16c、16d和16g以及主體部分11a所包圍的包封部(envelope)除了通孔13a之外相對(duì)于陽(yáng)極板A受到屏蔽。當(dāng)鍍敷液的液面低于屏蔽板13的上端時(shí)，可以不必要求屏蔽板13的上端與主體部分11a的下表面相接觸。
如圖5所示，陽(yáng)極殼14是帶有包圍陽(yáng)極板A及其下端部的底基部的管構(gòu)件，其從陽(yáng)極支承部12的主體部分12a的下表面延伸。陽(yáng)極殼14的中空部分14b與形成在主體部分12a中的陽(yáng)極插槽12d相通，其能夠包圍通過(guò)陽(yáng)極插槽12d的上開(kāi)口而插入的陽(yáng)極板A。在陽(yáng)極殼14的面對(duì)陰極板C的側(cè)面上，陽(yáng)極殼14具有開(kāi)口14a，該開(kāi)口14a在幾何上與陰極C的鍍敷部分CP(例如，在本實(shí)施例中為矩形)相似并與中空部分14b相通。開(kāi)口14a被形成為面對(duì)屏蔽板13的通孔13a(它們的圖的中心重合)。
參照?qǐng)D6，對(duì)陰極板C的鍍敷部分CP、屏蔽板13的通孔13a、以及陽(yáng)極殼14的開(kāi)口14a之間的關(guān)系進(jìn)行描述。
圖6是以重疊方式示出鍍敷部分CP、通孔13a以及開(kāi)口14a的正視圖。
如圖6所示，如從電極盒10的正面所看到的，鍍敷部分CP、通孔13a以及開(kāi)口14a被布置為使得它們的圖的中心相互重合。
以預(yù)定的縮小比例將屏蔽板13的通孔13a調(diào)節(jié)為與鍍敷部分CP的幾何形狀相似。關(guān)于這一點(diǎn)，優(yōu)選而非必要地，將通孔13a的寬度和高度調(diào)節(jié)為鍍敷部分CP的寬度和高度的0.4到0.8倍。例如，假定縮小比例為0.7，則通孔13a的寬度和高度為a2＝0.7×a1b2＝0.7×b1其中，a1為鍍敷部分CP的縱向長(zhǎng)度(高度)，b1為鍍敷部分CP的橫向長(zhǎng)度(寬度)，a2為通孔13a的縱向長(zhǎng)度(高度)，b2為通孔13a的橫向長(zhǎng)度(寬度)(見(jiàn)圖6)。
以預(yù)定的放大比例將陽(yáng)極殼14的開(kāi)口14a調(diào)節(jié)為與鍍敷部分CP的幾何形狀相似。關(guān)于這一點(diǎn)，優(yōu)選而非必要地，將開(kāi)口14a的寬度和高度調(diào)節(jié)為鍍敷部分CP的寬度和高度的1.1到1.3倍。例如，假定放大比例為1.2，則開(kāi)口14a的寬度和高度為a3＝1.2×a1b3＝1.2×b1其中，a3為開(kāi)口14a的縱向長(zhǎng)度(高度)，b3為開(kāi)口14a的橫向長(zhǎng)度(寬度)(見(jiàn)圖6)。
只有將陰極板C安裝在電極盒10中時(shí)，按上述比例應(yīng)用于鍍敷部分CP、通孔13a和開(kāi)口14a的預(yù)先布置才使得可以容易地獲得均勻的鍍敷膜厚度。
氣泡提供裝置15用于從與陰極板C的下端相對(duì)的位置處注射氣泡，其包括管連接口15a、供氣道15b以及注射孔15c。
如圖2中所示，管連接口15a是圓筒形構(gòu)件，其從陰極支承部11的主體部分11a的上表面凸起。管連接口15a提供與來(lái)自氣泵(未示出)的管(未示出)的連接。供氣道15b從管連接口15a的中空部分經(jīng)由主體部分11a和連接部分16c延伸到連接部分16g，氣泵通過(guò)供氣道15b向陰極板C的下端部提供空氣。注射孔15c從供氣道15b延伸并穿過(guò)連接部分16g，所述連接部分16g面對(duì)陰極板C的下端部。這樣，注射孔15c能夠向陰極板C注射氣泡。
當(dāng)通過(guò)注射孔15c注射的氣泡碰撞鍍敷部分CP時(shí)，它們將攜帶聚集在鍍敷膜表面上的氫離子。這防止了氫離子聚集在鍍敷膜的表面上，從而避免了凹陷的產(chǎn)生。由于注射孔15c的位置是固定的，所以無(wú)需擔(dān)心陰極板C與注射孔15c之間的相對(duì)位置變化，這將改進(jìn)鍍敷膜的可重復(fù)性。
如圖2中所示，連接部分16是用于連接和固定部件的組合以將它們以預(yù)定方式布置并間隔開(kāi)的構(gòu)件。所述組合包括由陰極支承部11與陽(yáng)極支承部12構(gòu)成的一個(gè)組合；由陰極支承部11與屏蔽板13構(gòu)成的一個(gè)組合；以及陽(yáng)極支承部12與屏蔽板13構(gòu)成的另一個(gè)組合。只要用于緊固件和粘合劑的材料不溶于鍍敷液，就可以選用任何類(lèi)型的連接，如粘合、配合(mating)以及使用螺栓固定。
連接部分16a和16b以預(yù)定間隔連接陰極支承部11與陽(yáng)極支承部12，從而在陰極板C與陽(yáng)極板A之間提供理想間隔。關(guān)于這一點(diǎn)，如果將陰極支承部11和陽(yáng)極支承部12整體地形成為一個(gè)構(gòu)件(這與其中這兩個(gè)支承部11和12是分立的本實(shí)施例不同)，則可以無(wú)需連接部分16a和16b。在前一情況下，對(duì)插槽11d和12d的位置進(jìn)行調(diào)節(jié)以獲得陰極板C與陽(yáng)極板A之間的理想間隔。
連接部分16c和16d從主體部分11a的下表面向下延伸，以支承屏蔽板13。連接部分16c和16d的下端通過(guò)連接部分16g彼此相連接。在本實(shí)施例中，供氣道15b和注射孔15c形成在這些連接部分16c和16g內(nèi)。這就不需要專(zhuān)用構(gòu)件來(lái)提供氣泡，從而實(shí)現(xiàn)了電極盒10的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)化并使其容易制造。
連接部分16e和16f從主體部分12a的下表面向下延伸。連接部分16h和16i將連接部分16c和16d的端部與連接部分16e和16f的端部相連接。這樣，接合到連接部分16c和16d的屏蔽板13受到更穩(wěn)固的支承。連接部分16e和16f的下端與陽(yáng)極殼14的下端未連接，而是在連接部分16e與陽(yáng)極殼14之間以及在連接部分16f與陽(yáng)極殼14之間分別形成有無(wú)底縫(bottomless slit)。如果利用這些縫來(lái)把陽(yáng)極罩(anode bag)(未示出)安裝在陽(yáng)極殼14中，則可以防止由陽(yáng)極板A產(chǎn)生的陽(yáng)極殘?jiān)鼘?duì)鍍敷膜造成不利影響。
c.使用電極盒的方法參照?qǐng)D2至6，對(duì)使用電極盒10的方法進(jìn)行描述。
首先，將陰極板C(其中應(yīng)變計(jì)HG被接合到鍍敷部分CP的背面)插入陰極支承部11的陰極插槽11d中。在該步驟中，這樣地插入陰極板C不僅使較靠近鍍敷部分CP的端部朝下，而且使鍍敷部分CP面對(duì)陽(yáng)極板A。此外，通過(guò)螺栓11e對(duì)陰極板C進(jìn)行調(diào)節(jié)，以使得鍍敷部分CP的中心與屏蔽板13的通孔13a的中心和陽(yáng)極殼14的開(kāi)口14a的中心二者都重合。
將陽(yáng)極板A插入陽(yáng)極支承部12的陽(yáng)極插槽12d中。然后將陽(yáng)極板A插入陽(yáng)極殼14的中空部分14b中，所述陽(yáng)極殼14被調(diào)節(jié)為與陽(yáng)極插槽12d的下部相通。陽(yáng)極支承部12支承陽(yáng)極板A，同時(shí)陽(yáng)極板A置于中空部分14b的底面上。
因此，將陰極板C與陽(yáng)極板A布置為以預(yù)定間隔彼此面對(duì)。此外，將陰極板C的鍍敷部分CP、屏蔽板13的通孔13a以及陽(yáng)極殼14的開(kāi)口14a布置為滿足預(yù)定的幾何關(guān)系。這使得不僅消除了對(duì)陰極板C與陽(yáng)極板A之間的間隔的調(diào)節(jié)，而且消除了對(duì)它們的相對(duì)幾何形狀的調(diào)節(jié)，這將提供對(duì)鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的更容易的測(cè)量。
當(dāng)鍍敷液與陰極板C之間的溫度差很大時(shí)，優(yōu)選而非必要地，需要將陰極板C的溫度調(diào)節(jié)為接近鍍敷液的溫度。實(shí)現(xiàn)該溫度調(diào)節(jié)的示例是預(yù)熱，使用管(如裝有水的試管)對(duì)陰極板C進(jìn)行所述預(yù)熱，其中將所述管浸入充入鍍敷槽20中的鍍敷液中。這樣，可以減少由溫度變化而引起的陰極板C變形的不利影響，從而提供對(duì)完全由鍍敷膜的形成而導(dǎo)致的陰極板C的變形(扭曲)的準(zhǔn)確測(cè)量。設(shè)置在鍍敷槽20中的預(yù)熱管使得可以對(duì)將陰極板C的溫度設(shè)置為接近鍍敷液的溫度進(jìn)行容易地調(diào)節(jié)，而無(wú)需專(zhuān)用裝置。
接下來(lái)，將其中安裝有陰極板C和陽(yáng)極板A的電極盒10浸入貯存在鍍敷槽20中的鍍敷液中。電極盒10的凸緣11b、11c、12b以及12c置于蓄池部分22的上端部22a上，從而只有電極盒10的下部浸入鍍敷液中，而其上部(從電源引出的電力電纜E在此連接到陰極板C和陽(yáng)極板A的上端部)保持在鍍敷液的液面之上。
d.使用鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)的方法參照?qǐng)D1，對(duì)使用鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)100的方法進(jìn)行描述。
首先，將從直流電源(測(cè)量裝置30)引出的電力電纜E連接到電極盒10的陰極板C和陽(yáng)極板A的上端部，所述電極盒10置于鍍敷槽20中。現(xiàn)在可以在陰極板C與陽(yáng)極板A之間供電。
將接合到陰極板C的應(yīng)變計(jì)HG電連接到測(cè)量裝置30。因此，可以測(cè)量陰極板C的扭曲。
將從氣泵(未示出)伸出的管(未示出)連接到管連接口15a。通過(guò)注射孔15c注射用于去除氫離子的氣泡，所述注射孔15c位于與陰極板C的下端部相對(duì)的位置處。這將防止凹陷的形成。
通過(guò)測(cè)量裝置30的操作向陰極板C和陽(yáng)極板A供電，并啟動(dòng)對(duì)陰極板C的扭曲的測(cè)量。將測(cè)量到的數(shù)據(jù)經(jīng)由連接纜線K發(fā)送到筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40。
筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40基于測(cè)量裝置30測(cè)量到的數(shù)據(jù)以及預(yù)先輸入的與鍍敷液和陰極板C相關(guān)聯(lián)的特征值，利用表達(dá)式(2)來(lái)計(jì)算鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。
σ＝Et2δ/[3(1-ν)dl2] (2)其中，σ為鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力，l為陰極板的鍍敷部分的長(zhǎng)度，t為陰極板的厚度，E為陰極板的楊氏模量，ν為陰極板的泊松比，δ為陰極板的撓曲，而d為鍍敷膜的厚度。
上述配備有應(yīng)變計(jì)HG的系統(tǒng)100能夠提供對(duì)鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的準(zhǔn)確并且更容易的測(cè)量。
由于與螺旋鍍敷應(yīng)力計(jì)50不同，在使用系統(tǒng)100進(jìn)行測(cè)量時(shí)不必用肉眼來(lái)讀取刻度，所以系統(tǒng)100沒(méi)有與讀取相關(guān)聯(lián)的誤差。
由于應(yīng)變計(jì)HG能夠測(cè)量到陰極板的細(xì)微扭曲，所以可以顯著地提高測(cè)量的精度。因此，可以提供滿足在要求高精度的所謂納米技術(shù)中使用的要求的鍍敷膜。
根據(jù)以上描述應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于上述的具體例示的實(shí)施例，而是可以以各種修改形式來(lái)實(shí)現(xiàn)。
例如，盡管電極盒10具有被分為多個(gè)部分的連接部分16，但是，可以去除連接部分16e、16f、16h以及16i，只要屏蔽板13得到穩(wěn)固支承即可。
盡管根據(jù)本實(shí)施例的電極盒10具有凸緣11b、11c、12b以及12c，但是，可以去除這些凸緣，只要將電極盒10支承得使陰極板C和陽(yáng)極板A的上端部保持在鍍敷液的液面之上即可。
盡管根據(jù)本實(shí)施例的電極盒10具有其截面為矩形的陽(yáng)極殼14，但是，只要恰當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)開(kāi)口14a的尺寸和幾何關(guān)系，就可以選擇任何幾何形狀，如圓形、橢圓形以及多邊形。
毫無(wú)疑問(wèn)，盡管根據(jù)本實(shí)施例的系統(tǒng)100具有作為屬于測(cè)量裝置30的內(nèi)部裝置的電源，但是可以選用獨(dú)立的結(jié)構(gòu)。
盡管在根據(jù)本實(shí)施例的系統(tǒng)100中，將測(cè)量裝置30測(cè)量到的陰極板C的扭曲(ε)發(fā)送給筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40，但是可以存在一些另選方案。一個(gè)另選方案是測(cè)量裝置30將電阻的變化(ΔR)發(fā)送給筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40，在筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40中計(jì)算扭曲(ε)。另一另選方案是測(cè)量裝置30基于扭曲(ε)計(jì)算撓曲(δ)并將其發(fā)送給筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40。
盡管在根據(jù)本實(shí)施例的系統(tǒng)100中，筆記本個(gè)人計(jì)算機(jī)40基于公式(2)來(lái)計(jì)算鍍敷膜的厚度，但是可以使用任何公式，只要它基于扭曲(撓曲)來(lái)計(jì)算應(yīng)力即可。
在進(jìn)行無(wú)電鍍敷(electroless plating)時(shí)，可以使用電極盒10以?xún)H將陰極板C支承在鍍敷液中，盡管這不是對(duì)根據(jù)本發(fā)明的電極盒10的典型使用。
通過(guò)引用將2004年2月3日提交的外國(guó)優(yōu)先權(quán)文獻(xiàn)JP2004-027300并入于此。
權(quán)利要求
1.一種用于測(cè)量鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力的電極盒，該電極盒包括陰極支承部，用于將陰極板支承在鍍敷液中，該陰極板具有其背面接合有應(yīng)變計(jì)的鍍敷部分；陽(yáng)極支承部，用于將陽(yáng)極板支承在鍍敷液中，使得所述陽(yáng)極板以預(yù)定間隔與所述陰極板相對(duì)；屏蔽板，其插在所述陰極板與所述陽(yáng)極板之間；陽(yáng)極殼，用于在所述鍍敷液中包圍所述陽(yáng)極板的周部和端部，其中，在所述屏蔽板中按這樣的方式形成通孔即，使該通孔面對(duì)所述鍍敷部分并具有相對(duì)于所述鍍敷部分的幾何形狀以第一預(yù)定比例系數(shù)縮小的幾何形狀，以及其中，在所述陽(yáng)極殼中按這樣的方式形成開(kāi)口即，使該開(kāi)口面對(duì)所述鍍敷部分并具有相對(duì)于所述鍍敷部分的幾何形狀以第二預(yù)定比例系數(shù)放大的幾何形狀。
2.如權(quán)利要求1所述的電極盒，其還包括氣泡提供裝置，其中，該氣泡提供裝置從所述陰極支承部延伸到與所述陰極板的下端相對(duì)的部分，并從該部分注射氣泡。
3.一種用于測(cè)量鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力的系統(tǒng)，具有根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電極盒，其中，該系統(tǒng)包括鍍敷槽，用于貯存所述鍍敷液，支承陰極板和陽(yáng)極板的所述電極盒被浸入所述鍍敷液中；電源，其電連接到所述陰極板和所述陽(yáng)極板；測(cè)量裝置，其電連接到應(yīng)變計(jì)，該應(yīng)變計(jì)接合到所述陰極板；以及計(jì)算機(jī)，用于基于所述測(cè)量裝置獲得的結(jié)果、所述陰極板的特征以及所述鍍敷膜的特征，來(lái)計(jì)算鍍敷膜的內(nèi)應(yīng)力。
全文摘要
用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的電極盒和系統(tǒng)。用于測(cè)量鍍敷膜內(nèi)應(yīng)力的電極盒包括陰極支承部、陽(yáng)極支承部、屏蔽板以及陽(yáng)極殼。陽(yáng)極支承部支承陽(yáng)極板以使陽(yáng)極板以預(yù)定間隔與陰極板相對(duì)。屏蔽板插入在陰極板與陽(yáng)極板之間。在屏蔽板中按這樣的方式形成通孔即，使該通孔面對(duì)鍍敷部分并具有相對(duì)于鍍敷部分的幾何形狀以第一預(yù)定比例系數(shù)縮小的幾何形狀。在陽(yáng)極殼中按這樣的方式形成開(kāi)口即，使該開(kāi)口面對(duì)鍍敷部分并具有相對(duì)于鍍敷部分的幾何形狀以第二預(yù)定比例系數(shù)放大的幾何形狀。
文檔編號(hào)G01L1/20GK1651884SQ20051000919
公開(kāi)日2005年8月10日 申請(qǐng)日期2005年2月3日 優(yōu)先權(quán)日2004年2月3日
發(fā)明者山本渡, 秋山勝德, 原田文男, 津留豐 申請(qǐng)人:株式會(huì)社山本鍍金試驗(yàn)器