專利名稱：正交表面形貌圖中任意截線方向形成截面輪廓的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種沿著一表面形貌圖上的截線形成截面輪廓(line profile)的方法，尤其是一種沿著一正交表面形貌圖上的截線形成截面輪廓的方法。
背景技術(shù)：
利用白光干涉(white light interferometry)的特性，以非接觸方式對(duì)對(duì)象表面進(jìn)行測(cè)量的形貌測(cè)量裝置，廣泛應(yīng)用在對(duì)于精密度有高度要求的產(chǎn)品，諸如半導(dǎo)體晶片、液晶顯示器的玻璃面板等。
請(qǐng)參照?qǐng)D1所示，一典型非接觸式形貌測(cè)量裝置的示意圖。如圖1中所示，此形貌測(cè)量裝置具有一寬頻光源10、一準(zhǔn)直透鏡(collimation lens)20、一45度分光鏡(Splitter)30、一成像目鏡40、一影像感測(cè)裝置50、一干涉顯微物鏡組60、一掃描平臺(tái)70與一計(jì)算機(jī)系統(tǒng)80。寬頻光源10所提供的光線，透過準(zhǔn)直透鏡20形成平行光，投射至45度分光鏡30。此平行光受到45度分光鏡的反射30，照射至干涉顯微物鏡組60。
干涉顯微物鏡組60位于掃描平臺(tái)70的上方，并且，對(duì)準(zhǔn)掃描平臺(tái)70所承載的待測(cè)物體90的表面。此干涉顯微物鏡組60具有一顯微物鏡62、一反射鏡64與一分光鏡(beam splitter)66。其中，顯微物鏡62位于反射鏡64的上方，而反射鏡64位于分光鏡66的上方。來自45度分光鏡30的光線，透過顯微物鏡62，照射至分光鏡66，而被分光鏡66分成兩道光線。其中一道光線照射至反射鏡64，而另一道光線則是照射至待測(cè)物體90表面。
此二道光線分別經(jīng)由反射鏡64與待測(cè)物體90表面反射后，投射回分光鏡66再度重合。值得注意的是，由于此二道光線行經(jīng)距離的差異(即此二道光線的光程差(Optical Path Difference，OPD))，將在重合后的光線內(nèi)產(chǎn)生干涉效果。而此光線再向上投射，經(jīng)過顯微物鏡62與45度分光鏡30，最后，透過成像目鏡40聚焦于影像感測(cè)裝置50。
前述二道光線的光程差的大小，受到干涉顯微物鏡組60與掃描平臺(tái)70的距離的影響。因此，通過改變干涉顯微物鏡組60或是掃描平臺(tái)70的垂直位置，即可改變光程差的大小，而使影像感測(cè)裝置50接收到一列具有不同光程差的干涉影像。透過計(jì)算機(jī)系統(tǒng)80分析，計(jì)算此一列干涉影像中，各個(gè)像素位置在不同的干涉影像中的光強(qiáng)度，即可形成如圖2的干涉圖譜。此干涉圖譜一理想的干涉圖譜，透過計(jì)算此干涉圖譜中的波包的峰值，即可推導(dǎo)出零光程差的位置，以確認(rèn)此像素位置所對(duì)應(yīng)的高度。以同樣的方式，計(jì)算其它像素位置所對(duì)應(yīng)的高度，即可得到此待測(cè)物體90的表面形貌。
值得注意的是，由于影像感測(cè)裝置50的感測(cè)元件(未圖標(biāo))成陣列排列，透過感測(cè)元件所攫取的干涉影像的數(shù)據(jù)型態(tài)，必然屬二維正交分布的數(shù)據(jù)類型。也因此，如圖3所示，依據(jù)此二維正交分布的數(shù)據(jù)所建構(gòu)的表面形貌圖，由正交排列的方格(像素)所構(gòu)成，而各個(gè)方格以不同的色彩或是圖案，表現(xiàn)其所對(duì)應(yīng)的高度值。
然而，在實(shí)際的應(yīng)用上，例如光柵、玻璃基板上的像素元件等，通常都希望能以截面輪廓呈現(xiàn)沿著特定截線方向的高低起伏變化。由于前述影像感測(cè)裝置50獲的的數(shù)據(jù)型態(tài)僅能直接推算出正交方向的截面輪廓。若是希望觀察的截線(如圖中S1-S2線段)的方向與正交方向(即X軸與Y軸的方向)有所偏離，則必須旋轉(zhuǎn)待測(cè)物體，使截線的方向與正交方向一致，方能獲得截面輪廓。
為了克服此問題，如圖3所示，對(duì)于一給定截線S1-S2，一現(xiàn)有方法依據(jù)此截線的起點(diǎn)S1與終點(diǎn)S2落于表面形貌圖上的坐標(biāo)位置，得出一直線方程式代表此截線S1-S2。然后，將不同的X坐標(biāo)值分別代入此直線方程式中，以得出相對(duì)應(yīng)的Y坐標(biāo)值。此Y坐標(biāo)值，用以判斷在不同的X坐標(biāo)處，依據(jù)表面形貌圖上哪一個(gè)方格所對(duì)應(yīng)的高度值，表示截面的高度值。
值得注意的是，依據(jù)此直線方程式所計(jì)算出的Y坐標(biāo)值往往并非整數(shù)，而造成方格判定上的困難。同時(shí)，由于截線S1-S2的長(zhǎng)度大于其投射于X坐標(biāo)上的長(zhǎng)度。然而，透過代入不同的X坐標(biāo)值所獲得的數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)(即圖中的粗框方格數(shù))，等同于此截線投射于X軸上的線段長(zhǎng)度所對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)。此數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)與截線S1-S2的長(zhǎng)度無法匹配，而難以表達(dá)真實(shí)的截面輪廓。
因此，在現(xiàn)有正交表面形貌數(shù)據(jù)圖中，如何迅速且準(zhǔn)確地獲得任意方向的截線輪廓，對(duì)于非接觸式形貌量測(cè)裝置的應(yīng)用，將會(huì)產(chǎn)生顯著的影響。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的提供一種正交表面形貌圖中任意截線方向形成截面輪廓的方法，不僅可以獲得精確的截面輪廓，同時(shí)還可以兼顧運(yùn)算速度上的需求。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明提供了一種在正交表面形貌圖中任意截線方向形成截面輪廓(line profile)的方法，該表面形貌圖系劃分為復(fù)數(shù)個(gè)正交方格，各該方格系對(duì)應(yīng)有一數(shù)值，以表示高度，其特征在于，包括截線上，以方格的邊長(zhǎng)為單位，劃分出多個(gè)待測(cè)點(diǎn)；在所述的截線的兩側(cè)，分別形成至少一平行于所述的截線的虛擬線；在所述的虛擬線上分別劃分出多個(gè)虛擬區(qū)段，分別對(duì)應(yīng)于所述的截線上所述的待測(cè)點(diǎn)；以及將所述的虛擬區(qū)段落在各所述的方格內(nèi)的長(zhǎng)度，乘上各所述的方格所對(duì)應(yīng)的數(shù)值，并以所述的虛擬區(qū)段與所述的截線的距離加權(quán)后，估算所述的待測(cè)點(diǎn)的高度。
在所述的截線的兩側(cè)，分別形成一平行于所述的截線，且與所述的截線距離四分的一方格邊長(zhǎng)的虛擬線，并且，所述的待測(cè)點(diǎn)的高度等于所述的二虛擬區(qū)段落在各所述的方格內(nèi)的長(zhǎng)度乘上各所述的方格所對(duì)應(yīng)的數(shù)值，加總后除以所述的二虛擬區(qū)段的總長(zhǎng)度。
本發(fā)明還提供了一種在一正交表面形貌圖中任意截線形成截面輪廓的方法，表面形貌圖劃分為多個(gè)正交原始方格，分別對(duì)應(yīng)至不同的高度值，其特征在于，包括沿著截線的走向建立一列待測(cè)方格，所述的截線貫穿所述的待測(cè)方格的中央；在所述的待測(cè)方格內(nèi)，形成至少一虛擬線，所述的虛擬線平行于所述的截線，并且，所述的虛擬線被所述的待測(cè)方格劃分為多個(gè)虛擬區(qū)段；以及將所述的虛擬區(qū)段落于各所述的原始方格內(nèi)的長(zhǎng)度，乘上各所述的原始方格所對(duì)應(yīng)的高度值，加權(quán)以估算所述的些待測(cè)方格所對(duì)應(yīng)的高度值。
所述的待測(cè)方格的邊長(zhǎng)等同于所述的原始方格的邊長(zhǎng)。
所述的截線的至少一端點(diǎn)位于其中一所述的待測(cè)方格的中心。
所述的待測(cè)方格內(nèi)形成有二虛擬線，分別位于所述的截線的兩側(cè)。
所述的二虛擬線與所述的截線的距離為所述的待測(cè)方格的邊長(zhǎng)的四分之一，并且，各所述的待測(cè)方格所對(duì)應(yīng)的高度值等于將相對(duì)應(yīng)的二所述的虛擬區(qū)段落于各所述的原始方格內(nèi)的長(zhǎng)度乘上各所述的原始方格所對(duì)應(yīng)的高度值，加總后除以所述的二虛擬區(qū)段的總長(zhǎng)度。
所述的待測(cè)方格所對(duì)應(yīng)的高度值，是將所述的虛擬區(qū)段落于各所述的原始方格內(nèi)的長(zhǎng)度，乘上各所述的原始方格所對(duì)應(yīng)的高度值，并以所述的虛擬區(qū)段與所述的截線的距離加權(quán)后予以估算。
本發(fā)明還提供了一種在正交表面形貌圖中任意截線方向形成截面輪廓(line profile)的方法，表面形貌圖系劃分為多個(gè)正交方格，方格對(duì)應(yīng)有一數(shù)值，以表示高度，其特征在于，包括對(duì)于所述的截線上一待測(cè)點(diǎn)的兩側(cè)，分別形成一平行于所述的截線的虛擬區(qū)段；將所述的二虛擬區(qū)段落于各所述的方格內(nèi)的長(zhǎng)度，乘上各所述的方格所對(duì)應(yīng)的數(shù)值，并以所述的二虛擬區(qū)段與所述的截線的距離加權(quán)后，估算所述的待測(cè)點(diǎn)的高度。
所述的虛擬區(qū)段的長(zhǎng)度等同于所述的方格的邊長(zhǎng)。
所述的待測(cè)點(diǎn)位于所述的二虛擬區(qū)段的端點(diǎn)所構(gòu)成的四邊形的中心。
所述的虛擬區(qū)段與所述的截線的距離為所述的方格的邊長(zhǎng)的四分之一，并且，所述的待測(cè)點(diǎn)的高度等于所述的二虛擬區(qū)段落于各所述的方格內(nèi)的長(zhǎng)度乘上各所述的方格所對(duì)應(yīng)的數(shù)值，加總后除以所述的二虛擬區(qū)段的總長(zhǎng)度。
本發(fā)明的有益效果在于，可以得到較為真實(shí)的輪廓，避免現(xiàn)有技術(shù)中，形成截面輪廓的數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)與截線長(zhǎng)度無法匹配的問題。


圖1為一典型非接觸式形貌測(cè)量裝置的示意圖。
圖2為一理想上的干涉圖譜。
圖3為一典型表面形貌圖，圖中并同時(shí)顯示一傳統(tǒng)計(jì)算截面輪廓的方法。
圖4A至圖4D為本發(fā)明形成截面輪廓方法一較佳實(shí)施例的示意圖。
圖號(hào)說明寬頻光源10準(zhǔn)直透鏡2045度分光鏡30成像目鏡40影像感測(cè)模塊50干涉顯微物鏡組60 掃描平臺(tái)70 計(jì)算機(jī)系統(tǒng)80具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖，通過較佳實(shí)施例說明本發(fā)明的實(shí)施過程請(qǐng)參照?qǐng)D4A至圖4D所示為本發(fā)明形成截面輪廓的方法一較佳實(shí)施例的示意圖。圖4A為一已知的表面形貌圖，而a-a線段則是欲形成截面輪廓(lineprofile)的截線。此表面形貌圖劃分為多個(gè)正交分布的像素方格。而各個(gè)像素方格分別有其對(duì)應(yīng)的數(shù)值以表示高度值。
首先，如圖4B所示，沿著a-a截線的走向，建立一列待測(cè)方格(即圖中以虛線表示的方格)，而a-a截線貫穿此列待測(cè)方格的中央位置。待測(cè)方格的邊長(zhǎng)L等同于前述像素方格(即圖中以實(shí)線表示的方格)的邊長(zhǎng)S。在a-a截線上的以待測(cè)方格的邊長(zhǎng)L，劃分出多個(gè)待測(cè)數(shù)據(jù)點(diǎn)P1，P2，P3，P4，而各個(gè)待測(cè)數(shù)據(jù)點(diǎn)P1，P2，P3，P4分別位于所對(duì)應(yīng)的待測(cè)方格的中央位置。并且，待測(cè)數(shù)據(jù)點(diǎn)的數(shù)目等同于待測(cè)方格的數(shù)目。
然后，如圖4C所示，在a-a截線的兩側(cè)，分別形成一平行于此a-a截線的虛擬線V1與V2。此二虛擬線V1，V2也貫穿此列待測(cè)方格，并且，分別被這些待測(cè)方格劃分為多個(gè)區(qū)段R1，R2。這些劃分出來的虛擬線區(qū)段R1，R2的長(zhǎng)度等同于待測(cè)方格的邊長(zhǎng)S，也等同于表面形貌圖上的像素方格的邊長(zhǎng)L。
隨后，如圖4D所示，由待測(cè)方格所劃分出的虛擬線區(qū)段R1，R2，又可區(qū)分為多個(gè)段落AB，BC，CD，EF分別落于不同的像素方格內(nèi)。將這些段落的長(zhǎng)度，乘上各個(gè)像素方格所對(duì)應(yīng)的高度值，并以此虛擬線區(qū)段R1，R2與a-a截線的距離加權(quán)后，即可估算各個(gè)待測(cè)方格(即各個(gè)待測(cè)數(shù)據(jù)點(diǎn)P1，P2，P3，P4)所對(duì)應(yīng)的高度值。
舉例而言，假定虛擬線V1，V2與a-a截線的距離d均為待測(cè)方格的邊長(zhǎng)S的四分之一。在估算待測(cè)方格所對(duì)應(yīng)的高度值的過程中，虛擬線V1與V2具有相同的權(quán)重。如圖4D所示，虛擬線區(qū)段R1被劃分為段落AB，BC，CD，虛擬線區(qū)段R2被劃分為段落EF；其中，段落AB位于像素方格B1內(nèi)，段落BC位于像素方格B2內(nèi)，段落CD位于像素方格B3內(nèi)，段落EF位于像素方格B2內(nèi)。各個(gè)段落AB，BC，CD，EF的長(zhǎng)度，決定了各個(gè)像素方格B1，B2，B3所對(duì)應(yīng)的高度值，對(duì)于此待測(cè)方格的高度值的貢獻(xiàn)程度。
因此，待測(cè)方格所對(duì)應(yīng)的高度值HH＝[(h(B1)×l(AB)+h(B2)×(l(BC)+l(EF))+h(B3)×l(CD))]÷(l(R1)+l(R2))其中，h(B1)，h(B2)，h(B3)分別為方格B1，B2，B3所對(duì)應(yīng)的高度值；l(AB)，l(BC)，l(CD)，l(EF)分別是段落AB，BC，CD，EF的長(zhǎng)度；而l(R1)，l(R2)分別是虛擬線區(qū)段R1與R2的長(zhǎng)度。
雖然上述實(shí)施例利用二虛擬線V1與V2，以獲得截面輪廓數(shù)據(jù)。但是不限于此。本發(fā)明的主要特點(diǎn)在于，利用虛擬線的建立，以決定各個(gè)像素方格對(duì)于此截線上各個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)的貢獻(xiàn)度，以此獲得截面輪廓數(shù)據(jù)。因此，不限于使用二虛擬線。截線的兩側(cè)最好分別具有至少一虛擬線。其次，各個(gè)虛擬線與截線的距離不宜太大。就一較佳實(shí)施例而言，虛擬線與截線的距離最好是小于待測(cè)方格的邊長(zhǎng)的一半，以確保虛擬線區(qū)段所坐落的像素方格，與截線最為接近的像素方格。
值得注意的是，本發(fā)明以虛擬線區(qū)段R1，R2上各段落的長(zhǎng)度，決定各個(gè)像素方格，對(duì)于待測(cè)數(shù)據(jù)點(diǎn)P2的高度值所占的權(quán)重，只涉及一維(即長(zhǎng)度)的計(jì)算。相較之下，透過計(jì)算待測(cè)方格落于各個(gè)像素方格內(nèi)的面積大小，以決定各個(gè)像素方格所占的權(quán)重的方法，雖然可能有較佳的精確度。但是，由于此方法必須進(jìn)行二維(即面積)的計(jì)算，將會(huì)造成計(jì)算量的大幅增加，而導(dǎo)致運(yùn)算速度明顯下降。
又，相較于圖3所示的現(xiàn)有方法，本發(fā)明以虛擬線區(qū)段R1，R2上各段落的長(zhǎng)度，決定各個(gè)像素方格的貢獻(xiàn)度，不會(huì)有如現(xiàn)有方法中方格判定上的困難。同時(shí)，本發(fā)明的方法可以兼顧待測(cè)數(shù)據(jù)點(diǎn)P1，P2，P3，P4周圍各個(gè)像素方格對(duì)于截面輪廓估算上的貢獻(xiàn)度，因此，較能求得真實(shí)的輪廓。其次，本發(fā)明在截線上所劃分的待測(cè)數(shù)據(jù)點(diǎn)P1，P2，P3，P4的數(shù)目，等同于以像素方格的邊長(zhǎng)為單位，于截線上所劃分的區(qū)段數(shù)目，因而不會(huì)有如現(xiàn)有方法中，形成截面輪廓的數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)與截線長(zhǎng)度無法匹配的問題。
以上所內(nèi)容僅用于說明本發(fā)明的較佳實(shí)施例，而非限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種在正交表面形貌圖中任意截線方向形成截面輪廓的方法，表面形貌圖劃分為多個(gè)正交方格，各所述的方格對(duì)應(yīng)有一數(shù)值以表示高度，其特征在于，包括截線上，以方格的邊長(zhǎng)為單位，劃分出多個(gè)待測(cè)點(diǎn)；在所述的截線的兩側(cè)，分別形成至少一平行于所述的截線的虛擬線；在所述的虛擬線上分別劃分出多個(gè)虛擬區(qū)段，分別對(duì)應(yīng)于所述的截線上所述的待測(cè)點(diǎn)；以及將所述的虛擬區(qū)段落在各所述的方格內(nèi)的長(zhǎng)度，乘上各所述的方格所對(duì)應(yīng)的數(shù)值，并以所述的虛擬區(qū)段與所述的截線的距離加權(quán)后，估算所述的待測(cè)點(diǎn)的高度。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述的截線的兩側(cè)，分別形成一平行于所述的截線，且與所述的截線距離四分的一方格邊長(zhǎng)的虛擬線，并且，所述的待測(cè)點(diǎn)的高度等于所述的二虛擬區(qū)段落在各所述的方格內(nèi)的長(zhǎng)度乘上各所述的方格所對(duì)應(yīng)的數(shù)值，加總后除以所述的二虛擬區(qū)段的總長(zhǎng)度。
3.一種在一正交表面形貌圖中任意截線方向形成截面輪廓的方法，表面形貌圖劃分為多個(gè)正交原始方格，分別對(duì)應(yīng)至不同的高度值，其特征在于，包括沿著截線的走向建立一列待測(cè)方格，所述的截線貫穿所述的待測(cè)方格的中央；在所述的待測(cè)方格內(nèi)，形成至少一虛擬線，所述的虛擬線平行于所述的截線，并且，所述的虛擬線被所述的待測(cè)方格劃分為多個(gè)虛擬區(qū)段；以及將所述的虛擬區(qū)段落于各所述的原始方格內(nèi)的長(zhǎng)度，乘上各所述的原始方格所對(duì)應(yīng)的高度值，加權(quán)以估算所述的些待測(cè)方格所對(duì)應(yīng)的高度值。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述的待測(cè)方格的邊長(zhǎng)等同于所述的原始方格的邊長(zhǎng)。
5.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述的截線的至少一端點(diǎn)位于其中一所述的待測(cè)方格的中心。
6.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述的待測(cè)方格內(nèi)形成有二虛擬線，分別位于所述的截線的兩側(cè)。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述的二虛擬線與所述的截線的距離為所述的待測(cè)方格的邊長(zhǎng)的四分之一，并且，各所述的待測(cè)方格所對(duì)應(yīng)的高度值等于將相對(duì)應(yīng)的二所述的虛擬區(qū)段落于各所述的原始方格內(nèi)的長(zhǎng)度乘上各所述的原始方格所對(duì)應(yīng)的高度值，加總后除以所述的二虛擬區(qū)段的總長(zhǎng)度。
8.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述的待測(cè)方格所對(duì)應(yīng)的高度值，是將所述的虛擬區(qū)段落于各所述的原始方格內(nèi)的長(zhǎng)度，乘上各所述的原始方格所對(duì)應(yīng)的高度值，并以所述的虛擬區(qū)段與所述的截線的距離加權(quán)后予以估算。
9.一種在正交表面形貌圖中任意截線方向形成截面輪廓的方法，表面形貌圖劃分為多個(gè)正交方格，各方格對(duì)應(yīng)有一數(shù)值以表示高度，其特征在于包括對(duì)于所述的截線上一待測(cè)點(diǎn)的兩側(cè)，分別形成一平行于所述的截線的虛擬區(qū)段；將所述的二虛擬區(qū)段落于各所述的方格內(nèi)的長(zhǎng)度，乘上各所述的方格所對(duì)應(yīng)的數(shù)值，并以所述的二虛擬區(qū)段與所述的截線的距離加權(quán)后，估算所述的待測(cè)點(diǎn)的高度。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述的虛擬區(qū)段的長(zhǎng)度等同于所述的方格的邊長(zhǎng)。
11.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述的待測(cè)點(diǎn)位于所述的二虛擬區(qū)段的端點(diǎn)所構(gòu)成的四邊形的中心。
12.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述的虛擬區(qū)段與所述的截線的距離為所述的方格的邊長(zhǎng)的四分之一，并且，所述的待測(cè)點(diǎn)的高度等于所述的二虛擬區(qū)段落于各所述的方格內(nèi)的長(zhǎng)度乘上各所述的方格所對(duì)應(yīng)的數(shù)值，加總后除以所述的二虛擬區(qū)段的總長(zhǎng)度。
全文摘要
一種在正交表面形貌圖中任意截線方向形成截面輪廓(line profile)的方法，包括截線上，以方格的邊長(zhǎng)為單位，劃分出多個(gè)待測(cè)點(diǎn)；在所述的截線的兩側(cè)，分別形成至少一平行于所述的截線的虛擬線；在所述的虛擬線上分別劃分出多個(gè)虛擬區(qū)段，分別對(duì)應(yīng)于所述的截線上所述的待測(cè)點(diǎn)；以及將所述的虛擬區(qū)段落在各所述的方格內(nèi)的長(zhǎng)度，乘上各所述的方格所對(duì)應(yīng)的數(shù)值，并以所述的虛擬區(qū)段與所述的截線的距離加權(quán)后，估算所述的待測(cè)點(diǎn)的高度。本發(fā)明的有益效果在于，可以得到較為真實(shí)的輪廓，避免現(xiàn)有技術(shù)中，形成截面輪廓的數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)與截線長(zhǎng)度無法匹配的問題。
文檔編號(hào)G01B9/021GK1959335SQ200510117060
公開日2007年5月9日 申請(qǐng)日期2005年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月31日
發(fā)明者林耀明, 廖界程 申請(qǐng)人:致茂電子股份有限公司