專利名稱：用于測量工藝組件是否滿足指定公差的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般地涉及測量工藝組件，并且更具體地涉及用于監(jiān)控等離子體工藝組件上沉積物的累積和磨損的系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體工業(yè)使用等離子體加工工具在用于集成電路(IC)器件的襯底上蝕刻并沉積材料。等離子體可以形成在許多源中，包括電容耦合等離子體(CCP)源、感應(yīng)耦合等離子體(ICP)源、靜電射頻(ESRF)源或這些源的任意組合。
不論何種源，典型通過用高能電子在容納IC襯底的等離子體室中離子化加工氣體來形成等離子體。根據(jù)加工氣體的條件(例如溫度和壓力)及選擇，形成適合于在室中進(jìn)行的特定加工的反應(yīng)性等離子體。在蝕刻過程中，從襯底表面去除材料，同時沉積工藝將材料沉積在襯底表面上。
不幸的是，等離子體加工還在等離子體室內(nèi)的等離子體工藝組件上去除并沉積材料。一旦過度的材料累積在工藝組件上，其可能剝落并在室內(nèi)傳播，最終污染襯底表面和重要的室部件。此外，經(jīng)歷過室加工或部件清潔技術(shù)的部件可能被腐蝕或磨損。因?yàn)楣に嚱M件必須保持在嚴(yán)格的尺寸公差內(nèi)，所以過度的沉積和磨損可能對室內(nèi)的加工性能產(chǎn)生影響。
為了預(yù)防這些問題，必須清潔或更換工藝組件。但是，清潔引起附加的磨損并且更換增加了成本。此外，兩者都導(dǎo)致人員和設(shè)備的停歇。為了最小化晶片生產(chǎn)成本，僅在部件不能在加工室中正常工作時應(yīng)當(dāng)進(jìn)行工藝組件的清潔或更換。由此，工藝組件的尺寸被頻繁地測量，不僅要確保符合嚴(yán)格公差，而且要避免過早的清潔和更換。
傳統(tǒng)地，使用諸如用精確卡鉗或一些其它的通用測量工具來測量部件的檢測度量技術(shù)。但是，這些技術(shù)通常需要將工藝組件從它們的等離子體室分離并移除工藝組件，這樣做勞動量大，并且通常導(dǎo)致人員和等離子體加工工具的停歇。此外，用通用測量工具檢測工藝組件需要工具的精確讀取以及知道被測量的特定工藝組件的期望尺寸。這些需要可能導(dǎo)致部件狀態(tài)的錯誤指示。
確定部件狀態(tài)的可替換方法是通過用諸如蝕刻或劃線標(biāo)記之類的標(biāo)記制造工藝組件，標(biāo)記的可視性幫助確定工藝組件是否在公差范圍內(nèi)。例如，可以通過劃標(biāo)記至部件中的特定劃線深度來形成標(biāo)記。當(dāng)部件經(jīng)歷加工和清潔時，通過簡單地檢驗(yàn)標(biāo)記是否可見就能夠確定部件是否被腐蝕超過劃線深度。但是，該方法需要特殊制造的部件，不能用于確定部件上累積的材料。此外，因?yàn)楣に嚱M件對于室內(nèi)進(jìn)行的不同工藝可以具有不同公差，所以劃線深度必須具體到部件將暴露到其中的室工藝。這可能導(dǎo)致要不然為一般的加工部件變成了特殊的加工。

發(fā)明內(nèi)容
由此，本發(fā)明的一個目的是解決半導(dǎo)體工藝組件的技術(shù)中的上述和/或其它問題。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種用于檢驗(yàn)工藝組件特征尺寸是否違反指定尺寸公差的改進(jìn)的系統(tǒng)。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種改進(jìn)的通過/不通過式量具(go no-gogauge)，用于檢驗(yàn)用在等離子體加工工具的等離子體室內(nèi)的工藝組件是否已經(jīng)累計(jì)過多的磨損或沉積物。
本發(fā)明的這些以及其它目的可以通過用于檢驗(yàn)用在等離子體加工工具的等離子體室內(nèi)的工藝組件是否已經(jīng)累計(jì)過多的磨損或沉積物的通過/不通過式量具來提供。所述通過/不通過式量具包括構(gòu)造成由所述通過/不通過式量具的使用者握持的主體、被構(gòu)造成檢驗(yàn)所述工藝組件的特征尺寸是否違反指定的尺寸公差的檢驗(yàn)特征，其中，所述指定公差的違反表示所述工藝組件的過度磨損或者過多的材料沉積在所述工藝組件上。還包括的是被構(gòu)造成使所述通過/不通過式量具與所述工藝組件和所述工藝組件將要暴露到其中的工藝中的至少一個唯一相關(guān)聯(lián)的標(biāo)識特征。
本發(fā)明的另一個方面包括一種用于檢驗(yàn)用在等離子體加工工具的等離子體室內(nèi)的工藝組件是否已經(jīng)累計(jì)過多的磨損或沉積物的方法。該方法包括確定與所述工藝組件相關(guān)聯(lián)的通過/不通過式量具，所述通過/不通過式量具具有被構(gòu)造成檢驗(yàn)工藝組件特征的尺寸是否違反指定尺寸公差的檢驗(yàn)特征，其中，所述違反表示工藝組件已經(jīng)累積了過多沉積的材料或者已經(jīng)經(jīng)歷了過度的磨損；以指定的方式應(yīng)用檢驗(yàn)特征至工藝組件，來檢驗(yàn)所述違反是否發(fā)生。
本發(fā)明的另一個方面是一種用于檢驗(yàn)用在等離子體加工工具的等離子體室內(nèi)的工藝組件是否已經(jīng)累計(jì)過多的磨損或沉積物的通過/不通過式量具。所述通過/不通過式量具包括用于檢驗(yàn)所述工藝組件的特征尺寸是否違反指定的尺寸公差的裝置，其中，所述指定公差的違反表示所述工藝組件的過度磨損或者過多的材料沉積在所述工藝組件上；用于使所述通過/不通過式量具與所述工藝組件、工藝組件的特征以及工藝組件將要暴露到其中的工藝中的至少一個唯一相關(guān)聯(lián)的裝置。


當(dāng)結(jié)合附圖考慮時，通過參考以下的詳細(xì)描述，將更容易獲得并更好地理解對本發(fā)明的更加徹底的認(rèn)識及其許多隨之而來的優(yōu)點(diǎn)，其中圖1圖示工藝流程圖，示出用于確定工藝組件是否已經(jīng)累積過度的磨損或沉積物的步驟；圖2圖示帶有標(biāo)識和開口的槽狀檢驗(yàn)特征的通過/不通過式量具；圖3A和3B圖示與工藝組件相關(guān)的圖2的通過/不通過式量具，其中分別示出工藝組件的前視圖和側(cè)視圖；圖3C和3D圖示與具有可匹配的鎖和鑰匙特征的可消耗工藝組件相關(guān)的通過/不通過式量具，分別表示在可消耗部件的表面的腐蝕發(fā)生之前和之后；圖3E和3F圖示圖3C和3D的通過/不通過式量具和可消耗部件，分別表示在沉積物已經(jīng)累計(jì)在可消耗部件的表面上之前和之后；圖4圖示具有兩個檢驗(yàn)特征的通過/不通過式量具；
圖5圖示具有三個檢驗(yàn)特征的通過/不通過式量具；圖6A和6B圖示用于檢驗(yàn)安裝到等離子體加工室的表面的工藝組件的通過/不通過式量具；圖7A和7B圖示用于檢驗(yàn)可消耗部件的厚度的由上板和下板形成的通過/不通過式量具；并且圖8A和8B圖示通過/不通過式量具，其具有用于進(jìn)行除檢驗(yàn)工藝組件特征之外的其它功能的工具。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在參考附圖，其中類似的參考標(biāo)號表示幾個視圖中相同或相應(yīng)的部件，圖1是工藝流程圖，示出用于確定用在等離子體加工工具的等離子體室內(nèi)的工藝組件是否已經(jīng)累積過度的磨損或沉積物的方法。如在此圖中所觀察到的，加工在步驟101中開始，來確定通過/不通過式量具是否適合于測量工藝組件所需的特征。因?yàn)榘雽?dǎo)體加工室包括許多工藝組件，并且每個部件可能具有多于一個的需要測量的特征，所以必須選擇合適的通過/不通過式量具來測量需要的特征。此外，因?yàn)楣に嚱M件對于在室內(nèi)進(jìn)行的不同工藝可能具有不同公差，所以通過/不通過式量具可能必須具體到室內(nèi)進(jìn)行的工藝。
在一個實(shí)施例中，通過/不通過式量具的確定是基于設(shè)置在通過/不通過式量具自身上的標(biāo)識特征。標(biāo)識特征可以與將要測量的工藝組件、將要測量的工藝組件的特征以及工藝組件將要暴露到其中的室工藝中的至少一個相關(guān)。以下將參考圖2進(jìn)一步討論標(biāo)識特征。
在本發(fā)明的可選實(shí)施例中，步驟101中通過/不通過式量具的確定是基于除了設(shè)置在通過/不通過式量具自身上的標(biāo)識特征之外的信息來進(jìn)行的。例如，檢查工藝組件的維修者的經(jīng)驗(yàn)可以使特定的通過/不通過式量具與將要測量的工藝組件和特征相關(guān)聯(lián)?？商鎿Q地，與通過/不通過式量具分離的書面說明可以提供給維修者用于參考。
一旦在步驟101中確定了合適的通過/不通過式量具，則通過/不通過式量具的使用者應(yīng)用該量具至工藝組件，如步驟103中所示。將通過/不通過式量具應(yīng)用到工藝組件包括使用者應(yīng)用通過/不通過式量具的檢驗(yàn)特征至工藝組件的特征。例如，在工藝組件的特征是必須具有最小直徑的孔的情況下，通過/不通過式量具可以包括具有與最小直徑相等或略小于最小直徑的直徑的凸起。在此示例中，通過/不通過式量具的應(yīng)用可以是用戶將凸起配合到工藝組件中的孔中的嘗試。將通過/不通過式量具應(yīng)用到工藝組件的其它示例將從以下圖2-6的討論中變得更加清楚。
在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，在工藝組件仍然安裝在加工室內(nèi)時，在步驟103中發(fā)生將通過/不通過式量具應(yīng)用到工藝組件。具體地，小尺寸的通過/不通過式量具和容易的使用允許通過/不通過式量具應(yīng)用到安裝的工藝組件的可接近特征。本發(fā)明的這個特征提供了超過使用常用度量工具的現(xiàn)有技術(shù)方法的顯著優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)有技術(shù)的方法通常需要耗時的將工藝組件從加工室移除操作。在可選實(shí)施例中，當(dāng)工藝組件從加工室移除時，通過/不通過式量具可以應(yīng)用到工藝組件。此實(shí)施例還提供了超過使用常用度量工具的優(yōu)點(diǎn)，因?yàn)橥ㄟ^/不通過式量具可以迅速地應(yīng)用到工藝組件的特征，并且可以比常用度量方法更快地進(jìn)行工藝組件在公差范圍內(nèi)或在公差范圍外的準(zhǔn)確確定。
一旦在步驟103中通過/不通過式量具應(yīng)用到工藝組件，在步驟105中進(jìn)行確定是否滿足工藝組件的指定公差。返回到以上提供的示例，在通過/不通過式量具的最小直徑的凸起配合到工藝組件中的孔中的情況下，通過/不通過式量具提供了工藝組件中的孔不小于最小直徑并且因此滿足指定公差的指示。但是，如果通過/不通過式量具的最小直徑凸起配合不到工藝組件中的孔中，則通過/不通過式量具提供工藝組件中的孔小于最小直徑并且因此不滿足指定公差的指示。這可以發(fā)生在例如工藝組件上的材料累積封閉工藝組件中的孔的直徑的情況下。
在步驟105中確定滿足工藝組件特征的指定公差的情況下，維修者不清潔或更換工藝組件，如步驟107所示，或者如果需要也可以選擇清潔或更換工藝組件。但是，在步驟105指示工藝組件特征不在指定公差內(nèi)的情況下，清潔或更換工藝組件，如步驟109所示。工藝組件的清潔可以發(fā)生在工藝組件上具有過多的材料累積的情況下。工藝組件的更換可以發(fā)生在部件上存在過多的材料累積并且部件不能被清潔、或者工藝組件已經(jīng)被腐蝕到超出工藝組件特征的公差的一些其它尺寸厚度的情況下。
由此，根據(jù)本發(fā)明的方法提供了用于檢驗(yàn)沉積在工藝組件上的過多材料累積或工藝組件的過度腐蝕或磨損的簡單且有效的方法。這樣的方法提供了減小的維修和更換成本、減少的人員和設(shè)備停歇、以及改進(jìn)的部件性能、和減小的IC襯底和室部件污染。
圖2示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例用于確定工藝組件(未示出)是否滿足指定公差的示例性通過/不通過式量具200。如圖中所示，通過/不通過式量具200包括主體201、標(biāo)識特征203以及檢驗(yàn)特征205。
主體201被調(diào)整尺寸并形成一定形狀以輔助使用者握持并利用通過/不通過式量具200。在這點(diǎn)上，主體201優(yōu)選地被調(diào)整為足夠大以容納標(biāo)識特征203和檢驗(yàn)特征205、但是足夠小使得通過/不通過式量具200可以用在安裝在加工室內(nèi)的工藝組件上的尺寸。
通過/不通過式量具200優(yōu)選地由適合于廉價(jià)大量生產(chǎn)通過/不通過式量具200并且在必要時用于容易地處置量具200的材料制成。由此，主體201(并且通常是通過/不通過式量具)優(yōu)選地由特氟隆、塑料、金屬或合成材料中的至少一種制造。但是，可以使用其它的合適材料。
如圖2中所示，此圖的實(shí)施例包括示意性地示作特征203的標(biāo)識特征。標(biāo)識特征203優(yōu)選地是記號、顏色、詞匯或標(biāo)識與工藝組件、工藝組件的特征、以及工藝組件可以暴露到其中的工藝中的至少一個相關(guān)的量具200的其它標(biāo)記。如上所述，半導(dǎo)體加工設(shè)備可以包括若個工藝組件，每個需要唯一的根據(jù)本發(fā)明的通過/不通過式量具以確定工藝組件是否在指定公差內(nèi)。此外，每個工藝組件可以包括需要不同的通過/不通過式量具來確定工藝組件的特定特征是否在指定公差內(nèi)的若干特征。最后，工藝組件可以具有與工藝組件將暴露到其中的不同工藝相關(guān)的不同的指定公差，由此需要用于工藝組件的不同通過/不通過式量具。標(biāo)識特征203優(yōu)選地使具體的通過/不通過式量具與工藝組件的這些特征中的任一個相關(guān)聯(lián)。但是，應(yīng)當(dāng)注意，當(dāng)檢驗(yàn)特征205被構(gòu)造成對等離子體工藝組件或工藝組件特征唯一時，標(biāo)識特征203不是必需的。在檢驗(yàn)特征205唯一的情況下，檢驗(yàn)特征自身可以提供標(biāo)識特征，因?yàn)闄z驗(yàn)特征可以容易地與將要測量的合適工藝組件相關(guān)聯(lián)。
檢驗(yàn)特征205是寬度為T1并且長度為T2的槽狀開口。此特定的檢驗(yàn)特征205能夠進(jìn)行至少兩個功能。即，如果工藝組件特征不能穿過開口205，并且特征相對于開口205適當(dāng)?shù)囟ㄎ?，則能夠檢驗(yàn)到部件的特定尺寸超過開口205的寬度或長度。例如，當(dāng)槽205被調(diào)整尺寸以測量或檢驗(yàn)隨著時間過去工藝組件具有沉積在部件上的材料的狀態(tài)時，只要其尺寸不增大到在工藝中不工作的情況或部件上的沉積有產(chǎn)生顆粒的風(fēng)險(xiǎn)的情況，部件將滑動穿過槽205。相反地，如果特征能夠穿過開口205，并且特征被類似地定位，則能夠檢驗(yàn)到特定的尺寸小于開口205的寬度和長度。例如，在調(diào)整槽205的尺寸以測量或檢驗(yàn)隨著時間過去工藝組件被腐蝕的狀態(tài)的情況下，部件不會穿過槽，直到其狀態(tài)足夠小以拒絕部件的使用。當(dāng)然，在尺寸T1和T2與工藝組件的臨界尺寸相關(guān)的情況下，檢驗(yàn)結(jié)果指示部件是否需要被清潔或更換，如以上參考圖1所描述。
圖3A和3B示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例與工藝組件1000相關(guān)的通過/不通過式量具300。如圖3A和3B所示，通過/不通過式量具300包括主體301、檢驗(yàn)特征305以及間隙特征307。檢驗(yàn)特征305被調(diào)整尺寸以通過使量具300越過注射板1000來檢測注射板1000在指定公差內(nèi)還是外，如圖3A所示。量具300中的間隙特征307確保量具300能夠滑過注射板1000中的凸起1010。
參考圖3A，假設(shè)部件1000具有寬度(T1-1um)和直徑T2的尺寸。未變的部件1000足夠小以穿過開口305。但是，如果部件的一個面累積大于1um厚的沉積層，則部件1000不再能穿過開口305，因?yàn)槠鋵挾痊F(xiàn)在超過T1。由此，在這種情況下，開口用于檢驗(yàn)沉積物的過度累積。
參考圖3B，假設(shè)部件1000具有寬度(T1+1um)和直徑T2的尺寸。未變的部件1000太大以致于不能穿過開口305，因?yàn)槠鋵挾瘸^T1。但是，如果部件1000的一個面被均勻地磨損超過1um深度，則部件1000現(xiàn)在能穿過開口305。由此，在這種情況下，開口305用于檢驗(yàn)?zāi)p的過度累積。
盡管圖2和3的實(shí)施例示出根據(jù)本發(fā)明具有封閉的槽檢驗(yàn)特征的通過/不通過式量具，但是應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明不限于這樣的結(jié)構(gòu)。例如，本發(fā)明可以使用開口的槽和/或多種銷、孔、標(biāo)簽片；或者任何其它的測量特征以檢驗(yàn)開口的尺寸是否超過指定公差。此外，盡管圖2和3的檢驗(yàn)特征提供了相對簡單且普通的槽狀特征，如上所示，但是通過/不通過式量具的檢驗(yàn)特征可以是以“鎖和鑰匙”的方式與利用通過/不通過式量具來測量的工藝組件的特征相匹配的特殊構(gòu)造。由此，檢驗(yàn)特征可以用作標(biāo)識特征。
例如，圖3C和3D標(biāo)識利用帶有可匹配的鎖和鑰匙特征354的通過/不通過式量具351的可消耗部件350。在圖3C中，可消耗部件350包含在發(fā)生等離子體加工的系統(tǒng)中，其易于腐蝕可消耗部件350的上表面357。如果可消耗部件350是新的，或者是新更換的，則當(dāng)鑰匙特征354與可消耗部件350嚙合時，僅通過/不通過式量具351的“新”特征352能夠滑過可消耗部件350的上表面357。隨著時間過去等離子體加工繼續(xù)，可消耗部件350腐蝕直到其被認(rèn)為超出指定的公差358，如圖3D所示。當(dāng)鑰匙特征354與可消耗部件350嚙合時，如果通過/不通過式量具351的“不使用”特征353能夠滑過可消耗部件350的上表面357，則準(zhǔn)備更換部件。
圖3E和3F標(biāo)識利用帶有可匹配的鎖和鑰匙特征364的通過/不通過式量具361的可消耗部件360。在圖3E中，可消耗部件360包含在發(fā)生等離子體加工的系統(tǒng)中，其易于在可消耗部件360的上表面367上沉積材料。如果可消耗部件360是新的，或者是新更換的，則當(dāng)鑰匙特征364與可消耗部件360嚙合時，通過/不通過式量具361的“新”特征363能夠滑過可消耗部件360的上表面367。隨著時間過去材料沉積在可消耗部件360上，部件360的尺寸增大超過指定的公差368，如圖3F所示。此時，當(dāng)鑰匙特征364與可消耗部件360嚙合時，通過/不通過式量具361的“不使用”特征362不再能滑過可消耗部件360的上表面367，發(fā)出準(zhǔn)備更換或清潔部件360的信號。
此外，盡管圖2和3的通過/不通過式量具示出通過/不通過式量具上的單個檢驗(yàn)特征，但是應(yīng)當(dāng)理解多個檢驗(yàn)特征可以用在相同的通過/不通過式量具上。例如，圖4示出具有主體401和兩個檢驗(yàn)特征405和415的通過/不通過式量具400。如圖4所示，檢驗(yàn)特征405和415可以分別具有不同的尺寸T1和T2。這些不同的尺寸可以允許使用通過/不通過式量具400來檢驗(yàn)不同的工藝組件、具有不同特征的相同工藝組件或者基于工藝組件400暴露到其中的工藝具有不同指定公差的相同加工工具的狀態(tài)。還如圖4所示，通過/不通過式量具400可以包括用于各個檢驗(yàn)特征405和415的標(biāo)識特征403和413，標(biāo)識特征403和413標(biāo)識工藝組件、工藝組件特征以及工藝組件暴露到其中的工藝中的至少一個。
圖5示出具有三個檢驗(yàn)特征505、515和525的通過/不通過式量具500。如圖中所示，檢驗(yàn)特征分別包括不同的尺寸T1、T2和T3。盡管圖5中未示出，但是與各個檢驗(yàn)特征相關(guān)的標(biāo)識特征也可以包含在通過/不通過式量具500中。
盡管參考圖2-5所描述的實(shí)施例可應(yīng)用于檢驗(yàn)已經(jīng)從等離子體加工室移除的工藝組件的尺寸，但是本發(fā)明不限于此應(yīng)用。圖6A和6B示出用于測量或檢驗(yàn)附裝到等離子體加工室中的安裝表面606的工藝組件605的通過/不通過式量具600的示例。
在等離子體加工易于腐蝕可消耗部件605的表面607的情況下，通過/不通過式量具600被構(gòu)造成使得當(dāng)新的可消耗部件和通過/不通過式量具配合時，間隙601存在于通過/不通過式量具600和安裝表面606之間。隨著時間過去可消耗部件605腐蝕，間隙601減小直到其完全消失，并且另一個間隙602開始在可消耗部件607的表面和通過/不通過式量具600之間形成。間隙602的出現(xiàn)和間隙601的消失(也就是量具600和安裝表面601之間接觸)表示有必要更換可消耗部件605。
在等離子體加工趨向于在可消耗部件605的表面607上沉積材料的情況下，通過/不通過式量具600被構(gòu)造成使得當(dāng)通過/不通過式量具600端接觸安裝表面606時，間隙602將存在于可消耗部件605和通過/不通過式量具600之間。隨著時間過去在可消耗部件605上形成沉積物，間隙602將消失，發(fā)出應(yīng)當(dāng)更換或清潔可消耗部件605的信號。
參考圖7A和7B的描述，本發(fā)明的另一個實(shí)施例提供了用于檢測已經(jīng)從等離子體加工室移除的工藝組件705的尺寸的量具。通過/不通過式量具700由上板701和下板702形成。上板701包含三個結(jié)合銷704、或其它特征，形成基準(zhǔn)面。以類似的方式，下板702包含三個結(jié)合銷，或其它特征，形成另一個基準(zhǔn)面。上板701和下板702用一些結(jié)合銷706配合在一起。
當(dāng)需要可消耗部件705的厚度的檢驗(yàn)時，可消耗部件705安裝在檢驗(yàn)工具700的上板701和下板702之間。結(jié)合銷704在可消耗部件705的側(cè)面707上的三個位置處接觸可消耗部件705；結(jié)合銷703在可消耗部件705的側(cè)面708上的三個位置處接觸可消耗部件705。在可消耗部件705隨著時間過去腐蝕時，通過/不通過式量具700可以被構(gòu)造成當(dāng)部件705插入量具700時存在間隙709。隨著可消耗部件705腐蝕，間隙709變得越來越小。當(dāng)可消耗部件705最終腐蝕超過指定公差時，間隙709消失以發(fā)出準(zhǔn)備更換可消耗部件705的信號，如圖7B所示。
在可消耗部件705隨著時間過去累積沉積物時，檢驗(yàn)工具700可以被構(gòu)造成使得可消耗部件705安裝在量具700內(nèi)而不產(chǎn)生間隙709。當(dāng)可消耗部件705累積過多的沉積物時，間隙709出現(xiàn)以發(fā)出準(zhǔn)備清潔或更換部件705的信號。
圖8A和8B示出具有用于進(jìn)行除檢驗(yàn)工藝組件的特征之外的簡單功能的工具的通過/不通過式量具。圖8A例如示出具有靠近量具800的表面801設(shè)置的與標(biāo)記相關(guān)聯(lián)的刻度802的通過/不通過式量具800。圖8B示出具有螺絲刀刃851、852和853的量具850。這些通過/不通過式量具800和850的工具可以具體適合用于通過設(shè)計(jì)量具800和850來進(jìn)行檢驗(yàn)的等離子體工藝組件。
很明顯，根據(jù)以上的教導(dǎo)，可以對本發(fā)明進(jìn)行許多修改和變化。因此應(yīng)當(dāng)理解在權(quán)利要求的范圍內(nèi)，本發(fā)明可以用除這里具體描述以外的方式來實(shí)踐。
權(quán)利要求
1.一種通過/不通過式量具，用于檢驗(yàn)用在等離子體加工工具的等離子室內(nèi)的工藝組件是否已經(jīng)累積了過多的磨損或沉積物，包括主體，被構(gòu)造成由所述通過/不通過式量具的使用者握持；檢驗(yàn)特征，被構(gòu)造成檢驗(yàn)所述工藝組件的特征尺寸是否違反指定的尺寸公差，其中，違反所述指定公差表示所述工藝組件的過度磨損或者過多的材料沉積在所述工藝組件上；標(biāo)識特征，被構(gòu)造成使所述通過/不通過式量具與所述工藝組件和所述工藝組件將要暴露到其中的工藝中的至少一個唯一相關(guān)聯(lián)。
2.如權(quán)利要求1所述的通過/不通過式量具，其中，所述主體包含特氟綸、塑料、金屬以及合成材料中的至少一種。
3.如權(quán)利要求1所述的通過/不通過式量具，還包括可見地設(shè)置在所述通過/不通過式量具表面上的成組標(biāo)識標(biāo)記。
4.如權(quán)利要求1所述的通過/不通過式量具，還包括工具，所述工具被構(gòu)造成能夠執(zhí)行除所述檢驗(yàn)工藝組件的特征尺寸是否違反指定尺寸公差之外的簡單功能。
5.如權(quán)利要求4所述的通過/不通過式量具，其中，所述工具包括螺絲刀、測量尺和開信刀中的至少一種。
6.如權(quán)利要求1所述的通過/不通過式量具，其中，所述檢驗(yàn)特征包括每個都被構(gòu)造成檢驗(yàn)工藝組件的特征尺寸是否違反指定尺寸公差的多個檢驗(yàn)特征。
7.如權(quán)利要求1所述的通過/不通過式量具，其中，所述檢驗(yàn)特征包括用于檢驗(yàn)尺寸超過指定尺寸公差的凸起。
8.如權(quán)利要求1所述的通過/不通過式量具，其中，所述檢驗(yàn)特征包括用于檢驗(yàn)尺寸小于指定尺寸公差的凸起。
9.如權(quán)利要求1所述的通過/不通過式量具，其中，所述檢驗(yàn)特征包括用于檢驗(yàn)尺寸超過指定尺寸公差的空腔。
10.如權(quán)利要求1所述的通過/不通過式量具，其中，所述檢驗(yàn)特征包括用于檢驗(yàn)尺寸小于指定尺寸公差的空腔。
11.如權(quán)利要求1所述的通過/不通過式量具，其中，所述標(biāo)識特征包括所述檢驗(yàn)特征的專門針對所述工藝組件的唯一構(gòu)造。
12.如權(quán)利要求1所述的通過/不通過式量具，其中，所述標(biāo)識特征包括指明所述工藝組件、工藝組件的特征以及工藝組件將要暴露到其的工藝中的至少一個的唯一標(biāo)記。
13.如權(quán)利要求12所述的通過/不通過式量具，其中，所述唯一的標(biāo)記包括與所述工藝組件、工藝組件的所述特征以及所述工藝中的至少一個相關(guān)聯(lián)的顏色和記號中的至少一個。
14.一種檢驗(yàn)方法，用于檢驗(yàn)用在等離子體加工工具的等離子體室內(nèi)的工藝組件是否已經(jīng)累計(jì)過多的磨損或沉積物，包括確定與所述工藝組件相關(guān)聯(lián)的通過/不通過式量具，所述通過/不通過式量具具有被構(gòu)造成檢驗(yàn)工藝組件特征尺寸是否違反指定尺寸公差的檢驗(yàn)特征，其中，所述違反表示工藝組件已經(jīng)累積了過多沉積的材料或者已經(jīng)經(jīng)歷了過度的磨損；并且以指定的方式應(yīng)用檢驗(yàn)特征至工藝組件，來檢驗(yàn)所述違反是否發(fā)生。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述確定包括基于設(shè)置在所述通過/不通過式量具上的標(biāo)識特征確定與所述工藝組件相關(guān)聯(lián)的通過/不通過式量具。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述確定包括基于設(shè)置在所述通過/不通過式量具上的記號、顏色以及詞匯中的至少一個確定與所述工藝組件相關(guān)聯(lián)的通過/不通過式量具。
17.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述確定包括基于未設(shè)置在所述通過/不通過式量具上的信息確定與所示加工工件部件相關(guān)聯(lián)的通過/不通過式量具。
18.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述應(yīng)用包括當(dāng)工藝組件安裝在半導(dǎo)體加工室內(nèi)時應(yīng)用檢驗(yàn)特征至工藝組件。
19.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述應(yīng)用包括在所述工藝組件從半導(dǎo)體加工室移除之后應(yīng)用所述檢驗(yàn)特征至工藝組件。
20.如權(quán)利要求14所述的方法，還包括基于所述應(yīng)用步驟確定是否清潔或更換所述工藝組件。
21.如權(quán)利要求14所述的方法，還包括利用所述通過/不通過式量具進(jìn)行除所述檢驗(yàn)功能之外的簡單功能。
22.如權(quán)利要求21所述的方法，其中，所述簡單功能是擰緊螺釘與測量除加工工具的特征的所述尺寸之外的其它尺寸中的至少一種。
23.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述應(yīng)用包括檢驗(yàn)工藝組件的尺寸小于指定尺寸公差。
24.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述檢驗(yàn)包括所檢驗(yàn)工藝組件的尺寸超過指定尺寸公差。
25.一種通過/不通過式量具，用于檢驗(yàn)用在等離子體加工工具的等離子體室內(nèi)的工藝組件是否已經(jīng)累計(jì)過多的磨損或沉積物，包括用于檢驗(yàn)所述工藝組件的特征尺寸是否違反指定的尺寸公差的裝置，其中，違反所述指定公差表示所述工藝組件的過度磨損或者過多的材料沉積在所述工藝組件上；和用于使所述通過/不通過式量具與所述工藝組件、所述工藝組件的特征以及所述工藝組件將要暴露到其中的工藝中的至少一個唯一相關(guān)聯(lián)的裝置。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種通過/不通過式量具和方法，用于檢驗(yàn)用在等離子體加工工具的等離子體室內(nèi)的工藝組件是否已經(jīng)累積過多的磨損或沉積物。所述量具包括用于檢驗(yàn)工藝組件的尺寸是否違反指定的尺寸公差的部件，所述違反表示工藝組件已經(jīng)累積過多的磨損或沉積物。
文檔編號G01M99/00GK1906457SQ200580001701
公開日2007年1月31日 申請日期2005年1月27日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月23日
發(fā)明者史蒂文·T·芬克 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社