專利名稱：熒光x射線分析方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對在X射線照射試料時(shí)由試料二次產(chǎn)生的二次X射線(所謂的熒光X射線)進(jìn)行檢測，來對試料中所包含的成分進(jìn)行分析的熒光X射線分析裝置。
背景技術(shù)：
一般而言，熒光X射線分析裝置包括X射線照射室，其至少具備X射線源和X射線檢測器；試料臺架(stage)，其在X射線照射室上側(cè)開有X射線照射口并用于載置試料；和試料罩，其是在試料臺架上部用于防止X射線泄漏的密閉遮蔽型的結(jié)構(gòu)體，由此試料罩就可開閉(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。
對分析方法而言，首先舉起試料罩而使試料載置在試料臺架上以堵塞X射線照射口。于是，將試料罩以降低至接觸試料臺架為止的方式關(guān)閉，以使X射線不泄漏。其后，在接通(ON)分析開始開關(guān)的情況下，從X射線源發(fā)射X射線并通過X射線照射口照射到試料的下面。由此，由X射線檢測器檢測出從該照射部位產(chǎn)生的熒光X射線，以轉(zhuǎn)換為電信號的方式進(jìn)行處理，從而成為由能量對強(qiáng)度所表示的X射線光譜。
在如上所述的熒光X射線分析方法及裝置中，作為安全對策，也安裝有傳感器，該傳感器為了防止X射線泄漏到周圍而對試料罩與試料臺架密接進(jìn)行檢測。
專利文獻(xiàn)1特開2000-162161號公報(bào)。

發(fā)明內(nèi)容
在如上所述的現(xiàn)有熒光X射線分析方法及裝置中，雖然實(shí)施了安全對策，但是由于用于防止X射線泄漏的開閉試料罩的工作、與從X射線源發(fā)射X射線從而分析試料的工作是獨(dú)立的工作，由此存在用于進(jìn)行分析的工作效率不良這樣的問題。再有，即使在試料臺架上沒有試料時(shí)、或者沒有放置在適當(dāng)?shù)奈恢蒙蠒r(shí)，由于在接通(ON)分析開始開關(guān)的情況下從X射線源發(fā)射X射線而開始分析，由此也存在產(chǎn)生分析工作損失(loss)之虞。
本發(fā)明是為了解決上述課題而提出的，其目的在于提供一種能夠有效地進(jìn)行分析的熒光X射線分析方法和裝置。
為了達(dá)到上述目的本發(fā)明采用以下的結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的熒光X射線分析方法，對由以可開閉方式安裝在試料臺架上的試料罩所覆蓋的試料照射X射線，檢測出由試料產(chǎn)生的熒光X射線，其特征在于，對試料罩的開閉狀態(tài)進(jìn)行判斷并當(dāng)試料罩已關(guān)閉時(shí)，對所述試料開始照射X射線。根據(jù)上述熒光X射線分析方法，在關(guān)閉試料罩的情況下，檢測出試料罩已關(guān)閉就自動地對試料開始照射X射線，由此可以有效地進(jìn)行分析。
本發(fā)明的熒光X射線分析裝置，其特征在于，具備可設(shè)置試料的試料臺架；試料罩，其以可開閉方式安裝在所述試料臺架上；X射線照射機(jī)構(gòu)，其對所述試料照射X射線；熒光X射線檢測機(jī)構(gòu)，其檢測來自試料的熒光X射線；試料罩開閉檢測機(jī)構(gòu)，其檢測試料罩的開閉狀態(tài)；和X射線照射開始機(jī)構(gòu)，其基于來自試料罩開閉檢測機(jī)構(gòu)的信號，當(dāng)試料罩已關(guān)閉時(shí)對試料開始照射X射線。根據(jù)上述熒光X射線分析裝置，在關(guān)閉試料罩的情況下，檢測出試料罩已關(guān)閉就自動地對試料開始照射X射線，由此可以有效地進(jìn)行分析。
本發(fā)明的熒光X射線分析方法，對由以可開閉方式安裝在試料臺架上的試料罩所覆蓋的試料照射X射線，檢測出由試料產(chǎn)生的熒光X射線，其特征在于，對試料罩的開閉狀態(tài)進(jìn)行判斷，并對試料臺架上是否放置有試料進(jìn)行判斷，當(dāng)試料罩已關(guān)閉時(shí)對試料開始照射X射線，即使在試料罩已關(guān)閉的情況下當(dāng)試料臺架上未放置試料時(shí)不對試料照射X射線。根據(jù)上述熒光X射線分析方法，在試料罩已關(guān)閉的情況下就自動地對試料開始照射X射線，由此可以有效地進(jìn)行分析。并且，即使在試料罩已關(guān)閉的情況下當(dāng)試料臺架上未放置試料時(shí)，也不對試料照射X射線，由此可以消除分析工作損失。
本發(fā)明的X射線分析裝置，其特征在于，具備可設(shè)置試料的試料臺架；試料罩，其以可開閉方式安裝在所述試料臺架上；X射線照射機(jī)構(gòu)，其對試料照射X射線；熒光X射線檢測機(jī)構(gòu)，其檢測來自所述試料的熒光X射線；試料罩開閉檢測機(jī)構(gòu)，其檢測所述試料罩的開閉狀態(tài)；試料識別機(jī)構(gòu)，其對試料臺架上是否放置有試料進(jìn)行判斷；和X射線照射開始機(jī)構(gòu)，其基于來自試料罩開閉檢測機(jī)構(gòu)和試料識別機(jī)構(gòu)的信號，在試料罩已關(guān)閉的情況下對試料開始照射X射線，即使在試料罩已關(guān)閉的情況下當(dāng)試料臺架上未放置試料時(shí)不對試料照射X射線。根據(jù)上述熒光X射線分析裝置，當(dāng)試料罩已關(guān)閉時(shí)就自動地對試料開始照射X射線，由此可以有效地進(jìn)行分析。并且，即使在試料罩已關(guān)閉的情況下當(dāng)試料臺架上未放置有試料時(shí)，不對試料照射X射線，由此可以消除分析工作損失。


圖1是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的示意說明圖。
圖2是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的動作說明圖。
圖3是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的動作說明圖。
圖4是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的流程圖。
圖5是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的示意說明圖。
圖6是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的流程圖。
圖7是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的示意說明圖。
圖8是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的流程圖。
圖9是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的動作說明圖。
圖10是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的動作說明圖。
圖11是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的流程圖。
符號說明1—試料；2—試料臺架；3—X射線源(X射線照射機(jī)構(gòu))；4—X射線檢測器(X射線檢測機(jī)構(gòu))；5—X射線照射口；6—試料罩；7—X射線照射室；8—試料罩檢測機(jī)構(gòu)(試料罩開閉檢測機(jī)構(gòu))；9—驅(qū)動機(jī)構(gòu)(X射線照射開始機(jī)構(gòu))；10、12—試料識別機(jī)構(gòu)；11—處理機(jī)構(gòu)。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的熒光X射線分析方法及裝置，是對于放置在X射線照射室上側(cè)的試料臺架上的試料，在自試料上方關(guān)閉試料罩而遮蔽圍住試料之后，對試料的下面照射X射線而進(jìn)行分析的熒光X射線分析方法，其特征在于，在試料放置在試料臺架上并關(guān)閉試料罩的情況下，檢測出試料罩已關(guān)閉就自動地從X射線源照射X射線而開始分析。
再有，其特征在于，在關(guān)閉試料罩的情況下，檢測出試料罩已關(guān)閉并且在識別出試料臺架的X射線照射口上方放置有試料的條件下，就自動地由X射線源照射X射線而開始分析。
(實(shí)施方式1)以下，使用圖1～圖8對本發(fā)明的熒光X射線分析方法及裝置進(jìn)行說明。圖1是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的示意說明圖，圖2～圖3是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的動作說明圖，圖4是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的流程圖。1是作為測定對象物的試料，2是載置試料1的試料臺架，3是X射線源，4是X射線檢測器，5是X射線照射口，6是試料罩，7是X射線照射室，8是作為試料罩檢測機(jī)構(gòu)的壓力傳感器，9是驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
如圖1所示，熒光X射線分析裝置，具有在試料臺架2的下面具備X射線源3和X射線檢測器4的X射線照射室7，通過試料臺架2開口的X射線照射口5從X射線源3對試料1照射X射線，從而由X射線檢測器4檢測出熒光X射線。另外，在試料臺架2的上部安裝有防止X射線泄漏的可開閉的試料罩6，在試料臺架2中安裝有壓力傳感器，該壓力傳感器是檢測試料罩6的開閉的試料罩檢測機(jī)構(gòu)8，還有，通過驅(qū)動機(jī)構(gòu)9從X射線源3照射X射線。
對試料分析方法而言，如圖2所示那樣首先在打開試料罩6的狀態(tài)下，在試料臺架2上載置試料1。然后，如圖3所示關(guān)閉試料罩6。此時(shí)，試料罩檢測機(jī)構(gòu)8即壓力傳感器檢測出試料罩6已關(guān)閉，由此通過接收到該信號的驅(qū)動機(jī)構(gòu)9，自動地從X射線源3照射X射線而通過試料臺架2的X射線照射口5照射到試料1。因而，當(dāng)X射線照射到試料1時(shí)就由試料1產(chǎn)生熒光X射線，并由X射線檢測器4檢測后，以轉(zhuǎn)換為電信號的方式進(jìn)行處理從而成為由能量對強(qiáng)度所表示的X射線光譜。還有，對于試料罩檢測機(jī)構(gòu)8也可以使用激光傳感器等。
接著，根據(jù)圖4的流程圖說明本實(shí)施例的熒光X射線分析方法及裝置。
在裝置電源接通的情況下(步驟S1)，驅(qū)動機(jī)構(gòu)9基于來自試料罩檢測機(jī)構(gòu)8的信號對試料罩6是否已關(guān)閉(是否從打開狀態(tài)切換到關(guān)閉狀態(tài))進(jìn)行判斷(步驟S2)，當(dāng)試料罩6被關(guān)閉時(shí)，驅(qū)動X射線源3對試料1照射X射線(步驟S3)。也就是，如果操作員將試料載置在試料臺架2上后關(guān)閉試料罩6，則自動開始X射線照射。
通過以上的結(jié)構(gòu)和動作，根據(jù)本發(fā)明的熒光X射線分析方法及裝置，由于在關(guān)閉試料罩的情況下，檢測出試料罩已關(guān)閉就自動地從X射線源照射X射線而開始分析，從而可有效地進(jìn)行分析。
(實(shí)施方式2)圖5是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的示意說明圖，圖6是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的流程圖。10是試料識別機(jī)構(gòu)即CCD照相機(jī)，11是處理機(jī)構(gòu)。
如圖5所示，熒光X射線分析裝置，具有試料罩檢測機(jī)構(gòu)8即壓力傳感器，其對試料罩6的開閉進(jìn)行檢測；和試料識別機(jī)構(gòu)10即CCD相機(jī)，其在X射線照射室7中對試料臺架2上的試料的有無及其位置進(jìn)行識別，并且，通過對試料罩檢測機(jī)構(gòu)8和試料識別機(jī)構(gòu)10的信號進(jìn)行處理的處理機(jī)構(gòu)11，使信號發(fā)送到驅(qū)動機(jī)構(gòu)9，從而由X射線源3照射X射線。
對該試料分析方法而言，首先，在打開試料罩6的狀態(tài)下將試料1載置在試料臺架2上。然后關(guān)閉試料罩6。此時(shí)，試料罩檢測機(jī)構(gòu)8即壓力傳感器檢測出試料罩6已被關(guān)閉，同時(shí)試料識別機(jī)構(gòu)10即CCD照相機(jī)對試料臺架2上的試料1的有無及其位置進(jìn)行確認(rèn)。因此，檢測出試料罩6已關(guān)閉的信號、和識別出試料臺架2的X射線照射口5上方放置有試料1的信號被發(fā)送到處理機(jī)構(gòu)11。
于是，在處理機(jī)構(gòu)11接收到兩種信號的情況下，驅(qū)動機(jī)構(gòu)9就自動地使X射線從X射線源3進(jìn)行照射并通過試料臺架2的X射線照射口5照射到試料1上。因而，當(dāng)X射線照射到試料1時(shí)就由試料1產(chǎn)生熒光X射線，而由X射線檢測器檢測出后以轉(zhuǎn)換為電信號的方式進(jìn)行處理，從而成為由能量對強(qiáng)度所表示的X射線光譜。
接著，根據(jù)圖6的流程圖說明本實(shí)施例的熒光X射線分析方法和裝置。
如果裝置接通電源(步驟S1)，則處理機(jī)構(gòu)11基于來自試料罩檢測機(jī)構(gòu)8的信號對試料罩6是否已關(guān)閉進(jìn)行判斷(是否從打開的狀態(tài)切換到關(guān)閉狀態(tài))(步驟S2)。在試料罩6已關(guān)閉的情況下，處理機(jī)構(gòu)11根據(jù)來自試料識別機(jī)構(gòu)10的信號對試料1是否配置在臺架上進(jìn)行判斷(步驟S4)。在試料1配置在臺架上的情況下，處理機(jī)構(gòu)11指示驅(qū)動機(jī)構(gòu)9使X射線從X射線源3照射。于是，驅(qū)動X射線源3而對試料1照射X射線(步驟S3)。也就是，如果操作員在試料臺架2上載置試料1后關(guān)閉試料罩6，則自動開始X射線照射。但是，如果未載置試料1，則不進(jìn)行X射線照射。
通過以上的結(jié)構(gòu)和動作，根據(jù)本發(fā)明的熒光X射線分析方法和裝置，在關(guān)閉試料罩的情況下，進(jìn)行試料罩已關(guān)閉的檢測和在試料臺架的X射線照射口上方放置有試料的識別，并在兩者皆滿足時(shí)自動地從X射線源照射X射線而開始分析，因此不僅可以有效地進(jìn)行分析，并且可以消除分析工作損失。
另外，由于用CCD照相機(jī)識別試料，所以能夠從不影響熒光X射線分析的距離進(jìn)行攝影。進(jìn)一步，可以用眼睛確認(rèn)由CCD照相機(jī)攝影的圖像，由此可以確認(rèn)試料是否放置在試料臺架上適當(dāng)?shù)奈恢谩?br> 還有，作為試料識別機(jī)構(gòu)，代替CCD照相機(jī)例如也可以使用由LED和光電晶體管構(gòu)成的光斬波器(photointerrupter)。在這種情況下，將構(gòu)成光斬波器部件的一方固定在試料罩上。另外，也可以使用反射型光傳感器(photosensor)。
(實(shí)施方式3)圖7是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的示意說明圖，圖8是本發(fā)明的熒光X射線分析裝置的流程圖。12是作為試料識別機(jī)構(gòu)的傳感器。
如圖7所示，熒光X射線分析裝置，在試料臺架上組合了檢測試料罩6的開閉的試料罩檢測機(jī)構(gòu)8即壓力傳感器、和對試料臺架2上的試料1的有無及其位置進(jìn)行識別的試料識別機(jī)構(gòu)12即壓敏器件，并且通過對試料罩檢測機(jī)構(gòu)8和試料識別機(jī)構(gòu)12的信號進(jìn)行處理的處理機(jī)構(gòu)11，使信號發(fā)送到驅(qū)動機(jī)構(gòu)9，由此從X射線源3照射X射線。
對試料分析方法而言，首先在打開試料罩6的狀態(tài)下將試料1載置在試料臺架2上。然后關(guān)閉試料罩6。此時(shí)，試料罩檢測機(jī)構(gòu)8即壓力傳感器檢測出試料罩6己關(guān)閉，同時(shí)試料識別機(jī)構(gòu)12即壓敏器件對試料臺架2上的試料1的有無及其位置進(jìn)行確認(rèn)。因而，檢測出試料罩6已關(guān)閉的信號、和確認(rèn)試料臺架2的X射線照射口5上方放置有試料1的信號被發(fā)送到處理機(jī)構(gòu)11。
于是，在處理機(jī)構(gòu)11接收到兩種信號的情況下，驅(qū)動機(jī)構(gòu)9就自動地使X射線從X射線源3進(jìn)行照射并通過試料臺架2的X射線照射口5照射到試料1上。因而，當(dāng)X射線照射到試料1時(shí)就由試料1產(chǎn)生熒光X射線，而由X射線檢測器檢測出后以轉(zhuǎn)換為電信號的方式進(jìn)行處理，從而成為由能量對強(qiáng)度所表示的X射線光譜。
接著，根據(jù)圖8的流程圖說明本實(shí)施例的熒光X射線分析方法和裝置。
如果裝置接通電源(步驟S1)，則處理機(jī)構(gòu)11基于來自試料罩檢測機(jī)構(gòu)8的信號對試料罩6是否已關(guān)閉(是否從打開的狀態(tài)切換到關(guān)閉狀態(tài))進(jìn)行判斷(步驟S2)。在試料罩6己關(guān)閉的情況下，處理機(jī)構(gòu)11根據(jù)來自試料識別機(jī)構(gòu)10的信號對試料1是否配置在臺架上進(jìn)行判斷(步驟S4)。在試料1配置在臺架上的情況下，處理機(jī)構(gòu)11指示驅(qū)動機(jī)構(gòu)9使X射線從X射線源3照射。于是，驅(qū)動X射線源3而對試料1照射X射線(步驟S3)。也就是，如果操作員在試料臺架2上載置試料1后關(guān)閉試料罩6，則自動開始X射線照射。但是，如果未載置試料1，則不進(jìn)行X射線照射。
通過以上的結(jié)構(gòu)和動作，根據(jù)本發(fā)明的熒光X射線分析方法和裝置，在關(guān)閉試料罩的情況下，進(jìn)行試料罩已關(guān)閉的檢測和在試料臺架的X射線照射口上方放置有試料的識別，并在兩者皆滿足時(shí)就自動地從X射線源照射X射線而開始分析，因此可以有效地進(jìn)行分析，并且可以消除分析工作損失。另外，由于用壓敏器件對試料臺架上的試料進(jìn)行識別，所以即使在黑暗中也可以可靠地識別材料。
(實(shí)施方式4)在上述的實(shí)施方式中，雖然通過驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動X射線源來開始對試料進(jìn)行X射線照射，但是也可以通過由快門(shutter)驅(qū)動部完成的快門打開動作來開始對試料進(jìn)行X射線照射。
圖9和圖10所示的熒光X射線分析裝置中，X射線源3和試料1之間配置有快門14?？扉T14只要是可以安全地遮斷所產(chǎn)生的X射線的材料及具有一定厚度即可，例如將鎢或SUS作為材料?？扉T14，通過快門驅(qū)動部15可以在覆蓋X射線3的關(guān)閉位置和開放X射線源3的打開位置之間移動。
根據(jù)圖11的流程圖說明本實(shí)施例的熒光X射線分析方法和裝置。
如果裝置接通電源(步驟S1)，則通過來自處理機(jī)構(gòu)11的信號，快門驅(qū)動部15使快門14移動到圖9所示的關(guān)閉位置上(步驟S5)。接著，通過來自處理部11的信號，驅(qū)動機(jī)構(gòu)9驅(qū)動X射線源3照射X射線(步驟S6)。在該狀態(tài)下，因快門14而使X射線不會到達(dá)試料1，并且使向外部的泄漏抑制到最低限度。處理機(jī)構(gòu)11基于來自試料罩檢測機(jī)構(gòu)8的信號對試料罩6是否已關(guān)閉(是否從打開狀態(tài)切換到關(guān)閉狀態(tài))進(jìn)行判斷(步驟S2)。如果試料罩6已關(guān)閉，則處理機(jī)構(gòu)11將信號發(fā)送到快門驅(qū)動部15，而使快門移動到打開位置(步驟S7)。其結(jié)果，如圖10所示，來自X射線源3的X射線照射到試料1。也就是，在操作員將試料1載置到試料臺架2上后關(guān)閉試料罩6的情況下，就自動開始X射線照射。
通過以上的結(jié)構(gòu)和動作，根據(jù)本發(fā)明的熒光X射線分析方法和裝置，在關(guān)閉試料罩的情況下，自動地從X射線源照射X射線而開始分析，由此可以有效地進(jìn)行分析。
以上，對本發(fā)明所適用的實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但本發(fā)明并非限定于有關(guān)的實(shí)施方式，在不脫離本發(fā)明的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變形和修正。
產(chǎn)業(yè)上的利用可能性本發(fā)明的熒光X射線分析方法和裝置，除作為研究、開發(fā)的用途使用之外，還可以作為要謀求測定工作效率化、高速化的成套設(shè)備(plant)進(jìn)行活用。
權(quán)利要求
1.一種熒光X射線分析方法，對由以可開閉方式安裝在試料臺架上的試料罩所覆蓋的試料照射X射線，檢測出由所述試料產(chǎn)生的熒光X射線，其特征在于，對所述試料罩的開閉狀態(tài)進(jìn)行判斷，在所述試料罩已關(guān)閉的情況下，對所述試料開始照射X射線。
2.一種熒光X射線分析裝置，其特征在于，具備可設(shè)置試料的試料臺架；試料罩，其以可開閉方式安裝在所述試料臺架上；X射線照射機(jī)構(gòu)，其對所述試料照射X射線；熒光X射線檢測機(jī)構(gòu)，其檢測來自所述試料的熒光X射線；試料罩開閉檢測機(jī)構(gòu)，其檢測所述試料罩的開閉狀態(tài)；和X射線照射開始機(jī)構(gòu)，其基于來自所述試料罩開閉檢測機(jī)構(gòu)的信號，當(dāng)所述試料罩已關(guān)閉時(shí)，對所述試料開始照射X射線。
3.一種熒光X射線分析方法，對由以可開閉方式安裝在試料臺架上的試料罩所覆蓋的試料照射X射線，檢測出由所述試料產(chǎn)生的熒光X射線，其特征在于，對所述試料罩的開閉狀態(tài)進(jìn)行判斷，對所述試料臺架上是否放置有所述試料進(jìn)行判斷，在所述試料罩已關(guān)閉的情況下，對所述試料開始照射X射線，即使在所述試料罩已關(guān)閉的情況下當(dāng)所述試料臺架上未放置所述試料時(shí)，不對所述試料照射X射線。
4.一種X射線分析裝置，其特征在于，具備可設(shè)置試料的試料臺架；試料罩，其以可開閉方式安裝在所述試料臺架上；X射線照射機(jī)構(gòu)，其對所述試料照射X射線；熒光X射線檢測機(jī)構(gòu)，其檢測來自所述試料的熒光X射線；試料罩開閉檢測機(jī)構(gòu)，其檢測所述試料罩的開閉狀態(tài)；試料識別機(jī)構(gòu)，其對所述試料臺架上是否放置有所述試料進(jìn)行判斷；和X射線照射開始機(jī)構(gòu)，其基于來自所述試料罩開閉檢測機(jī)構(gòu)和所述試料識別機(jī)構(gòu)的信號，在所述試料罩已關(guān)閉的情況下，對所述試料開始照射X射線，即使在所述試料罩已關(guān)閉的情況下當(dāng)所述試料臺架上未放置所述試料時(shí)不對所述試料照射X射線。
全文摘要
是對于放置在X射線照射室(7)上側(cè)的試料臺架(2)上的試料(1)，在自試料(1)上方關(guān)閉試料罩(6)而遮蔽圍住試料(1)之后，對試料(1)的下面照射X射線而進(jìn)行分析的熒光X射線分析方法，其中，在試料(1)放置在試料臺架(2)上并關(guān)閉試料罩(6)的情況下，由試料罩檢測機(jī)構(gòu)(8)檢測出試料罩(6)已關(guān)閉，就自動地從X射線源(3)照射X射線而開始進(jìn)行分析。
文檔編號G01N23/223GK1965228SQ20058001328
公開日2007年5月16日 申請日期2005年4月25日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月28日
發(fā)明者巖本洋, 谷美幸, 久角隆雄, 巖田進(jìn)裕, 坂口悅美 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社