專利名稱：沖壓探頭的制作方法
沖壓探頭技術(shù)領域0001本發(fā)明涉及一種根據(jù)權(quán)利要求l前序部分的特征的沖壓探頭。
背景技術(shù)：
0002這禾中類型的一個沖壓探頭是公知的，例如EP0198197A2中所公開的。0003該已知沖壓探頭有如下缺點M—個輸送t^接到實際壓力 傳感器的多個開口部分地指向流動的相反方向，并因此同樣通過流動傳輸?shù)?外來物質(zhì)能夠itA這些開口 ，因雌成測量偽值。0004由于多個開口在將壓力傳遞給實際壓力傳感器的輸送管的側(cè)面 區(qū)域內(nèi)的安排，夕卜來物質(zhì)幾乎不可能會自己再次離開傳輸管。事實上，外來物質(zhì)很可能會繼續(xù)保留在傳輸管內(nèi)并_&7乂久土雌成湖糧的錯誤結(jié)果。發(fā)明內(nèi)容0005本發(fā)明的一個目的是提供一種沖壓探頭，在該沖壓探頭中原則 上ffi31建設性措施斷氏了外來物質(zhì)進入多個開口的可能性。0006另一個目的是劍共一種沖壓探頭，在該沖壓探頭中同樣M:建設性措施使得依然m沖壓探頭的夕卜來物質(zhì)有可能以簡單的方式再次離開。0007高級目的是確保沖壓探頭在較長期間的測量準確性，即使在測量的流體中有外來物質(zhì)。0008根據(jù)本發(fā)明ffiil權(quán)利要求l的特征部分可以實現(xiàn)這個目的。0009多個開口和在測量過程中占優(yōu)勢的流動的方向成一定角度的安排防止了混入的外來物質(zhì)被帶到傳輸管內(nèi)部。0010從屬權(quán)利要求涉及本發(fā)明的發(fā)展和/或具體的優(yōu)化。0011導致發(fā)展出本發(fā)明的考慮是基于以下事實壓力作用在所有方向上并且，為了探測沖壓，M:—個傳輸管向?qū)嶋H壓力傳感器傳遞沖壓的開口不需要指向流動的方向。因此如果所述開口設置在一個沖擊表面附近就足 夠了。


及具體實施方式
0012下面參考附圖更詳細地解釋本發(fā)明。0013圖l示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的一個沖壓觀糧儀l的橫截面，該沖壓 觀懂儀延伸到一個管2中。介質(zhì)在所述管2中在方向S上運動。沖壓傳感器2具 有與流動的方向相反的多個開口3和在流動的方向上的一個開口4。0014在公知的方式中，在一方面的多個開口3和在另一方面的開口4 之間有一個壓差，該壓差取決于介質(zhì)的流動速率?；烊虢橘|(zhì)中的外來物質(zhì)5 可以進入多個開口3，然后落入到?jīng)_壓傳感器內(nèi)的底部6并在此積聚或在沖壓傳感器內(nèi)隨機四處打轉(zhuǎn)。0015這可以導致沖壓傳殿l的測量特性的不希望的改變。0016圖2示出了根據(jù)本發(fā)明延伸入一個管8中的一個沖壓測量儀7的橫截面。介質(zhì)同樣在戶;M管8中在方向s上運動。0017流動/流ffii量儀有兩個開口9a^9b，戶做兩個開口9aSl9b在所 示的實例中朝下。開口9W卩9b被一個表面區(qū)域分隔開。這個表面區(qū)域起到一 個差壓增加元件ll的功能并且可以有不同的形狀以便實現(xiàn)這個功能。在所示 的示例中，所述差壓增加元件ll被設計成一個平表面。0018所述介質(zhì)S沖擊作用于差壓增加元件ll。在介質(zhì)所沖擊作用的表 面附近，由于沖壓產(chǎn)生了壓力增加。隨介質(zhì)繞差壓增加元件ll流動，它的速 度按一種已知的方式增加并因此一個負壓在差壓增加元件ll背對流動的那側(cè) 上占優(yōu)。0019這些開口9a^9b被安排成使開口9a位于壓力增加的區(qū)域內(nèi)而開 口9b位于壓力減少的區(qū)域內(nèi)，并且由于流動介質(zhì)及其作用于差壓增加元件ll 的沖擊，在兩個開口9a、 9b之間產(chǎn)生一個壓差。這個壓差取決于流動速率。0020這些開口9aSl9b各自形成獨立傳輸管10aSn0b的末端，在傳輸 管10魂10b的另一端設置了多個傳感器用于觀糧壓差。這些傳感器位于傳輸 管8的外部并且在此沒有被圖釋。0021圖3示出了從流動介質(zhì)要沖擊的方向觀察的一個沖壓傳感器的可 能示例性實施例。該沖壓傳感器有一個外殼12，壓力傳感器位于該外殼中。當壓力傳感器 使用時，這個外殼位于流動介質(zhì)外部。接觸介質(zhì)的壓力傳感器的部分，即探頭13，向下伸出到這個外殼之外。0022位于探頭13的較低端的尉旨向下的多個開口。在這個視圖中僅 能看到一個開口14a。探頭13在它的近端有一個表面區(qū)域，如參考圖2已解釋 的，該表面區(qū)域作為差壓增加元件16。0023圖4所示是沿線IV的一個截面。在這個圖示中，現(xiàn)在也可以看到 通向外殼12內(nèi)實際壓力傳感器(這里未示出)的傳輸管15aSU5b。 一個差壓 增加元件16被安排在多個傳輸管之間。這個差壓增加元件16從傳輸管15a和 15b之間突出。流動S沖擊作用于差壓增加元件16上并且產(chǎn)生一個沖壓，該沖 壓通過開口 14a^]傳輸管15a到達壓力傳感器。0024差壓增加元件16有一個分隔邊緣17。在差壓增加元件16背離流 動的那側(cè)上產(chǎn)生負壓。這個負壓的值可以通過另一個壓力傳感器進行探測。 這個壓力傳感劉立于傳輸管15b的另一端。0025該沖壓測量儀雌地被安裝在這樣一個位置使得沖壓探頭13 基本垂直地向下。該安對立置導致沖擊介質(zhì)產(chǎn)生沖壓，而不用iM開口14a被 直接推入傳輸管15a。0026就混入到流動中的夕卜來物質(zhì)沖擊探頭13的禾Mit來說，它們首先 和差壓增加元件16接觸，接著從后者回彈。0027基本垂直向下的安對立置也導致這些回彈的外來物質(zhì)由于重力 下落并且同樣防止它們進入開口 14a。0028然而，如果一種外來物質(zhì)依然由于渦旋的產(chǎn)生而M31開口14進 入輸送管15，則輸送管14的圓錐形的外形導致外來物質(zhì)經(jīng)常碰撞輸送管壁， 該錐形外形在壓力傳感器的方向上不斷變窄；所述壁仿佛"頭在前"地延伸 并因itb(t沉積物提供了極少的在壁上沉積的附著點。0029輸送管15的直徑尺寸做成使得在液體外來物質(zhì)的情況下不會產(chǎn)生毛細管吸引。
權(quán)利要求
1.一種沖壓探頭，該沖壓探頭包括-兩個輸送管，所述兩個輸送管彼此分開并且其一端通向一個壓力測量傳感器；-一個流體力學的差壓增加元件；-在每個所述輸送管的相應的另一端的一個開口，這些開口被安排在不同位置，在所述位置間由于所述差壓增加元件的作用而產(chǎn)生與流動流體的動態(tài)壓力值相比差壓的一個較大值，其特征在于所有開口(4a、4b)被安排成使垂直軸以相對于在測量過程中占優(yōu)勢的流動的方向(S)成一定角度延伸通過開口表面。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的沖壓探頭，其特征在于提供了一個差壓增加元件，混入所述流動中的外來物質(zhì)沖擊該差壓 增加元件并且從該差壓增加元件上回彈。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的沖壓探頭，其特征在于 所述多個開口 (4a、 4b)被定向為使沉積在多個輸送管(5a、 5b)中的外來物質(zhì)可以以遵循重力的方式離開所述多個輸送管(5a、 5b)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的沖壓探頭，其特征在于 所述多個輸送管(5a、 5b)有一個圓錐形延伸的橫截面并且該橫截面在所述多個開口 (4a、 4b)的區(qū)域內(nèi)比在通向所述壓力測量探頭的所 述多個輸送管(5a、 5b)的那端大。
5. 根據(jù)前述權(quán)利要求1至3中任一權(quán)利要求所述的沖壓探頭，其特 征在于所述差壓增加元件(6)有一個分隔邊緣。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1至3所述的沖壓探頭，其特征在于所述差壓增加元件(6)被安排在所述多個輸送管(5a、 5b)的多個 軸之間，以便它突出到所述多個輸送管的所述多個開口 (4)夕卜。
7. 根據(jù)前面權(quán)利要求1至3中任--權(quán)利要求所述的沖壓探頭，其特 征在于所述差壓增加元件(6)有用于所述流動流體的一個路徑延伸部。
8. —種包含如權(quán)利要求1至中任一權(quán)利要求所述的沖壓探頭的沖壓 測量儀，其特征在于-所述沖壓探頭被插入到一個閉合的輸送管內(nèi)，以便穿過所述開口表 面的所述垂直軸相對于在測量過程中占優(yōu)勢的流動的所述方向(S)成一 定角度延伸。
9. 一種包含如權(quán)利要求1至中任一權(quán)利要求所述的沖壓探頭的沖壓 測量儀，其特征在于所述沖壓探頭可插入到一個敞開的輸送管內(nèi)，以便所述探頭位于流 動介質(zhì)中并且通過所述多個開口的所述開口表面的所述垂直軸以相對于 在測量過程中占優(yōu)勢的流動的所述方向(S)成一定角度延伸。
全文摘要
有兩個輸送管的沖壓探頭，其中兩個輸送管彼此分開并且它們的一端通向一個壓力測量傳感器，該沖壓探頭有一個流體差壓增加元件并且在每個輸送管相應的另一端有一個開口，所述多個開口被安排在不同的位置，在這些位置間由于差壓增加元件的作用而產(chǎn)生的差壓值高于流動流體的動態(tài)壓力值，并且所有這些開口(9a、9b)被安排成如下方式垂直軸與在測量過程中占優(yōu)勢的流動的方向(S)成一定角度穿過開口表面。
文檔編號G01F1/46GK101253394SQ200580051063
公開日2008年8月27日 申請日期2005年7月14日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月14日
發(fā)明者O·貝茨 申請人:西斯泰克控制測量及工程股份有限公司