專利名稱：歧管組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體上涉及一種自動(dòng)組織處理系統(tǒng)，尤其涉及一種用于組織處理系統(tǒng)的歧管組件。
背景技術(shù)：
組織處理器可被以各種自動(dòng)化程度操作，以對(duì)用于組織和病理使用的人或者動(dòng)物組織樣本進(jìn)行處理。各種類型的化學(xué)試劑可被用在組織處理的各個(gè)階段，并且已研制出用來將試劑傳送到樣本保持玻片上的各種系統(tǒng)。已知的試劑傳送系統(tǒng)的示例包括少量釋放分配器、手動(dòng)傾倒到試劑桶或者通過管與處理器相連的散裝容器中。
已知系統(tǒng)具有各種缺點(diǎn)。例如，手動(dòng)地傾倒或排放，試劑桶遭受各種不便，即，耗時(shí)和要求傾倒精度、降低組織處理系統(tǒng)的整個(gè)效率。另一個(gè)缺點(diǎn)在于，手動(dòng)地傾倒和排放試劑不清潔，需要清潔濺出物并因而導(dǎo)致需使儀器停機(jī)。另一個(gè)缺點(diǎn)在于，選擇正確的試劑要求操作者的觀注和準(zhǔn)確性，增大了試劑使用錯(cuò)誤的可能性，因而降低了測(cè)試精度并且降低操作效率。
在自動(dòng)系統(tǒng)中也存在缺點(diǎn)。在處理過程中需要選擇試劑并將之投放到玻片上。需要頻繁地借助于重力傳送試劑，該重力促進(jìn)從上進(jìn)行分配。這樣的傳送系統(tǒng)要求用于試劑傳送的專用裝置，例如專用試劑分配器，或者驅(qū)動(dòng)器，或者自動(dòng)吸液系統(tǒng)。這樣的系統(tǒng)具有多個(gè)缺點(diǎn)，例如提供和分配試劑所需的工作量，在處理期間的蒸發(fā)或者污染的可能性以及在處理少量的多種試劑時(shí)的困難。
在美國專利No.5,338,358中披露了一種已知的用于染色組織的玻片保持盤和系統(tǒng)，該專利的內(nèi)容在此被引入作為參考。如該系統(tǒng)所示的，提供一臺(tái)板并且各種安裝元件被設(shè)置用來將玻片裝在滑動(dòng)盤上。示出了用于五個(gè)玻片的空間。反應(yīng)室被設(shè)置在臺(tái)板表面和安裝在盤上的玻片之間。試劑被借助滴落面和伴隨的毛細(xì)作用導(dǎo)入反應(yīng)室。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明通過提供一種其中流體導(dǎo)管被直接蝕刻在歧管中的歧管組件而在很大程度上減少已知的自動(dòng)組織處理系統(tǒng)的缺點(diǎn)。歧管優(yōu)選地由耐蝕聚合材料形成的兩件構(gòu)成。每個(gè)材料件具有蝕刻在其中的匹配槽。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，槽被機(jī)加工在每件歧管中。當(dāng)各件連接在一起時(shí)，槽彼此面對(duì)，形成導(dǎo)管，從而流體可穿過歧管的長度。可通過例如箝位、粘結(jié)、焊接或者其它已知的機(jī)械緊固技術(shù)將各件連接在一起。對(duì)兩個(gè)材料件進(jìn)行蝕刻并通過將這些件相連形成導(dǎo)管的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于導(dǎo)管可達(dá)到精確的公差。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面，歧管設(shè)置有被單獨(dú)控制的多個(gè)閥。該閥可由控制器控制，該控制器以形成從供應(yīng)瓶到特定盤、或者從特定盤到期望的廢物瓶的直接通道的方式對(duì)每個(gè)閥進(jìn)行定位。
在一個(gè)實(shí)施例中，控制器接收關(guān)于一個(gè)或者多個(gè)染色程序的指令，該染色程序指示設(shè)置在盤中的組織樣本如何由中央處理器處理。然而，優(yōu)選地，控制器從中央處理器下載這些指令，并將這些指令存儲(chǔ)在本地存儲(chǔ)器上。這可使自動(dòng)組織處理系統(tǒng)與中央處理器獨(dú)立地進(jìn)行操作。
在一個(gè)實(shí)施例中，流體和/或試劑被引入，和/或從下面排出。例如，一個(gè)或者多個(gè)流體進(jìn)入端口或者入口被設(shè)置在歧管中，可選擇地，一個(gè)或者多個(gè)流體排放端口或者出口也被設(shè)置在歧管中。優(yōu)選地，入口和排放口通常在歧管的相對(duì)端，以便形成從歧管的一端到另一端的流體流梯度。
可設(shè)置具有相應(yīng)的入口和出口的樣本保持盤，例如顯微鏡玻片保持盤。當(dāng)玻片被定位在盤中時(shí)，在從一端到另一端形成流體流梯度的情況下，在玻片和盤之間可形成反應(yīng)室。在一個(gè)實(shí)施例中，每個(gè)流體入口和排放口具有多個(gè)相對(duì)較小的孔，從而它們可以用作過濾器?？蛇x擇地，過濾器可被定位在端口處。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面中，盤的中央部分被升高到盤的底面上方。在升高部分的側(cè)壁、盤的外壁和盤的底部之間形成的空間能容納來自升高部分的流體溢流。這樣的流體被通過排放口排出。
在本發(fā)明的又一個(gè)方面中，歧管組件設(shè)置有獨(dú)立操作的加熱器，以將設(shè)置在歧管組件上的每個(gè)盤加熱到所需溫度，其中每個(gè)所需溫度不同。熱電冷卻器也可被設(shè)置以冷卻加熱器和/或盤的部分。
接合其中相同附圖標(biāo)記表示相同部件的附圖，從本發(fā)明以下的詳細(xì)說明中將會(huì)理解本發(fā)明的這些或者其它的優(yōu)點(diǎn)。


圖1為根據(jù)本發(fā)明的適于與一個(gè)或者多個(gè)玻片保持盤一起使用的組織處理系統(tǒng)的俯視圖；圖2為圖1的組織處理系統(tǒng)的側(cè)視圖；圖3為描述根據(jù)本發(fā)明的制造玻片保持盤的方法的流程圖；圖4為描述根據(jù)本發(fā)明的使用玻片保持盤的方法的流程圖；圖5為根據(jù)本發(fā)明的歧管組件的局部分解圖；圖6為根據(jù)本發(fā)明的歧管組件的分解圖；圖7為根據(jù)本發(fā)明的示出流體通路的歧管組件的一個(gè)實(shí)施例的俯視圖；圖8為根據(jù)本發(fā)明的歧管組件的一個(gè)示例的流體通路和閥的示意圖；
圖9A和9B為根據(jù)本發(fā)明的組織處理系統(tǒng)的可選實(shí)施例的管道示意圖；圖10為根據(jù)本發(fā)明的組織處理系統(tǒng)的示意圖；圖11為根據(jù)本發(fā)明的供應(yīng)/廢物容器的透視圖；圖12為根據(jù)本發(fā)明的與組織處理系統(tǒng)的一部分相連的供應(yīng)/廢物瓶的透視圖；圖13為根據(jù)本發(fā)明的組織處理系統(tǒng)的方框圖；圖14為描述根據(jù)本發(fā)明的試劑分配系統(tǒng)的初始化程序的流程圖；圖15為描述根據(jù)本發(fā)明的試劑分配系統(tǒng)的中斷事件程序的流程圖；圖16為描述運(yùn)行根據(jù)本發(fā)明的試劑分配系統(tǒng)的子步驟的協(xié)議的流程圖；以及圖17為描述根據(jù)本發(fā)明的整個(gè)程序的流程圖。
具體實(shí)施例方式
在下面的段落中，參照附圖通過示例的方式描述本發(fā)明。在整個(gè)說明書中，示出的優(yōu)選實(shí)施例和示例被認(rèn)為是范例，而不是對(duì)本發(fā)明的限定。如在這里使用的，“本發(fā)明”是指在此描述的發(fā)明的任何一個(gè)實(shí)施例和任何等同物。另外，在整個(gè)文件中對(duì)“本發(fā)明”的各個(gè)零件的引用并不意味著所有要求保護(hù)的實(shí)施例或方法必須包括所提及的零件。
參照?qǐng)D1和2描述適于與一個(gè)或多個(gè)玻片或樣本保持盤20一起使用的組織處理系統(tǒng)10。系統(tǒng)10包括流體分配裝置30，該流體分配裝置30具有多個(gè)其中可安裝流體分配筒50的工作站40。在美國專利申請(qǐng)序列號(hào)No.10/639,021中描述了包括多個(gè)流體分配筒50的流體分配裝置，該文獻(xiàn)的全部內(nèi)容在此被引入作為參考?；蛘撸缈墒褂迷诿绹鴮＠鸑o.5,338,358中所描述的使用管或者吸量管的流體分配系統(tǒng)。工作站40包括選擇性地將多個(gè)流體分配筒50定位在致動(dòng)器組件70附近的安裝口60，致動(dòng)器組件70被用于起動(dòng)從試劑分配器80噴射所需量的流體，例如二次試劑(secodary reagent)或者脫臘流體。
玻片保持盤20通常被定位在流體分配裝置30的下方，該流體分配裝置30利用重力將來自筒50的流體輸送到期望的玻片保持盤20的滴注面上。優(yōu)選地，流體分配裝置30和玻片保持盤20可相對(duì)彼此運(yùn)動(dòng)，從而多個(gè)筒50可被定位，以將流體分配在任何期望的盤20上?？梢赃x擇流體分配裝置30和玻片保持盤20的任何可動(dòng)的組合。例如，兩個(gè)都可以動(dòng)或者一個(gè)可動(dòng)而另一個(gè)靜止。玻片保持盤20可都承載相同類型的物品，例如玻片或者交替的玻片和/或樣本容器。
在組織處理系統(tǒng)10的操作示例中，使流體分配裝置30轉(zhuǎn)動(dòng)，從而單個(gè)筒50可選擇性地定位在致動(dòng)器組件70的附近?；蛘撸聞?dòng)器組件可如此定位在各筒50的附近，即，不需要轉(zhuǎn)動(dòng)流體分配裝置30。致動(dòng)器組件70可為起動(dòng)筒50以噴出可控制量的流體的任何致動(dòng)裝置。優(yōu)選地，流體分配裝置可被相對(duì)于玻片保持盤20移動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)，從而單個(gè)筒50可被選擇性地定位在任何盤20的上方。一旦筒50被定位在玻片保持盤20的上方，致動(dòng)器組件70起動(dòng)筒20以將控制量的流體噴在盤20上。
致動(dòng)器組件70可選地包括三個(gè)致動(dòng)器90、100和110，分別用于將流體分配在三列容納構(gòu)件120、130和140上。在操作中，致動(dòng)器90被用來將流體分配于在列120中設(shè)置的玻片保持盤20上，致動(dòng)器100被用來將流體分配于在列130中設(shè)置的玻片保持盤20上，而致動(dòng)器110被用來將流體分配于在列140中設(shè)置的玻片保持盤20上。當(dāng)然，如本領(lǐng)域的技術(shù)人員所了解的，在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可采用任何數(shù)量的致動(dòng)器和/或玻片保持盤。
在優(yōu)選實(shí)施例中，流體分配裝置30被如此地以可轉(zhuǎn)動(dòng)的方式安裝在支撐構(gòu)件150上，即，筒50可相對(duì)于致動(dòng)器組件70轉(zhuǎn)動(dòng)。致動(dòng)器組件70被固定地安裝在支撐構(gòu)件150上，可選地在流體分配裝置30的下方。優(yōu)選地，支撐構(gòu)件150可如此地水平移動(dòng)，即，筒50相對(duì)于盤20既可轉(zhuǎn)動(dòng)又可移動(dòng)。這樣，任何筒50可被選擇性地定位在任何玻片保持盤20的上方。
玻片保持盤20優(yōu)選被安裝在彈簧加載的加熱/冷卻墊160上，由此提供可選擇地和/或獨(dú)立地加熱和/或冷卻玻片。另外，加熱/冷卻墊160可獨(dú)立地加熱臺(tái)或者臺(tái)板區(qū)域和凹部區(qū)域。在一個(gè)實(shí)施例中，每個(gè)盤具有相應(yīng)的加熱和/或冷卻元件160，使盤保持在特定的所需溫度。在可選實(shí)施例中，每個(gè)盤具有兩個(gè)或更多的加熱和/或冷卻元件。優(yōu)選地，盤被安裝在安裝表面170上。
組織處理系統(tǒng)10可選地包括供應(yīng)瓶180、排放容器190和流體傳送歧管200。供應(yīng)瓶180可被用于容納流體，例如用于沖刷或者沖洗在玻片和臺(tái)板之間的間隙的水。流體傳送歧管200優(yōu)選地包括用于引導(dǎo)通過流體入口和導(dǎo)管供給的流體流的閥和開關(guān)。另外，流體傳送歧管包括用于將多余的流體流和廢物從流體排放口和導(dǎo)管引導(dǎo)至排放或者廢物容器190的閥和開關(guān)。
如圖1和2所示，中央處理器210與組織處理系統(tǒng)10相聯(lián)系。中央處理器210提供關(guān)于特定組織將被如何處理的次序。這些次序也提供關(guān)于控制閥的指令，從而所需試劑被提供給特定的組織。
現(xiàn)在參照?qǐng)D3對(duì)根據(jù)本發(fā)明原理的制造玻片保持盤20的方法進(jìn)行說明。如圖表所示的方框300那樣，開始步驟包括制造玻片保持盤20。根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，玻片盤20由注塑而形成所需的結(jié)構(gòu)形狀的聚合材料制成。然而，如本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所了解的，在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可使用任何制造方法或者選擇可得到所需結(jié)構(gòu)零件的材料。
參照方框310，下一步驟包括將所需量的凝膠分配到凝膠保持區(qū)域中。例如，預(yù)定量的凝膠可通過在凹部的底面中的孔引入，或者可選地從上面引入。在充滿凹部之后，通過施加條帶或者其它覆蓋物來密封可選的孔。如方框320以圖表示出的，下一步驟包括密封凹部?？蛇x擇任何形式的密封，該密封可將凝膠保持就位并且減小蒸發(fā)和/或流動(dòng)性損失。例如，可采用以上描述的機(jī)械密封。參照方框330，下一步驟包括可選地將標(biāo)識(shí)施加到玻片保持盤20上。
現(xiàn)在參照?qǐng)D4對(duì)使用根據(jù)本發(fā)明原理的玻片保持盤20的方法進(jìn)行說明。如圖表示出的方框420那樣，開始步驟包括基于容納在其中的凝膠或試劑的類型選擇玻片保持盤20。當(dāng)然，容納在單個(gè)盤20中的凝膠(即，試劑)的類型是取決于將要在組織樣本上進(jìn)行的試驗(yàn)類型。換句話說，選擇滑動(dòng)保持盤20的開始步驟可包括確定將在組織樣本上進(jìn)行的試驗(yàn)類型的步驟。如圖表示出的方框430那樣，下一步驟包括可選地輸入與試劑、盤等相關(guān)的數(shù)據(jù)。例如，可選地讀取在盤上的標(biāo)識(shí)，例如刷條形碼。也可使用標(biāo)識(shí)盤的其它方法，例如機(jī)器可識(shí)別的盤零件，例如突出的圖案或者尺寸、形狀等。盤的標(biāo)識(shí)可選地標(biāo)識(shí)出容納在盤中的試劑?；蛘?，例如通過鍵盤的手動(dòng)輸入或者例如通過語音識(shí)別軟件的口頭輸入將識(shí)別信息輸入與處理系統(tǒng)相連的存儲(chǔ)器。在可選實(shí)施例中，也可通過例如鍵盤輸入、語音識(shí)別輸入、機(jī)器識(shí)別符或者形狀輸入玻片信息。如上所述，玻片面朝下定位在盤20上，因此，當(dāng)玻片被定位在盤上或者定位在處理儀器中時(shí)，最好不讀取標(biāo)識(shí)。在另一個(gè)非優(yōu)選的實(shí)施例中，可讀取玻片標(biāo)識(shí)。如圖表示出的方框450所示，下一步驟包括將密封從盤20上揭掉，由此露出凹部。參照方框460，下一步驟包括將玻片定位在盤20上。優(yōu)選地，使玻片如此定位，即，組織樣本被布置在玻片和臺(tái)板之間。
如圖表示出的方框470所示，下一步驟包括將玻片保持盤20可選地定位在有彈簧加載的加熱/冷卻墊160上。
如圖表示出的方框480所示，下一步驟包括液化試劑基質(zhì)(例如，凝膠)。該步驟可包括加熱以形成熔化物的步驟?；蛘?，基質(zhì)可被溶解在溶劑中，該溶劑被加入凹部中以使基質(zhì)溶解。因此，液化基質(zhì)的步驟可選擇地包括使用溶劑使凝膠溶解的步驟。參照方框490，下一步驟包括使包含基質(zhì)的液化試劑流過滴落面進(jìn)入在臺(tái)板和玻片之間的間隙。該步驟可通過將凹部構(gòu)造得比滴落面和間隙高而借助重力來完成。例如，玻片盤可被如此地構(gòu)造或者安裝，即，滴落面從試劑凹部朝向間隙向下傾斜。參照方框500，下一步驟可選地包括采用洗滌液沖洗間隙，以制備用于后續(xù)組織處理步驟的組織樣本。如圖表示出的方框501所示，下一步驟可選地將額外的試劑從流體分配裝置30分配到滴落面上。參照方框502，下一步驟包括將廢物和過剩流體從盤通過流體返回導(dǎo)管抽到廢物容器中。
進(jìn)一步參照?qǐng)D4，在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可以任何次序進(jìn)行由方框430、450、460和470所示的步驟。另外，在將玻片定位在盤上的步驟(方框460)之后，可可選地進(jìn)行輸入盤信息430的步驟，并且這兩個(gè)步驟都可以去掉。另外，可在基于其中容納的凝膠的類型選擇盤20的開始步驟(400)之后的任何時(shí)候進(jìn)行將密封件從盤20上揭掉的步驟(方框430)。
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的歧管組件500。歧管組件500包括臺(tái)板510，該臺(tái)板形成歧管組件500的頂部并提供了用于附加的歧管組件元件的安裝表面。臺(tái)板510可包括多個(gè)盤安裝元件530。盤安裝元件530是允許玻片盤可拆卸地安裝并定位在臺(tái)板510上的零件。例如，安裝元件530可為槽，該槽被構(gòu)造成容納位于玻片保持盤550(如所示)的一側(cè)上的安裝突部540?；蛘?，安裝元件530可為螺紋孔或者無螺紋的孔，該孔容納延伸穿過玻片盤的可拆卸的緊固件(例如螺釘或者銷桿(dowel rod))或者與玻片盤成一體的柱。盤安裝元件530可沿著臺(tái)板510的長度基本上均勻地間隔開，從而盤550被沿著臺(tái)板510的長度均勻地安裝。然而，可以理解的是盤安裝零件可具有任何定向，并且如在本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所了解的那樣不需要均勻間隔開。
歧管520被優(yōu)選地挨著臺(tái)板510下面設(shè)置，并可例如通過緊固件或者例如焊接的方法與其相連。歧管520通常為可由多層板元件構(gòu)成的平面構(gòu)件。歧管520通常包括流體導(dǎo)管網(wǎng)絡(luò)，其被構(gòu)造成將試劑或者其它流體供應(yīng)到玻片盤或者用于從玻片盤排出試劑或者其它流體。在一個(gè)實(shí)施例中，流體槽被直接蝕刻在每個(gè)歧管元件中，這些元件被如此堆疊在一起，即，流體槽組合形成延伸通過歧管520的流體導(dǎo)管。歧管優(yōu)選由耐蝕的聚合材料形成的兩個(gè)板構(gòu)成。例如，這些板可通過箝位、粘結(jié)、焊接或者其它已知的機(jī)械緊固技術(shù)連接。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，歧管520由兩(2)個(gè)機(jī)加工材料件形成。該材料可為任何材料，在該材料中，可機(jī)械蝕刻(例如通過機(jī)加工)出槽，以形成所需的通道，并且通過該通道路過流體。優(yōu)選地，材料為聚合物并具有耐腐蝕性，然而，可使用任何這樣類型的材料。兩個(gè)材料件優(yōu)選具有相匹配的機(jī)加工通道，從而當(dāng)兩個(gè)件被連接在一起時(shí)，各通道形成一個(gè)槽。這些件可通過粘接(例如粘合劑)、箝位、焊接或鉚接等連接在一起。以這樣方式形成歧管的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，可實(shí)現(xiàn)槽的精確公差。合適材料的示例包括丙烯酸類、DELRIN(E.I.du Pont de Nemours and Co.of Wilmington，DE的注冊(cè)商標(biāo))和ULTEM(General Electric Co.of Pittsfield，MA的注冊(cè)商標(biāo))以及不銹鋼。
加熱器560可設(shè)置用來加熱安裝在臺(tái)板510上的盤550的任何所需部分。如所示出的，加熱器560可包括與加熱元件形成一體的由熱傳導(dǎo)材料制成的加熱墊。加熱元件可被模制在加熱墊中或者被安裝在加熱墊的任意表面上。加熱墊可由本技術(shù)領(lǐng)域已知的在何材料，例如聚合物或者金屬構(gòu)成，可由本技術(shù)領(lǐng)域已知的任何方法或者方法的結(jié)合來制造，例如模制和/或機(jī)加工?？砂魏晤愋偷募訜嵩?，例如電阻加熱絲或者電熱絲式加熱器。
加熱器560可通過一個(gè)或多個(gè)彈簧570而以彈簧加載，并被構(gòu)造成插入延伸通過臺(tái)板510和/或歧管520的孔。加熱器560還可包括防止加熱器560在沒有盤550時(shí)完全穿過孔的保持突部。彈簧570有助于確保，當(dāng)加熱器560被安裝在臺(tái)板并固定在安裝元件530上時(shí)，加熱器560被壓至與盤550的底面相鄰。另外，保持突部可變形，并且加熱器560可被彈簧570偏壓，以有利于將加熱器560從歧管組件500上拆除。
加熱器560可被以任何所需的方式定位在歧管組件500中。優(yōu)選地，加熱器560被基本上均勻隔開并定位，從而它們位于安裝在歧管組件500上的盤550的中央部分的下面。可以理解，任何數(shù)量的加熱器560可被設(shè)置用來加熱在任何盤550上的一個(gè)或多個(gè)位置。例如，加熱器可被設(shè)置在盤的試劑凹部附近，并且分離的加熱器可被設(shè)置用來加熱盤550的中央部分。
加熱器560可被獨(dú)立或者集體地控制。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，加熱器560被獨(dú)立地操作，從而每個(gè)盤550可被同時(shí)加熱到不同溫度。或者，加熱器可被集體地控制以將所有盤加熱到共同溫度。作為另一種選擇，加熱器可被分組，從而第一組加熱器可被加熱到第一溫度，而第二組加熱器可被加熱到第二溫度，并且它們可根據(jù)所需分組。
一個(gè)或者多個(gè)冷卻組件還可被包括在歧管組件500中。在一個(gè)實(shí)施例中，通過熱電冷卻器(TEC)組件580提供冷卻。TEC580可被用來冷卻每個(gè)盤550的一部分，例如設(shè)置在盤550中的試劑凹部(如上所述)。與加熱器560類似，TEC580可被插入延伸通過歧管520和臺(tái)板510的孔。TEC580還可被彈簧590偏壓，以有助于確保在TEC與安裝在歧管組件500上的盤550之間的接觸。一個(gè)或多個(gè)保持突部可被設(shè)置在TEC580上，從而當(dāng)盤550沒有被安裝在歧管組件550上時(shí)，TEC不會(huì)完全通過孔。保持突部可變形，以允許TEC從歧管組件500上分離，并且彈簧590的偏壓有助于TEC580從歧管組件500上拆除。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，TEC580可被基本上均勻地間隔開，從而TEC580被設(shè)置成與盤550的凝膠容納部分或者試劑凹部相鄰并且基本上與盤550對(duì)準(zhǔn)?？梢岳斫猓琓EC580可由其它冷卻機(jī)構(gòu)替代。例如，歧管組件500可包括用于傳送冷卻液的導(dǎo)管。冷卻導(dǎo)管可被構(gòu)造為將冷卻液傳送到要求冷卻的歧管的任何部分。
流體入口600和出口610被設(shè)置在臺(tái)板510和歧管520中。在臺(tái)板510中的入口600被構(gòu)造成與設(shè)置在歧管520中的相應(yīng)入口600和設(shè)置在盤550中的入口端口相匹配。類似地，在臺(tái)板510中的出口610被構(gòu)造成與設(shè)置在歧管520中的出口610和設(shè)置在盤550中的出口端口相匹配。優(yōu)選地，一個(gè)入口600和一個(gè)出口610被如此設(shè)置并定位，即，它們與包括在各盤550的相對(duì)端上的入口和出口端口相對(duì)應(yīng)。如圖5所示，這樣的結(jié)構(gòu)還與定位在各加熱器560的相對(duì)端部上的入口600和出口610相對(duì)應(yīng)。
如上所述，在臺(tái)板510和歧管520中的入口600和出口610被如此設(shè)置，即，它們與設(shè)置在玻片容納盤550中的孔或者端口基本上對(duì)準(zhǔn)。通過采用盤孔使臺(tái)板510和歧管520中的入口600和出口610基本上對(duì)準(zhǔn)，形成了在臺(tái)板510、歧管520和盤550之間的完全流體連通。為每一入口600和出口610分別設(shè)置了入口接頭620和出口接頭630。入口接頭620和出口接頭630提供了一機(jī)構(gòu)，用于形成在盤孔之間與臺(tái)板510和歧管520中的入口600和出口610的更保險(xiǎn)的流體連接。這加強(qiáng)了在臺(tái)板510、歧管520和盤550之間的流體連通。
閥640可被設(shè)置用來控制通過入口600和出口610的流體流。閥640被用來將流體流通過歧管520導(dǎo)向(稍后詳細(xì)說明)各入口600和出口610。根據(jù)閥640是否設(shè)置在入口600或者出口610處，閥640可分別為供應(yīng)閥或者排放閥。閥640優(yōu)選被直接地安裝于在歧管組件500的頂部的歧管520上。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，閥640為三通電磁閥。然而，可以使用任何類型的閥，包括電磁閥、球閥或者隔膜閥，并且這些閥可被構(gòu)造成如所需地正常關(guān)閉或者正常打開定位。優(yōu)選地，閥被如此地構(gòu)造，即，閥的打開和關(guān)閉通過控制器以電力方式控制。還可以理解，閥可被以本技術(shù)領(lǐng)域中已知的任何方式致動(dòng)，例如電力地、氣動(dòng)地、液壓地或者它們的組合。
滴落框架650可被包含在歧管組件500中，以防止在流體從歧管520、閥640或盤550中漏出的情況下?lián)p壞。特別地，滴落框架650可被用來防止凝膠、試劑或者其它溶液或者流體泄漏到控制面板710(下面進(jìn)一步詳細(xì)描述)上。滴落推架650可在歧管組件500中被定位于閥640的下方。利用例如多個(gè)支腳660和機(jī)械緊固件將滴落框架650與歧管520相連接。支腳660可包括被插入設(shè)置在滴落框架650中的安裝孔的安裝末端(參照?qǐng)D6進(jìn)一步詳細(xì)描述)。滴落框架650可由在本技術(shù)領(lǐng)域中已知的任何材料，例如聚合物或者金屬構(gòu)造而成。優(yōu)選地，滴落盤材料具有對(duì)在組織處理裝置中使用的試劑或者其它化合物的耐蝕性。
入口600被設(shè)置在臺(tái)板510的一端處，出口610優(yōu)選地位于臺(tái)板510的另一端處。通過將在臺(tái)板510上的入口600和出口610從空間上分開，壓力梯度可被導(dǎo)入到盤550的反應(yīng)室部分中，從而加速在入口600和出口610之間的流體流。在所示的實(shí)施例中，入口600位于加熱器560的與TEC580相鄰的端部處，出口610位于加熱器560的相對(duì)端處。通過將入口600定位在TEC580附近，引入反應(yīng)室的所有流體可被從相同的端部引入，從而沿著一個(gè)方向促進(jìn)流體流并簡化通過歧管520的流體導(dǎo)管的布局。另外，在臺(tái)板510上形成一傾角，由此當(dāng)盤550被定位在臺(tái)板550上時(shí)使盤550略微傾斜，由此促進(jìn)由相對(duì)于臺(tái)板的玻片傾角導(dǎo)向的毛細(xì)管現(xiàn)象(即，毛細(xì)管作用)引導(dǎo)流，通過上述方式，可進(jìn)一步沿一方向加快流體流。
任選的緊固件670可被設(shè)置在臺(tái)板510的相對(duì)端處?？商峁┚o固件670以有利于將歧管組件500安裝在組織處理系統(tǒng)上以及從組織處理系統(tǒng)上拆除。緊固件670可為可容易由手操作的指旋螺絲、翼形螺釘或者任何其它緊固件。或者，緊固件670可被構(gòu)造成需要附加工具和/或技工來安裝到歧管組件上，或者從其上拆除。在另一個(gè)實(shí)施例中，歧管組件可利用電力控制的鎖定機(jī)構(gòu)保持在試劑分配系統(tǒng)中?？稍O(shè)置手柄或者其它抓握零件，從而使歧管組件可容易地抓握并從系統(tǒng)上拆除。
起注接頭680也可被設(shè)置在臺(tái)板510和歧管520中。起注接頭680可被用來預(yù)備或者起動(dòng)筒50，以將流體提供給盤550。通過如此抽吸包括在筒50內(nèi)的流體分配組件，即，使在流體分配組件中的任何空氣或者其它污物被排出，而使筒550準(zhǔn)備好。清除分配組件中的空氣和污物可確保在處理期間未受污染流體的選定量從筒50送出。在筒50的起動(dòng)處理期間，流體被從分配組件排入起注接頭680。優(yōu)選地，起注接頭680通常與包括在歧管520的出口端處的盤550上的滴落面的位置對(duì)準(zhǔn)。與入口600和出口610類似，起注接頭680可設(shè)置有起注閥，從而可控制從起注接頭680延伸入歧管520的流體網(wǎng)絡(luò)中的流體導(dǎo)管的打開和關(guān)閉。
圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的歧管組件500的分解視圖。歧管組件500被顛倒地示出。TEC580、閥640和支腳660被安裝在歧管520和歧管臺(tái)板510上。如圖6所示，TEC580被設(shè)置在一側(cè)并且沿著歧管520的長度均勻地間隔開。閥640被設(shè)置在歧管520的與TEC580相對(duì)的一側(cè)，并被如此地定位，即，每個(gè)閥640與入口600或出口610基本上對(duì)準(zhǔn)。
歧管520可包括被構(gòu)造成與在系統(tǒng)中的相應(yīng)流體連接端口相配的流體連接端口，從而歧管組件的供應(yīng)和排放通路可與系統(tǒng)的供應(yīng)和排放導(dǎo)管流體連通。可采用任何連接端口。例如，可在歧管組件和系統(tǒng)二者上的端口之間延伸管道。或者，可利用允許容易與系統(tǒng)一體化和從系統(tǒng)上拆卸的流體連接器。這樣的流體連接器使得維護(hù)容易?？稍O(shè)置可壓縮的構(gòu)件(例如O型圈)來密封在歧管520和系統(tǒng)的連接端口之間的流體連接。
支撐構(gòu)件690可被安裝在多個(gè)支腳660上。支撐構(gòu)件690可被用來支撐面板700，并且也被用來如此支撐滴落框架650，即，滴落框架650與TEC580和閥640間隔預(yù)定距離。支撐構(gòu)件690可被構(gòu)造為安裝在多個(gè)支腳660上的單個(gè)元件(如所示)，或者可包括多個(gè)單個(gè)安裝突部，每個(gè)安裝突部被安裝在單個(gè)支腳660上。支撐構(gòu)件690可包括用于將面板700安裝在歧管組件500中的螺紋孔。分隔件部分也可被包括在支撐構(gòu)件690中，該分隔件部分提供了大體位于TEC580和閥640之間的壁，從而使支撐構(gòu)件690與面板700一起形成冷卻空氣槽。支撐構(gòu)件690可由在本技術(shù)領(lǐng)域中已知的材料，例如聚合物或者金屬構(gòu)造而成，并且它可通過模制、機(jī)加工和/或熱力或者水力形成片狀材料形成。
面板700可被用來形成空氣槽，以允許冷卻空氣在TEC580之間和之中流動(dòng)。面板700可以為例如一條金屬片或者其它材料，其與支撐構(gòu)件690一起形成冷卻空氣室。面板700可通過任何已知的緊固機(jī)構(gòu)，例如螺釘、鉚釘、螺栓、夾具、焊接和軟焊或其它緊固件固定在支撐構(gòu)件上。
周邊控制面板710可被設(shè)置在歧管組件500中。如圖6所示，控制面板710可被安裝在滴落框架650的與TEC580和閥640相對(duì)的一側(cè)上。優(yōu)選地，滴落框架650圍繞控制面板710，從而滴落框架650減小了泄漏到歧管組件中的試劑或其它流體滴落在控制面板710上的可能性。
控制面板710可包括一個(gè)或者多個(gè)控制器，這些控制器可用于控制流過歧管520的流體流、加熱器560的操作、TEC580的操作和/或在歧管組件500中的元件的冷卻。特別地，可通過控制包括在歧管組件500中的各閥640來控制經(jīng)過歧管520的流體流?？刂泼姘?10可單獨(dú)地或者成組地控制加熱器560和TEC580的操作。
控制面板710優(yōu)選包括進(jìn)行組織染色程序的中央處理單元(CPU)720。在其它信息中，染色程序指示將要染色的組織、將要使用的試劑、組織盤的位置、將組織樣本暴露在試劑中的時(shí)間長短和洗滌周期。CPU720可被用于如此控制閥640，即，形成從試劑供應(yīng)容器到所需盤550，或者從特定的盤550到廢物容器的直接流體通路。
圖7示出了通過根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的歧管組件500的歧管520的流體導(dǎo)管的結(jié)構(gòu)。如上所述，歧管組件500設(shè)置有多個(gè)加熱器560、TEC580和控制通過在歧管520中的流體導(dǎo)管的流體流的閥640。在本實(shí)施例中，流體供應(yīng)線路730沿歧管520的長度設(shè)置為與入口600鄰近。供應(yīng)線路730與多個(gè)閥640流體連通，該閥640被稱為供應(yīng)閥，其在入口600附近并與之流體連通。多個(gè)供應(yīng)通路S1-S4被設(shè)置成與在供應(yīng)閥上游的供應(yīng)線路730流體連通。供應(yīng)通路S1-S4提供了在供應(yīng)容器和供應(yīng)線路730之間的流體路徑，并允許系統(tǒng)將試劑或者其它溶液或流體從供應(yīng)容器(在圖9中示出)通過供應(yīng)線路730引導(dǎo)到入口600。在本實(shí)施例中，每個(gè)供應(yīng)通路S1-S4通過多個(gè)閥640與供應(yīng)線路730流體聯(lián)接。如所示出的，供應(yīng)通路S1和S2通過第一閥640與中間供應(yīng)線路I1相連，供應(yīng)通路S3和S4通過第二閥640與第二中間供應(yīng)導(dǎo)管I2相連，中間供應(yīng)導(dǎo)管I1和I2通過第三閥640與供應(yīng)線路730相連。盡管僅四(4)個(gè)供應(yīng)導(dǎo)管被示出，可以使用任意數(shù)量的供應(yīng)導(dǎo)管和閥將流體從任意數(shù)量的供應(yīng)容器供應(yīng)到供應(yīng)線路730。另外，可以理解的是，一個(gè)或者更多供應(yīng)導(dǎo)管可直接延伸到供應(yīng)閥，或者供應(yīng)導(dǎo)管可被分組成多個(gè)供應(yīng)線路，而不是與單個(gè)共用供應(yīng)線路730液體相連。
在操作中，供應(yīng)通路S1-S4接收來自供應(yīng)源(未示出)的試劑或者其它類型的溶液或者流體。如上所述，供應(yīng)通路S1-S4通過供應(yīng)閥640與供應(yīng)線路730流體連通。由控制器控制的供應(yīng)閥640將流體從供應(yīng)通路S1-S4引導(dǎo)到供應(yīng)線路730和特定玻片容納盤(未示出)。通過控制各閥640，可以將流體分配到單個(gè)盤或者從單個(gè)盤分配流體。例如，染色程序可能需要將特定的試劑施加在設(shè)置在盤上的組織樣本。該試劑可被存儲(chǔ)在僅與供應(yīng)通路S3流體連通的供應(yīng)容器中。該控制器可被用于關(guān)閉與供應(yīng)通路S1-S2和S4連通的供應(yīng)閥640以及打開與供應(yīng)導(dǎo)管S3連通的供應(yīng)閥640。另外，控制器可被用于打開與中間導(dǎo)管I2和供應(yīng)線路730相連的閥640。這樣防止了流體從供應(yīng)通路S1-S2和S4進(jìn)入中間供應(yīng)導(dǎo)管或者供應(yīng)線路730，并且僅允許來自供應(yīng)導(dǎo)管S3的流體進(jìn)入中間供應(yīng)導(dǎo)管I2和供應(yīng)線路730。
下面，與用于所需盤的入口600相連通的供應(yīng)閥640也被處于打開位置。另外，沒有與用于所需盤的入口連通的供應(yīng)閥640處于關(guān)閉位置。通過僅打開在與預(yù)定供應(yīng)源和所需玻片容納盤之間的流體通路中的這些供應(yīng)閥640，形成從特定供應(yīng)源到所需盤的入口之間的直接通路。各種機(jī)構(gòu)可被用來通過使用例如向供應(yīng)源施加的壓力源(下面詳細(xì)描述)推動(dòng)通過供應(yīng)通路S1-S4和供應(yīng)線路730的試劑或者其它流體。
排放線路740也可沿著歧管520的長度與出口610鄰近地設(shè)置。排放線路740與各閥640流體連通，閥640被稱為排放閥，其與出口610相鄰并且流體連通。設(shè)置有多個(gè)排放通路D1-D4，它們與排放線路740流體連通。該排放通路D1-D4將試劑或者其它溶液或者流體從排放線路740引導(dǎo)到例如廢物容器(如圖9A和9B中所示)。與上述供應(yīng)導(dǎo)管相類似，排放通路D1-D4通過多個(gè)閥640和中間排放導(dǎo)管與排放線路740流體連通。特別地，排放通路D1和D2通過第一閥640與第一中間排放導(dǎo)管I3流體連通，排放通路D3和D4通過第二閥640與第二中間排放導(dǎo)管I4流體連通，中間排放導(dǎo)管I3和I4通過第三閥640與排放線路740流體連通。即使僅四(4)個(gè)排放通路被示出，但是可使用任意數(shù)量的排放通路和閥，以提供從排放線路740到所需數(shù)量的廢物容器或者其它出口的流體流動(dòng)。
排放通路D1-D4通過排放閥、排放線路740和中間排放導(dǎo)管與出口610流體連通。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，排放線路740也可通過出口清洗閥750與供應(yīng)線路730流體連通。排放線路740被用于將通過供應(yīng)線路730引導(dǎo)到盤上的試劑或其它溶液或流體從玻片容納盤排出?？墒褂酶鞣N方法以推動(dòng)流體進(jìn)入排放導(dǎo)管。例如，真空泵被用于廢物容器，以從排放線路740和/或一個(gè)或者多個(gè)玻片盤抽出流體。
控制器可控制包括在歧管組件500中的任意閥的位置。如上所述，控制器通常基于由CPU處理的一個(gè)或多個(gè)染色程序操作閥640。CPU通過程序確定哪些閥640必須處于打開和關(guān)閉位置，從而在每個(gè)步驟中形成從供應(yīng)源到所需玻片容納盤、或者從特定玻片容納盤到廢物容器之間的所需流體通路。該確定可基于針對(duì)特定染色程序提供給控制器的指令。
要注意的是，打開和關(guān)閉閥位置的任何組合可被用于形成任何所需的流體通路。例如，與供應(yīng)通路S1-S4相連通的所有供應(yīng)閥640和一個(gè)或者多個(gè)與玻片容納盤的入口600相連通的供應(yīng)閥640可處于打開位置。或者，與供應(yīng)通路S1-S4相連通的部分供應(yīng)閥640和一個(gè)或者多個(gè)與玻片容納盤的入口600相連通的供應(yīng)閥640可處于打開位置。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到這些閥640可為打開和關(guān)閉位置的任意組合，以形成任何所需的流體通路。
圖8為根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的歧管組件500的歧管520的流體示意圖。該圖示意性地示出了多個(gè)盤550、閥640、供應(yīng)通路S1-S4、排放通路D1-D4、中間導(dǎo)管I1-I4、清潔通路C1、供應(yīng)線路730和排放線路740。每個(gè)供應(yīng)通路S1-S4和排放通路D1-D4都通過多個(gè)閥640分別與供應(yīng)線路730和排放線路740流體連通。每個(gè)盤550具有一入口600和一出口610。入口600與相應(yīng)供應(yīng)閥640流體連通，出口610與相應(yīng)排放閥640流體連通。
除了供應(yīng)閥和排放閥之外還提供了起注閥760、入口清洗閥770和出口清洗閥750。起注閥760可被用來處理在起動(dòng)過程中從筒50排出的流體，以準(zhǔn)備向玻片容納盤550分配任何類型的試劑或者其它流體，例如，蒸餾水、緩沖溶液(buffering solution)、脫臘溶液和/或洗滌液。在本實(shí)施例中，起注閥760與供應(yīng)線路730的輸出端流體連接。入口清洗閥770也在入口端處與供應(yīng)線路730流體連通，并可用于清洗入口600和供應(yīng)線路730的不期望的殘余流體。例如，在所有的入口600都處于關(guān)閉位置時(shí)，來自供應(yīng)源的蒸餾水可被噴射到供應(yīng)線路，從而蒸餾水可沖洗任何殘留的試劑或者其它不想要的流體。清潔通路C1提供在供應(yīng)通路S1和輸出清洗閥750之間的流體連通，從而盤可以清洗550的出口。出口清洗閥640可用來清洗出口610和排放線路740的不期望材料。由控制器控制的閥640如上所述地進(jìn)行操作，以提供從供應(yīng)源或者至廢物容器的所需流體通路。也就是說，控制器基于由控制器的CPU進(jìn)行處理的染色程序?qū)⒚總€(gè)閥定位在打開位置或者關(guān)閉位置，以形成從供應(yīng)源或者至廢物容器的所需流體通路。
可以理解的是，各閥可被定位為提供任何缺省流體的所需結(jié)構(gòu)。特別地，與特定閥相連的每個(gè)導(dǎo)管可與“正常打開”或者“正常關(guān)閉”的連接端口相連，以提供所需的缺省流體通路。例如，在圖8所示的實(shí)施例中，供應(yīng)通路S1與第一閥640的正常關(guān)閉連接端口相連，供應(yīng)通路S2與第一閥640的正常打開連接端口相連。因此，在缺省的情況下，流過供應(yīng)通路S2的流體將不流過該閥，除非該閥被控制器配置成打開正常關(guān)閉的連接端口，由此允許流體從供應(yīng)通路S1流過該閥。類似地，各盤的入口600和出口610每個(gè)都被連接在相應(yīng)閥的正常關(guān)閉的連接端口。因此，在缺省的情況下，流體被防止流入各盤或者從各盤流出，除非控制器特別地配置相應(yīng)閥，從而使入口600或者出口610處于打開位置。
圖9A和9B為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的組織處理系統(tǒng)的管道示意圖。如圖9A所示，組織處理系統(tǒng)設(shè)置有三(3)個(gè)歧管組件500。每個(gè)歧管組件500包括歧管520，該歧管520設(shè)置有四(4)個(gè)設(shè)置在一端的供應(yīng)通路S1-S4和設(shè)置在相對(duì)端的四(4)個(gè)排放通路D1-D4。供應(yīng)通路S1-S4通過供應(yīng)閥955和供應(yīng)導(dǎo)管930與供應(yīng)瓶900流體連通。供應(yīng)閥955被如此地構(gòu)成，即，瓶900可處于與供應(yīng)導(dǎo)管930或者散粒供應(yīng)容器(bulk supply container)910流體連通。供應(yīng)閥955也能使試劑或者其它溶液或者流體通過散粒供應(yīng)線路920從散粒供應(yīng)容器910行進(jìn)到供應(yīng)瓶900并且通過供應(yīng)導(dǎo)管930從供應(yīng)瓶900行進(jìn)到供應(yīng)通路S1-S4。
也可通過真空壓力選擇閥945和壓力線路950使供應(yīng)瓶900與壓力泵940連通。壓力泵被構(gòu)造成對(duì)供應(yīng)瓶900的內(nèi)容物加壓，以驅(qū)動(dòng)內(nèi)容物通過系統(tǒng)的流體網(wǎng)絡(luò)。壓力泵940可具有壓力開關(guān)960和過壓開關(guān)970，該壓力開關(guān)960使壓力泵940保持在預(yù)定水平，當(dāng)由壓力泵940產(chǎn)生的壓力超過預(yù)定量時(shí)，過壓開關(guān)970自動(dòng)地關(guān)閉壓力泵940。
如上所述，壓力泵940被用來在供應(yīng)瓶900中形成壓力，該壓力推動(dòng)在供應(yīng)容器900中存儲(chǔ)的流體借助供應(yīng)通路S1-S4經(jīng)由閥955和供應(yīng)導(dǎo)管930行進(jìn)到一個(gè)或者多個(gè)歧管組件500中。該真空泵與被定位為允許供應(yīng)瓶900和散粒供應(yīng)容器910之間流體連通的閥955、945一起，被用來將流體從散粒供應(yīng)容器910抽入供應(yīng)瓶900中，以充滿供應(yīng)瓶900。一組真空壓力選擇閥945、1045被用來在壓力和真空之間切換線路，以將流體從散粒容器吸入供應(yīng)瓶中以及將廢物瓶倒入大容器。
凝液瓶980也包括在系統(tǒng)中。凝液瓶980可用于收集流體，以防止其進(jìn)入真空泵。而且，如果供應(yīng)瓶900具有一(1)升容量，真空泵1040使1.2升流體分配進(jìn)入供應(yīng)瓶900，多余的0.2升流體可通過真空壓力選擇閥945和溢流線路990進(jìn)入凝液瓶980中。優(yōu)選地，瓶液位傳感器被用來在大量的多余流體被分配到供應(yīng)瓶900之前切斷真空泵1040。
歧管組件500也通過廢物通路D1-D4、廢物導(dǎo)管1010和排放閥1055與廢物瓶1000流體連通。廢物瓶1000可通過排放閥1055經(jīng)過散粒廢物線路1060與散粒廢物容器1020流體連通。真空泵1040被設(shè)置并構(gòu)造成通過真空線路1050和真空壓力選擇閥1045向廢物瓶1000施加真空。真空泵1040可被用于在真空瓶1000中形成真空，該真空推動(dòng)在設(shè)置在歧管組件500上的玻片容納盤上或中的流體通過排放通路D1-D4、排放導(dǎo)管1010和排放閥1055進(jìn)入一個(gè)或者多個(gè)廢物瓶1000。
真空泵1040也可用于通過使真空泵1040通過真空壓力選擇閥945與供應(yīng)瓶900流體連通而將流體從散粒供應(yīng)容器910中抽入供應(yīng)瓶900中。另外，借助真空壓力選擇閥1045使廢物瓶與壓力泵940流體連通以及通過借助排放閥1055使期望的廢物瓶與期望的散粒廢物容器1020流體連通，通過上述方式使在廢物瓶1000中的廢物材料被傳輸?shù)缴⒘U物容器中。
真空泵1040優(yōu)選包括真空開關(guān)1060和過真空開關(guān)(over-vacuumswitch)1070，該真空開關(guān)1060使真空泵1040在瓶中保持預(yù)定真空水平，當(dāng)產(chǎn)生的真空大于預(yù)定值時(shí)，該過真空開關(guān)1070自動(dòng)地切斷真空泵1040。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，散粒供應(yīng)容器和散粒廢物容器被收容在試劑分配系統(tǒng)的外部。
廢物瓶1000可被指定為危險(xiǎn)廢物瓶或安全廢物瓶。因此，當(dāng)流體從玻片容納盤排出時(shí)，控制器(如上所述的)確定在盤中的流體是危險(xiǎn)的或者安全的。一旦得出了結(jié)論，控制器將在相應(yīng)歧管組件500中的每個(gè)閥640定位在打開或者關(guān)閉位置，從而形成從盤通過適當(dāng)?shù)呐欧磐稤1-D4到被指定為用于特定類型廢物的預(yù)定廢物瓶1000的直接流體通路。
參照?qǐng)D9B將描述管道示意圖的另一個(gè)實(shí)施例。與上述實(shí)施例類似，在圖9B中示意性示出的組織處理系統(tǒng)包括三(3)個(gè)歧管組件500，每個(gè)歧管組件500設(shè)置有具有位于一端的四(4)個(gè)供應(yīng)通路和位于相對(duì)端的四(4)個(gè)排放通路的歧管。另外，每個(gè)供應(yīng)通路通過供應(yīng)導(dǎo)管930與供應(yīng)瓶900流體連通，每個(gè)排放通路通過排放導(dǎo)管1010與廢物瓶1000流體連通。
圖9B的實(shí)施例還包括壓力泵940和真空泵1040，但壓力泵940通過壓力線路950專門用于供應(yīng)瓶900(即，壓力泵940與供應(yīng)瓶900流體連通，而不是像前面的實(shí)施例那樣與廢物瓶1000相連)，真空泵1040通過真空線路1050、1030專門用于廢物瓶1000。在本實(shí)施例中，已通過省略散粒廢物瓶和散粒供應(yīng)瓶簡化了系統(tǒng)。
壓力泵940可具有使壓力泵940保持預(yù)定值的壓力開關(guān)960。另外，過壓開關(guān)970可與壓力泵940相連，當(dāng)由壓力泵940形成的壓力大于預(yù)定量時(shí)，該過壓開關(guān)可自動(dòng)地切斷壓力泵940。
真空泵1040優(yōu)選地包括真空開關(guān)1060和過真空開關(guān)1070，該真空開關(guān)1060使真空泵1040在瓶中保持預(yù)定真空水平，當(dāng)形成的真空大于預(yù)定量時(shí)，過真空開關(guān)1070自動(dòng)地切斷真空泵1040。另外，真空泵1040可與風(fēng)扇1075流體連通，從而來自系統(tǒng)的氣體可被排出。凝液瓶980也在真空線路1050和真空線路1030之間被包括在系統(tǒng)中。凝液瓶980可被用來收集過剩的流體，以防止其進(jìn)入真空泵。另外，空氣蓄積器965和1065可被包括在壓力泵945和真空泵1040中?？梢岳斫?，系統(tǒng)優(yōu)選地包括可被用來控制來自供應(yīng)瓶900或者流入廢物瓶1000的流體流的供應(yīng)閥和廢物閥(未示出)?？梢赃M(jìn)一步理解，包括在系統(tǒng)中的任何流體線路可根據(jù)所需被加熱或者冷卻。
圖10示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的組織處理系統(tǒng)1200。組織處理系統(tǒng)1200包括三(3)個(gè)歧管組件1210，八(8)個(gè)玻片容納盤1220支撐在其上。優(yōu)選地，每個(gè)盤1220具有與其相關(guān)聯(lián)的條形碼或者其它標(biāo)識(shí)(未示出)。盤條形碼掃描器1230可被設(shè)置用來掃描與盤1220相關(guān)的條形碼，并且得到關(guān)于設(shè)置在盤上的樣本的信息。例如，該信息可包括病人信息、組織類型、試劑信息等。優(yōu)選地，一個(gè)條形碼掃描器被設(shè)置用于每個(gè)歧管組件1210，該掃描器相對(duì)于盤可動(dòng)。
組織處理系統(tǒng)1200還包括圓盤傳送帶1240。圓盤傳送帶1240保持著多個(gè)試劑筒1250。優(yōu)選地，每個(gè)試劑筒1250具有可由筒條形碼掃描器1270讀取的條形碼1260或者其它標(biāo)識(shí)。圓盤傳送帶1240可沿順時(shí)針或者逆時(shí)針方向轉(zhuǎn)動(dòng)，并且筒條形碼掃描器1270可相對(duì)于圓盤傳送帶固定地安裝，從而條形碼掃描器1270可掃描每個(gè)試劑筒條形碼1260。
圓盤傳送帶1240也可設(shè)置有三(3)個(gè)盤條形碼掃描器1230。盤條形碼掃描器1230被優(yōu)選地如此設(shè)置，即，當(dāng)圓盤傳送帶1240在歧管組件1210的長度上運(yùn)動(dòng)時(shí)，盤條形碼掃描器1230掃描與每個(gè)盤1220相關(guān)的條形碼。
圓盤傳送帶1240被優(yōu)選地如此致動(dòng)，即，其可以在組織處理系統(tǒng)1200中移動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)。電機(jī)1280(例如步進(jìn)電機(jī)或者恒定磁阻電機(jī))可被用于在歧管1210的長度上移動(dòng)圓盤傳送帶1240?？梢岳斫?，可以利用將電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)換成線性運(yùn)動(dòng)的任何機(jī)構(gòu)。例如，圓盤傳送帶1240可被安裝在可動(dòng)的車(cart)上，條帶或者鏈條驅(qū)動(dòng)可將可動(dòng)的車與電機(jī)1280相連?；蛘?，導(dǎo)螺桿或球螺桿機(jī)構(gòu)可被用來將圓盤傳送帶1240和電機(jī)1280可動(dòng)地連接?？梢岳斫?，除了使用上述的致動(dòng)器之外或者作為上述致動(dòng)器的替代，可使用液壓和/或氣動(dòng)致動(dòng)器。
盡管僅示出了一個(gè)，每個(gè)歧管組件1210還可包括可用來冷卻歧管組件1210的TEC的風(fēng)扇1290。類似地，每個(gè)歧管組件1210也可具有一個(gè)或者多個(gè)供應(yīng)導(dǎo)管1300和一個(gè)或者多個(gè)排放導(dǎo)管1310。與上述系統(tǒng)類似，供應(yīng)導(dǎo)管1300與供應(yīng)瓶1320流體連通，排放導(dǎo)管1310與廢物瓶1330流體連通。
壓力泵1340可被包括并構(gòu)造成對(duì)供應(yīng)瓶1320的內(nèi)容物施壓，從而將設(shè)置在供應(yīng)瓶1320中的試劑或其它流體推動(dòng)進(jìn)入供應(yīng)導(dǎo)管1300和歧管組件1210。供應(yīng)瓶的內(nèi)容物被優(yōu)選利用上述的控制器、閥、供應(yīng)通路、供應(yīng)線路提供給單獨(dú)的可選盤1220。
真空泵1350也可被包括和構(gòu)造為向廢物瓶1330施加真空壓力，使在盤1220中的試劑或者其它流體通過排放導(dǎo)管1310從盤1220排出。優(yōu)選地，使用上述的控制器、閥、排放通路和排放線路將試劑或者其它流體從單獨(dú)的可選盤1220中排出。
圖11-12示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的供應(yīng)/廢物瓶1100。瓶1100可具有任何所需的構(gòu)造。優(yōu)選地，瓶1100具有便于運(yùn)輸瓶1100的手柄1110。瓶1100還具有凹部或者噴口，其可使用傳統(tǒng)的螺紋蓋1120或者本技術(shù)領(lǐng)域已知的任何其它閉合件，例如扣合蓋。瓶1100也設(shè)置有流體端口1130和壓力端口1140。流體端口1130可如上所述地被用來分別相對(duì)于供應(yīng)瓶和廢物瓶供應(yīng)或者接收液體。流體端口可為在本技術(shù)領(lǐng)域中已知的任何流體端口。例如，流體端口可被構(gòu)造成接收為組織處理系統(tǒng)的一部分的接頭。另外，密封零件可被包括在接口處，作為瓶1100的一部分和/或作為組織處理系統(tǒng)的部分。例如，可使用旋塞或者自密封連接器。
如上所述，壓力端口1140可被用來將瓶1100與壓力泵或真空泵相連，以根據(jù)瓶是否被用作供應(yīng)瓶或廢物瓶而在供應(yīng)/廢物瓶1100中形成真空或壓力。壓力端口可為在本技術(shù)領(lǐng)域中已知的任何流體端口。例如，流體端口可被構(gòu)造成接收包括在組織處理系統(tǒng)中的接頭。另外，密封零件可被包括在接口處，作為瓶1100的一部分和/或作為組織處理系統(tǒng)的部分。例如，可使用活塞或者自密封連接器。
如圖12所示，瓶1100通過將流體端口1130和壓力端口1140堅(jiān)固到設(shè)置在組織處理系統(tǒng)上的接頭1150而可與組織處理系統(tǒng)的供應(yīng)導(dǎo)管或排放導(dǎo)管相連。接頭1150使瓶1100與通向歧管組件500的供應(yīng)導(dǎo)管或排放導(dǎo)管基本上可靠地相連。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，供應(yīng)瓶和廢物瓶的流體端口1130和壓力端口1140被如此地構(gòu)造，即，它們僅與設(shè)置用于供應(yīng)瓶或者廢物瓶的相應(yīng)接頭1150匹配。例如，用于供應(yīng)瓶的接頭1150可具有與用于廢物瓶的接頭1150不同的形狀。另外，或者可選的，壓力端口可被偏移，從而在供應(yīng)瓶上的壓力端口可被定位得高于在廢物瓶上的壓力端口?？墒褂萌魏晤愋偷膮^(qū)別零件，防止供應(yīng)瓶連接在系統(tǒng)的指定用于廢物瓶的位置上，反之亦然，即，防止廢物瓶連接在系統(tǒng)的指定用于供應(yīng)瓶的位置上。
如圖12所示，可包括一個(gè)或多個(gè)傳感器1160以提供關(guān)于每個(gè)瓶1100的流體高度的信息。在一個(gè)實(shí)施例中，一個(gè)傳感器1160被可動(dòng)地安裝在每個(gè)瓶1100附近，從而其可以平行于瓶1100的垂直軸線運(yùn)動(dòng)。例如，傳感器1160可被連接在移動(dòng)式傳感器支架1170上，例如安裝在垂直軌道上的桿上。傳感器支架1170可被安裝在包括在系統(tǒng)的固定部分上的軌道或?qū)蚣?，其可通過本領(lǐng)域中任何已知的方式致動(dòng)。例如，傳感器支架1170可通過電機(jī)(例如步進(jìn)電機(jī)或恒定磁阻電機(jī))致動(dòng)，或者其可被液壓地或氣動(dòng)地致動(dòng)。如所示出的，每個(gè)傳感器1160可被定位在相應(yīng)的孔1180中，該孔1180延伸通過系統(tǒng)殼體的與每個(gè)瓶位置相鄰的部分。在孔1180中定位傳感器1160可減小在傳感器1160和相應(yīng)瓶之間的距離。優(yōu)選地，一個(gè)傳感器1160對(duì)應(yīng)于一個(gè)瓶位置，這些傳感器與共用傳感器支架相連。與為各瓶構(gòu)造傳感器陣列相比，這樣的實(shí)施例可降低傳感器成本。另外，這樣的系統(tǒng)可根據(jù)需要提供增大或減小流體高度的能力，而不需要增加或者減少傳感器。
還優(yōu)選地提供傳感器支架1170和/或傳感器1160的位置反饋。例如，可通過一個(gè)或多個(gè)鄰近的由傳感器支架1170和/或傳感器1160的運(yùn)動(dòng)觸發(fā)的傳感器提供位置反饋。其它可用來提供傳感器支架1170、傳感器1160的位置反饋的裝置包括電或光分解器(resolver)、線性可變差分傳感器(LVDT)或者其它任何類型的位置傳感器。另外，在采用電機(jī)的實(shí)施例中，電機(jī)驅(qū)動(dòng)軟件可通過例如步進(jìn)電機(jī)的計(jì)步被用來判斷傳感器支架1170和/或傳感器1160的位置?？梢岳斫猓瑐鞲衅?160可為本技術(shù)領(lǐng)域中已知的任何類型的傳感器，該傳感器能向系統(tǒng)提供流體高度信息。優(yōu)選地，傳感器1160為電容傳感器，當(dāng)傳感器1160被定位在瓶1100的外部時(shí)，該傳感器1160能判斷流體高度。
在組織處理系統(tǒng)的操作期間，該系統(tǒng)可要求系統(tǒng)狀態(tài)或材料目錄的判斷，該判斷可包括判斷散粒廢物瓶和/或散粒供應(yīng)瓶的流體高度。為了收集流體高度信息，傳感器支架1170被沿著垂直方向移動(dòng)，在沿著支架1170的行程的增量距離上，傳感器1160被用來判斷流體在相應(yīng)瓶中是否存在。在一個(gè)實(shí)施例中，傳感器支架1170可被初始地定位在底部位置。然后，傳感器支架1170可與在每個(gè)增量位置處得到讀數(shù)的傳感器1160一起被逐漸地向上移動(dòng)。在一個(gè)實(shí)施例中，在二百五十五(255)個(gè)增量位置處得到傳感器讀數(shù)。當(dāng)傳感器在一位置處檢測(cè)出流體的存在，傳感器1160可指示出“觸發(fā)”狀態(tài)，當(dāng)傳感器沒有檢測(cè)出流體的存在時(shí)，傳感器可指示出“未觸發(fā)”狀態(tài)。然后，該系統(tǒng)通過判斷在傳感器1160的狀態(tài)從“觸發(fā)”變化到“非觸發(fā)”之間的位置來判斷瓶的流體高度，反之亦然?？梢岳斫猓瑐鞲衅髦Ъ芎蛡鞲衅骺杀谎刂魏畏较蝌?qū)動(dòng)，它們可在收集單個(gè)讀數(shù)的同時(shí)沿著多個(gè)方向移動(dòng)。例如，支架可從上部初始位置向下運(yùn)動(dòng)，或者支架可在交替的上位置和下位置之間移動(dòng)。可以理解，在每個(gè)傳感器讀數(shù)之間的距離不需要保持恒定。特別地，支架可在傳感器讀數(shù)之間移動(dòng)相對(duì)較大距離，直到在傳感器狀態(tài)中檢測(cè)到變化。然后，行程方向可被反向，傳感器讀數(shù)可間隔較小距離，直至傳感器狀態(tài)發(fā)生變化?？砂ǘ啻畏聪虿襟E，可在每個(gè)步驟中減小在讀數(shù)之間的距離。這樣的技術(shù)可被用來減少確定流體高度所需的時(shí)間?？梢岳斫猓黧w高度判斷的準(zhǔn)確性取決于傳感器1160的增量運(yùn)動(dòng)之間的距離，并且還取決于在瓶中容納的流體的類型/種類。因此，隨著傳感器讀數(shù)之間距離的減小，流體高度判斷的準(zhǔn)確性將提高。
基于所確定的每個(gè)瓶的流體注入高度，該系統(tǒng)可起動(dòng)各種程序。這樣的程序包括注入或倒空一個(gè)或者多個(gè)瓶、將瓶需要更換的信號(hào)發(fā)送給用戶界面、暫停程序或者關(guān)閉系統(tǒng)?？梢岳斫?，可通過更換瓶、或者通過利用更大的散粒瓶和此處所述的歧管組件起動(dòng)在瓶之間的所需流動(dòng)來完成散粒瓶的注入或倒空。更大的散粒瓶可被包括在系統(tǒng)的內(nèi)部或者外部。
無論向供應(yīng)瓶900或是廢物瓶1000被施加真空或壓力，都是通過在供應(yīng)瓶900或廢物瓶1000和歧管或者散粒容器910、1020的入口600或出口610之間的壓力差形成流體流。施加到供應(yīng)瓶900或者廢物瓶1000上的真空或者壓力差沿著所需流體流的方向形成壓力梯度。可在流體端口1130和壓力端口1140之間監(jiān)測(cè)和控制該壓力，以形成使控制器控制閥以提供受到控制的流體流的所需壓力梯度。
在入口600和設(shè)置在自動(dòng)試劑分配系統(tǒng)中的反應(yīng)室之間的壓力差可使流體流通過反應(yīng)室?？赏ㄟ^在出口610處提供負(fù)壓(或真空)和沿著出口610的方向引流形成進(jìn)一步的壓力差。在已將引入反應(yīng)室的流體在反應(yīng)室中停留所需時(shí)間之后，余下的流體可以其中負(fù)壓差或者真空被通過出口610導(dǎo)入的類似方式通過出口610排出?？蛇x地，沖洗流體可被通過入口600導(dǎo)入反應(yīng)室或者泵入，以根據(jù)需要沖洗反應(yīng)室。出口610可選擇地包括過濾器(或者多個(gè)小孔)，以篩去或過濾碎片。
圖13為根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的自動(dòng)組織處理系統(tǒng)1340的方框圖。系統(tǒng)1340可包括主控制器1350。主控制器1350可為中央處理單元(CPU)或者其它控制器。主控制器1350可與個(gè)人計(jì)算機(jī)1360或者其它設(shè)備相連。主控制器1350也可與一個(gè)或者多個(gè)外圍控制器1370相連。例如，控制器1370可為圓盤傳送帶電機(jī)控制器，該控制器控制設(shè)置在自動(dòng)組織處理系統(tǒng)1340中的圓盤傳送帶(上所述)的轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)。另一種控制器1370可為雙軸電機(jī)控制器，該控制器控制圓盤傳送帶沿著自動(dòng)組織處理系統(tǒng)1340的長度和寬度的水平和垂直運(yùn)動(dòng)。
主控制器1350可與一個(gè)或多個(gè)歧管組件1380相連。例如，主控制器1350可控制設(shè)置在歧管組件1380上的閥的位置，以如上所述地在盤和供應(yīng)瓶或廢物瓶之間形成直接流體通路。
歧管組件1380可與一個(gè)或者多個(gè)電源1390連通。電源1390可向歧管組件1380提供動(dòng)力，從而例如當(dāng)歧管組件包括板載控制器(onboard controller)時(shí)，歧管組件可獨(dú)立操作。電源1390可提供不同量的動(dòng)力。例如，電源1390可包括二十四(24)伏(V)直流(DC)電源，五(5)伏直流電源和3.3伏直流電源。每個(gè)電源1390可被用來對(duì)歧管組件1380的多個(gè)部分進(jìn)行操作。例如，不同的電源1390可被用來操作各閥、真空泵或壓力泵和開關(guān)(如上所述)。
參照?qǐng)D14描述用于自動(dòng)組織處理系統(tǒng)的初始化程序。在檢測(cè)到起動(dòng)條件時(shí)開始初始程序(方框1410)。例如，起動(dòng)條件可為關(guān)閉自動(dòng)組織處理系統(tǒng)的蓋子、接收來自控制器的起動(dòng)信號(hào)或者其它條件。如果沒有檢測(cè)到起動(dòng)條件，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)可繼續(xù)檢查是否檢測(cè)到起動(dòng)條件，直至接收到起動(dòng)條件。
在檢測(cè)到起動(dòng)條件之后，儲(chǔ)存的程序(inventory procedure)可如方框1420所示地運(yùn)行，以確定試劑筒、供應(yīng)瓶、樣本盤等的狀態(tài)。一旦完成儲(chǔ)存的程序，如方框1430所圖示地，自動(dòng)試劑分配系統(tǒng)可從控制器接收指令序列。指令序列限定一個(gè)或者多個(gè)染色處理，該染色處理將被施加在安放在設(shè)置于盤中的玻片上的組織樣本。如上所述，染色處理將識(shí)別哪種試劑和多大量試劑將要被施加在每個(gè)組織樣本以及經(jīng)歷多長時(shí)間段。
一旦接收了指令序列，如方框1440所圖示地，染色協(xié)議由自動(dòng)試劑分配系統(tǒng)運(yùn)行。在染色協(xié)議運(yùn)行的同時(shí)，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)監(jiān)測(cè)是否已接收到中斷信號(hào)。中斷信號(hào)可例如由打開自動(dòng)試劑分配系統(tǒng)的蓋子、接收來自控制器的指令或者其它情況產(chǎn)生。如果已接收到中斷信號(hào)，如方框1460圖示地，自動(dòng)試劑分配系統(tǒng)停止處理。然后，對(duì)關(guān)于是否已接收到繼續(xù)處理信號(hào)作出判斷。如果還沒有接收到繼續(xù)處理信號(hào)，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)保持停止(方框1460)。然而，如果已接收到繼續(xù)處理信號(hào)，如方框1440所圖示地，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)繼續(xù)運(yùn)行染色協(xié)議。
如果還沒有檢測(cè)到中斷信號(hào)，對(duì)處理是否完成進(jìn)行判斷。處理可包括完成設(shè)置在自動(dòng)組織處理系統(tǒng)中的各組織樣本的所有染色協(xié)議。如果處理還沒有完成，如方框1440圖示地，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)繼續(xù)以運(yùn)行染色協(xié)議。如果判斷出處理完成，處理完成信號(hào)被輸出到控制器(方框1490)，如方框1460圖示那樣，自動(dòng)試劑分配系統(tǒng)停止處理。
圖15更詳細(xì)地示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的中斷事件程序。判斷是否已經(jīng)接收到中斷信號(hào)(如方框1510所圖示地)。如果已經(jīng)接收到中斷信號(hào)，如方框1520所圖示地，判斷危險(xiǎn)條件是否存在。例如，危險(xiǎn)條件可以是與有毒氣體相關(guān)的試劑正在被分配，如果用戶遭受毒氣時(shí)，該毒氣使人不舒服。如果判斷出存在有害情況，有毒處理可如方框1530所圖示地完成。隨后，圓盤傳送帶或者其它試劑筒保持器可移動(dòng)到原位，如方框1540以樣圖示出的。使用戶可接觸到自動(dòng)組織處理系統(tǒng)的內(nèi)部(方框1550)?？赏ㄟ^例如解除防止自動(dòng)組織處理系統(tǒng)被打開的鎖定機(jī)構(gòu)或者其它機(jī)構(gòu)的鎖定而使用戶接觸。
接著，如方框1560所圖示地，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)判斷是否已接收到繼續(xù)信號(hào)。通過如上所述地關(guān)閉蓋子或者由控制器輸出指令來形成繼續(xù)信號(hào)。如果還沒有接收到繼續(xù)信號(hào)，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)繼續(xù)將筒的圓盤傳送帶或者保持器定位在原位(方框1540)。然而，如果已接收到繼續(xù)信號(hào)，如方框1570所圖示地，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)繼續(xù)染色協(xié)議。
圖16示出了與在圖14中的方框1440所圖示的運(yùn)行協(xié)議程序相關(guān)的子步驟。運(yùn)行協(xié)議程序包括如方框1610所圖示的分配試劑。散粒容器可被用于向供應(yīng)瓶供給附加的試劑。散粒容器可被手動(dòng)地操作，從而需要用戶介入，以將試劑從散粒容器傳送到供應(yīng)瓶中。例如，這可通過操作開關(guān)或者其它能使試劑從散粒容器通過供應(yīng)線路或者其它導(dǎo)管行進(jìn)到供應(yīng)瓶的機(jī)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)?；蛘?，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)可自動(dòng)充注供應(yīng)瓶。這些可在執(zhí)行掃描程序之后執(zhí)行。例如，掃描程序可識(shí)別一個(gè)或多個(gè)容納有少量試劑的需要附加試劑的瓶。自動(dòng)組織處理系統(tǒng)可通過使試劑從適當(dāng)?shù)纳⒘Ｈ萜餍羞M(jìn)到瓶中來起動(dòng)瓶的充注。這可使用泵或者其它已知的機(jī)構(gòu)來進(jìn)行。
如方框1620所圖示地，運(yùn)行協(xié)議程序還包括從筒分配試劑?？墒褂美绫脕矸峙湓噭?。筒設(shè)置有由電磁線圈致動(dòng)的泵。如果特定的試劑需要被分配，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)通過將信號(hào)傳送到電磁線圈來致動(dòng)與筒相連的電磁線圈。電磁線圈推動(dòng)泵并從筒中分配出預(yù)定量的試劑。優(yōu)選地，在所需時(shí)間并根據(jù)染色協(xié)議分配試劑。自動(dòng)組織處理系統(tǒng)還可如方框1630所圖示地從盤試劑容器分配試劑。
一旦完成染色協(xié)議，如方框1640所圖示地，起動(dòng)與盤相關(guān)聯(lián)的排放端口。排放端口例如可為設(shè)置在盤中的孔。真空施加在盤上，這使得位于盤中的試劑被吸入廢物導(dǎo)管。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，廢物可被分為危險(xiǎn)和安全的廢物，并且每種廢物都進(jìn)入相應(yīng)的廢物容器。
圖17圖示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的自動(dòng)組織系統(tǒng)的整個(gè)程序。作為初始步驟，從控制器下載限定所需用來進(jìn)行自動(dòng)染色程序的步驟的腳本或處理程序。該步驟在方框1710中圖示出。下載的腳本基于通過掃描與玻片相關(guān)聯(lián)的標(biāo)識(shí)得到的信息。如方框1720所圖示地，判斷出將被施加在玻片上的基準(zhǔn)試劑?；鶞?zhǔn)試劑信息可從與玻片相關(guān)聯(lián)的標(biāo)識(shí)得到。如方框1730所圖示地，基于識(shí)別的基準(zhǔn)試劑確定將施加在特定玻片上的一個(gè)或多個(gè)染色協(xié)議。然后，如方框1740所圖示地，所確定的染色協(xié)議被傳送到歧管控制器。歧管控制器控制其上安裝有筒的圓盤傳送帶和試劑從筒的分配。歧管控制器還控制閥640的位置(如上所述)?；趯⒁\(yùn)行的染色協(xié)議，歧管控制器判斷哪個(gè)閥需要處于打開位置以及哪個(gè)閥需要處于關(guān)閉位置。然后，如方框1750所圖示地，歧管控制器將閥定位在所確定的位置(切換任何閥的已經(jīng)不在所需位置處的位置)。一旦得到在所需位置的所需要的各閥，如方框1760所圖示地，自動(dòng)組織處理系統(tǒng)運(yùn)行協(xié)議。
接著，如方框1770所圖示地，判斷處理是否完成。如果判斷出處理沒有完成，如方框1780所圖示地，進(jìn)行沖洗周期?？蛇M(jìn)行沖洗周期，以排出引入自動(dòng)組織處理系統(tǒng)的試劑和/或其它溶液。沖洗周期可包括將水或者其它清洗溶液引入自動(dòng)組織處理系統(tǒng)的盤中，以將引入的試劑或其它溶液從盤中沖洗掉。在完成沖洗周期之后，如方框1750所圖示地，通過將要運(yùn)行的附加染色協(xié)議再次使閥按所需定位。然而，如果判斷出處理已經(jīng)完成，如方框1790所圖示地，處理停止。
因此，可以看出，提供了用于組織處理系統(tǒng)和方法的歧管組件。在本技術(shù)領(lǐng)域中的技術(shù)人員將理解到，可通過以出于說明而非限制的目的在本說明書中示出的各實(shí)施例和優(yōu)選實(shí)施例之外的方式實(shí)施本發(fā)明，本發(fā)明僅被以下權(quán)利要求所限定。要注意的是，用于在說明書中描述的特定實(shí)施例的等價(jià)形式也可實(shí)施本發(fā)明。
權(quán)利要求
1.一種用于自動(dòng)組織處理系統(tǒng)的歧管組件，其包括歧管，其包括在其中穿過的流體導(dǎo)管結(jié)構(gòu)；以及臺(tái)板，其與所述歧管相連，所述臺(tái)板包括多個(gè)樣本容納部分，其中，每個(gè)樣本容納部分包括與所述歧管的至少一個(gè)流體導(dǎo)管流體連通的入口和與至少一個(gè)流體導(dǎo)管流體連通的出口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的歧管組件，其特征為，所述歧管由兩個(gè)分離材料件形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的歧管組件，其特征為，所述兩個(gè)分離的材料件被通過機(jī)械方式蝕刻，以形成互補(bǔ)的通道，并被如此地連接，即，所述互補(bǔ)通道形成流體導(dǎo)管結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的歧管組件，其特征為，所述材料為聚合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的歧管組件，其特征為，所述兩個(gè)材料件被以機(jī)械方式緊固在一起。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的歧管組件，其特征為，所述歧管與至少一個(gè)供應(yīng)瓶和至少一個(gè)廢物瓶流體連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的歧管組件，其還包括與至少一個(gè)供應(yīng)瓶流體連通的壓力泵。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的歧管組件，其還包括與至少一個(gè)廢物瓶流體連通的真空泵。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的歧管組件，其還包括位于所述臺(tái)板的近端的入口和位于所述臺(tái)板的遠(yuǎn)端的排放口。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的歧管組件，其還包括具有控制通過所述流體導(dǎo)管的流體流的構(gòu)造的多個(gè)閥。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的歧管組件，其特征為，其還包括與所述歧管相連的閥控制器。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的歧管組件，其還包括在所述歧管和所述控制器之間與所述歧管相連的滴落框架。
13.根據(jù)權(quán)利要求6所述的歧管組件，其特征為，至少一個(gè)供應(yīng)瓶包括流體高度傳感器。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的歧管組件，其特征為，至少一個(gè)廢物瓶包括流體高度傳感器。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的歧管組件，其特征為，所述流體高度傳感器與共用傳感器支架相連。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的歧管組件，其特征為，所述傳感器支架被構(gòu)造成平行于供應(yīng)瓶的垂直軸線運(yùn)動(dòng)。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的歧管組件，其還包括與至少一個(gè)所述樣本容納部分相連的至少一個(gè)加熱器。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的歧管組件，其還包括與所述臺(tái)板相連的多個(gè)加熱器，其中獨(dú)立地操作多個(gè)加熱器中的每一個(gè)。
19.一種操作自動(dòng)組織處理器的歧管的方法，其包括接收要處理的程序的指令；定位包括在支撐組織樣本的歧管組件中的多個(gè)閥，以在供應(yīng)源和樣本容納盤的入口之間形成流體通路，其中，所述歧管組件包括歧管，該歧管限定多個(gè)穿過其延伸的流體通路；以及通過所述流體通路和所述樣本容納盤的所述入口將試劑施加在組織樣本上。
20.一種用于組織處理系統(tǒng)的歧管系統(tǒng)，其包括歧管組件；多個(gè)與所述歧管組件流體連通的散粒流體瓶；多個(gè)流體高度傳感器，每個(gè)流體高度傳感器被設(shè)置成靠近相應(yīng)的散粒流體瓶；傳感器支架，其被構(gòu)成為沿著平行于所述供應(yīng)瓶的垂直軸線的方向移動(dòng)，其中，多個(gè)所述流體高度傳感器與所述傳感器支架相連。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的歧管系統(tǒng)，其還包括壓力泵，該壓力泵包括與至少一個(gè)散粒流體瓶流體相連的加壓流體出口。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的歧管系統(tǒng)，其還包括真空泵，該真空泵包括與至少一個(gè)散粒流體瓶流體相連的流體入口。
23.根據(jù)權(quán)利要求20所述的歧管系統(tǒng)，其特征為，所述歧管組件包括歧管，該歧管包括通過其延伸的流體導(dǎo)管結(jié)構(gòu)。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的歧管系統(tǒng)，其特征為，所述歧管由兩個(gè)分離的材料件形成。
全文摘要
一種歧管組件，其將流體導(dǎo)向組織處理系統(tǒng)的單獨(dú)的選定樣本容納盤以及從該樣本容納盤中導(dǎo)出，其包括歧管；在歧管中機(jī)加工出的流體導(dǎo)管；閥，其可被選擇地構(gòu)造為提供通向特定盤或者從該盤的直接流體通路。通過將每個(gè)閥定位成形成所需通路的控制器來控制閥。在供應(yīng)和/或排放瓶中形成壓力，以將流體供應(yīng)到由歧管組件支撐的盤中或者從該盤中排出。單獨(dú)操作的加熱器被設(shè)置在歧管組件上，以將盤加熱到所需溫度。也可設(shè)置熱電冷卻元件，以冷卻加熱器和/或盤。
文檔編號(hào)G01N1/31GK1818605SQ20061000736
公開日2006年8月16日 申請(qǐng)日期2006年2月13日 優(yōu)先權(quán)日2005年2月11日
發(fā)明者蘇安·S·比伊 申請(qǐng)人:美國櫻花檢驗(yàn)儀器株式會(huì)社