專利名稱：一種與大致平面狀的基片一起使用的雙面成像系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體上涉及物品輸送系統(tǒng)及方法，更具體地說，本發(fā)明涉及使用該輸送系統(tǒng)的成像系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)：
用于輸送適用于激光直接記錄系統(tǒng)和檢查系統(tǒng)等成像系統(tǒng)的物品的系統(tǒng)及方法，其特征尤其在于具有高度精確和高度可重復(fù)的運(yùn)輸速度。而且，這種系統(tǒng)和方法被設(shè)置為保持物品相對(duì)于成像裝置位于精確的預(yù)定方位，包括精確的距離，并被設(shè)置為將正在成像裝置上被運(yùn)輸?shù)奈锲肥芷渌b載到系統(tǒng)或從系統(tǒng)卸載的物品的機(jī)械干擾降至最小。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明總的方面涉及一種改進(jìn)的物品輸送系統(tǒng)及方法，該系統(tǒng)及方法使用一種在輸送過程中懸浮物品的物品懸浮裝置。一種壓平裝置被設(shè)置用于確保該物品的懸浮部分在處理過程中相對(duì)于處理器被精確保持在一個(gè)希望的方位。該壓平裝置優(yōu)選以非接觸方式工作。
這種輸送系統(tǒng)可以被用來傳送大致平面狀的基片，尤其是在需要滿足下列一條或多條要求的地方運(yùn)輸速度上較高的一致性、基片方位相對(duì)于處理器(如圖像獲取系統(tǒng)或圖像生成裝置)高度精確、或避免在處理過程中例如因?yàn)樵谠撦斔拖到y(tǒng)上裝載或卸載其它基片而引起的對(duì)基片的干擾。這種系統(tǒng)的典型應(yīng)用包括平板顯示器和電路如印刷線路板和半導(dǎo)體晶片的檢查和測(cè)試，如自動(dòng)光學(xué)檢查、電氣測(cè)試和功能測(cè)試，以及在光敏表面如內(nèi)制平板顯示器、電路、標(biāo)線片及拍照工具上形成圖像。其它典型應(yīng)用包括用于傳送平面薄片物質(zhì)如金屬薄片、平面塑料薄片和任何其它合適的薄片物質(zhì)的系統(tǒng)。
于是，按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，提供了一種與大致平面狀的基片一起使用的成像系統(tǒng)，包括用于傳送平面狀基片到至少一個(gè)成像位置的氣流傳送裝置，該氣流傳送裝置至少在成像位置具有氣流基片壓平功能，還包括一種位于成像位置的成像裝置，用于在該平面狀基片由氣流基片壓平功能件壓平時(shí)使該平面狀基片成像。
另外，氣流傳送裝置可以被用于傳送平面狀基片離開成像位置。
成像裝置優(yōu)選包括一個(gè)圖像獲取裝置，如一個(gè)可以進(jìn)行電氣測(cè)試的自動(dòng)光學(xué)檢查裝置、度量裝置或任何其它合適的圖像獲取裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該成像裝置可以包括圖像生成裝置，如調(diào)制激光掃描器。
氣流傳送裝置優(yōu)選包括一個(gè)氣流懸浮裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流傳送裝置可以包括氣流型抑制裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流傳送裝置可以包括一個(gè)放置裝置，用于將平面狀基片朝向或/和遠(yuǎn)離成像位置放置。
氣流基片壓平功能件優(yōu)選包括真空型抑制器。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括一個(gè)氣流抽吸裝置或出口，用于釋放平面狀基片下聚集的空氣。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流型抑制裝置。真空型抑制器或氣流型抑制裝置優(yōu)選與氣流懸浮裝置結(jié)合使用，以保持基片與參考表面有一個(gè)精確的距離。
按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種與大致平面狀的基片一起使用的雙面成像系統(tǒng)，包括用于將平面狀基片以懸浮狀態(tài)傳送到至少一個(gè)成像位置的氣流傳送裝置，還包括位于成像位置的成像裝置，用于在該平面狀基片由氣流傳送裝置懸浮時(shí)使其兩相對(duì)面成像。
另外，氣流傳送裝置可以被用于傳送平面狀基片離開成像位置。
成像裝置優(yōu)選包括圖像獲取裝置，如自動(dòng)光學(xué)檢查裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該成像裝置可以包括圖像生成裝置。作為選擇，該成像裝置從平面狀基片的第一面提供照明并從該基片的反面獲取圖像。
氣流傳送裝置優(yōu)選包括氣流型抑制裝置或真空型抑制器。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流傳送裝置可以包括放置裝置，用于將平面狀基片朝向或/和遠(yuǎn)離成像位置放置。
氣流基片壓平功能件優(yōu)選包括真空型抑制器。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流抽吸裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流型抑制裝置。真空型抑制器或氣流型抑制裝置優(yōu)選與氣流懸浮裝置結(jié)合使用，以保持基片與參考表面有一個(gè)精確的距離。
按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種氣流傳送系統(tǒng)，包括氣流產(chǎn)生裝置和用于傳送平面狀基片的氣流懸浮傳送裝置。該氣流傳送裝置優(yōu)選包括用于放置平面狀基片的放置裝置和氣流基片壓平裝置，該壓平裝置至少在懸浮傳送裝置的一個(gè)區(qū)域壓平懸浮狀態(tài)的平面狀基片。
氣流傳送裝置優(yōu)選包括氣流型抑制裝置。
氣流基片壓平功能件優(yōu)選包括真空型抑制器。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流壓平功能包括一個(gè)氣流抽吸裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流型抑制裝置。真空型抑制器或氣流型抑制裝置優(yōu)選與氣流懸浮裝置結(jié)合使用，以保持基片與參考表面有一個(gè)精確的距離。
按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種平板掃描器系統(tǒng)，包括氣流傳送裝置和掃描器，氣流傳送裝置用于把將被掃描的平面狀基片傳送到至少一個(gè)掃描位置，并且至少在掃描位置具有氣流基片壓平功能件，掃描器位于掃描位置，用于在平面狀基片被氣流基片壓平功能件壓平時(shí)掃描該平面狀基片。
另外，氣流傳送裝置可以被用于傳送平面狀基片離開成像位置。
掃描器優(yōu)選部分包括圖像獲取裝置。作為替換或補(bǔ)充，該掃描器可以部分包括圖像生成裝置。作為選擇，該掃描器是使用旋轉(zhuǎn)多面鏡的激光掃描器。
平面狀基片優(yōu)選包括光敏層，這里，圖像生成裝置包括數(shù)據(jù)調(diào)制激光束裝置，用于在該光敏層上曝光想要的圖案。
氣流傳送裝置優(yōu)選包括氣流懸浮裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流傳送裝置可以包括氣流型抑制裝置或真空型抑制器。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流傳送裝置可以包括放置裝置，用于將平面狀基片朝向或/和遠(yuǎn)離成像位置放置。
氣流基片壓平功能件優(yōu)選包括真空型抑制器。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流抽吸裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流型抑制裝置。真空型抑制器或氣流型抑制裝置優(yōu)選與氣流懸浮裝置結(jié)合使用，以保持基片與參考表面有一個(gè)精確的距離。
按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種懸浮傳送裝置系統(tǒng)，包括懸浮裝置和放置裝置，懸浮裝置用于相對(duì)于一個(gè)表面懸浮平面狀基片，放置裝置用于將平面狀基片大致平行于該表面放置。該傳送裝置系統(tǒng)還包括基片壓平裝置，用于壓平懸浮狀態(tài)的平面狀基片。
該懸浮裝置優(yōu)選包括氣流懸浮裝置。
基片壓平裝置優(yōu)選包括正壓力裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該基片壓平裝置包括真空或抽吸壓力裝置，形成低于大氣壓的壓力區(qū)域。該壓平裝置優(yōu)選與懸浮裝置結(jié)合使用，以保持基片與該表面有一個(gè)精確的距離。
按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種用于使大致平面狀的基片成像的方法，包括使用氣流傳送裝置傳送該平面狀基片到至少一個(gè)成像位置，該氣流傳送裝置至少在成像位置有氣流基片壓平功能件；并在該大致平面狀的基片被氣流基片壓平功能件壓平時(shí)，使用位于成像位置的成像裝置使該大致平面狀的基片成像。
該傳送方法還可以包括傳送平面狀基片離開成像位置。
該成像方法優(yōu)選包括圖像獲取。作為替換或作為補(bǔ)充，該成像方法可以包括圖像生成。作為選擇，成像方法包括從平面狀基片的一面提供照明并從其反面獲取圖像。
氣流傳送裝置優(yōu)選包括氣流懸浮裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流傳送裝置可以包括氣流型抑制裝置。該氣流傳送裝置優(yōu)選還包括放置裝置，用于將平面狀基片朝向或/和遠(yuǎn)離成像位置放置。
氣流基片壓平功能件優(yōu)選包括真空型抑制器。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流抽吸裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流型抑制裝置。真空型抑制器或氣流型抑制裝置優(yōu)選與氣流懸浮裝置結(jié)合使用，以保持基片與參考表面有一個(gè)精確的距離。
按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種用于使大致平面狀的基片雙面成像的方法，包括使用氣流傳送裝置以懸浮狀態(tài)傳送該平面狀基片到至少一個(gè)成像位置；并在該平面狀基片被氣流傳送裝置懸浮時(shí)，使用位于成像位置的成像裝置使該平面狀基片雙面成像。
該傳送方法還可以包括傳送平面狀基片離開成像位置。
該成像方法優(yōu)選包括圖像獲取。作為替換或作為補(bǔ)充，該成像方法可以包括圖像生成。作為選擇，成像方法包括從平面狀基片的一面提供照明并從其反面獲取圖像。
氣流傳送裝置優(yōu)選至少在成像位置包括氣流基片壓平功能件。作為替換或補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流抽吸裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流型抑制裝置。真空型抑制器或氣流型抑制裝置優(yōu)選與氣流懸浮裝置結(jié)合使用，以保持基片與參考表面有一個(gè)精確的距離。該氣流傳送裝置優(yōu)選還包括放置裝置，用于將平面狀基片朝向或/和遠(yuǎn)離成像位置放置。
該氣流基片壓平功能件優(yōu)選包括真空型抑制器。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流型抑制裝置。
按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種氣流傳送方法，包括使用氣流產(chǎn)生裝置在大致平面狀的基片下產(chǎn)生氣墊；使用氣流懸浮傳送裝置傳送該平面狀基片。該傳送方法包括使用放置裝置放置該平面狀基片；壓平懸浮狀態(tài)的平面狀基片，該壓平操作至少在懸浮傳送裝置的一個(gè)區(qū)域使用氣流基片壓平裝置。壓平操作將該基片的至少一部分以懸浮狀態(tài)置于給定參考平面。
氣流傳送裝置優(yōu)選包括氣流型抑制裝置。氣流基片壓平功能件優(yōu)選包括真空型抑制器。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流抽吸裝置或出口，用于釋放平面狀基片下聚集的空氣。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流基片壓平功能件包括氣流型抑制裝置。真空型抑制器或氣流型抑制裝置優(yōu)選與氣流懸浮裝置結(jié)合使用，以保持基片與參考表面有一個(gè)精確的距離。
按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種掃描大致平面狀的基片的方法，包括使用氣流傳送裝置傳送將被掃描的平面狀基片到至少一個(gè)掃描位置，該氣流傳送裝置至少在掃描位置具有氣流基片壓平功能件；在該平面狀基片被氣流基片壓平功能件壓平時(shí)，使用位于掃描位置的掃描裝置掃描該平面狀基片。
另外，傳送方法也可以包括傳送平面狀基片離開成像位置。
掃描優(yōu)選部分地包括圖像獲取。作為替換或作為補(bǔ)充，掃描部分地包括圖像生成。
平面狀基片優(yōu)選包括光敏層。圖像生成優(yōu)選包括使用調(diào)制激光束裝置在該光敏層上曝光想要的圖案。
氣流傳送裝置優(yōu)選包括氣流懸浮裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該氣流傳送裝置可以包括氣流型抑制裝置或真空型抑制器。作為替換或作為補(bǔ)充，氣流基片壓平功能件優(yōu)選包括氣流抽吸裝置。真空型抑制器或氣流型抑制裝置優(yōu)選與氣流懸浮裝置結(jié)合使用，以保持基片與參考表面有一個(gè)精確的距離。
氣流傳送裝置優(yōu)選還包括放置裝置，用于將平面狀基片朝向或/和遠(yuǎn)離成像位置放置。
氣流基片壓平功能件優(yōu)選包括氣流懸浮裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，氣流基片壓平功能件包括氣流型抑制裝置。
按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還提供了一種傳送大致平面狀的基片的懸浮方法，包括使用懸浮裝置相對(duì)于一個(gè)表面懸浮平面狀基片；使用放置裝置將該平面狀基片大致平行于該表面放置；使用基片壓平裝置壓平懸浮狀態(tài)的平面狀基片。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，懸浮包括真空懸浮。
基片壓平裝置優(yōu)選包括正壓力裝置。作為替換或作為補(bǔ)充，該基片壓平裝置包括真空或抽吸裝置，形成低于大氣壓的壓力區(qū)域。


結(jié)合附圖閱讀下面的詳細(xì)說明，可以更完全地了解并認(rèn)識(shí)本發(fā)明。
圖1A是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮傳送裝置系統(tǒng)的一部分的簡圖；圖1B是按照本發(fā)明另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮傳送裝置系統(tǒng)的一部分的簡圖；圖2A是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮傳送裝置系統(tǒng)的簡圖；圖2B是按照本發(fā)明另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮傳送裝置系統(tǒng)的簡圖；圖3A是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮檢查系統(tǒng)的一部分的簡圖；圖3B是按照本發(fā)明另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮檢查系統(tǒng)的一部分的簡圖；圖4A是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮成像系統(tǒng)的一部分的簡圖；圖4B是按照本發(fā)明另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮成像系統(tǒng)的一部分的簡圖；圖5A是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮雙面成像系統(tǒng)的一部分的簡圖；圖5B是按照本發(fā)明另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮雙面成像系統(tǒng)的一部分的簡圖；和圖6是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種電路檢查系統(tǒng)簡圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在參考圖1A，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮傳送裝置系統(tǒng)的一部分的簡圖。如圖1A所示，大致平面狀的基片100由一個(gè)來自于多個(gè)噴嘴102的壓力墊，例如流體流，優(yōu)選為氣流所懸浮，噴嘴102通過歧管104被連接到一個(gè)正流體壓力源106。
在這里使用的術(shù)語“流體流”或“氣流”指至少在基片附近形成大于大氣壓力的壓力區(qū)域。這樣的壓力區(qū)域可以通過，例如產(chǎn)生活動(dòng)流體流而形成。作為選擇，這樣的壓力區(qū)域可以不通過產(chǎn)生活動(dòng)流體流而形成，或者可以通過產(chǎn)生少量的活動(dòng)流體流而形成，例如使用已公開的PCT專利申請(qǐng)WO01/14782A1、WO01/14752A1以及WO01/19572A1中說明的裝置和方法。在這里使用的術(shù)語大致“平面狀基片”指任何合適的、大致平面狀的薄片物質(zhì)，例如紙、紙板、金屬片、玻璃、玻璃纖維片、明膠、膠片、硅片等。這類物質(zhì)的使用包括用在平板顯示器中支承象素陣列的平面狀基片、使用在電路生產(chǎn)中的模板部件、支承部分電路圖案的印刷線路板基片、半導(dǎo)體芯片和連接半導(dǎo)體芯片和印刷線路板的連接裝置。大致平面狀的基片包括已經(jīng)在其上形成部分平板顯示器或電路的平面薄片物質(zhì)，還包括適用于在其上形成平板顯示器部分或電路圖案的平面薄片物質(zhì)。大致平面狀的基片可以有一個(gè)光敏表面，例如感光性樹脂材料布置于其上。
可以知道，當(dāng)大致平面狀的基片100如圖1A所示被懸浮時(shí)，大致平面狀的基片100通常會(huì)被彎曲、或者平度不均勻，如附圖標(biāo)記108虛線所示。為了至少在一個(gè)給定部分壓平該平面狀基片100，按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例設(shè)置了優(yōu)選來自多個(gè)噴嘴112的抽吸裝置，如反向流體流，優(yōu)選為空氣，噴嘴112通過歧管114被連接到正流體壓力源106。在圖1A的實(shí)施例中，噴嘴112和歧管114與通過噴嘴102提供的壓力墊位于平面狀基片的相對(duì)面。
現(xiàn)在參考圖1B，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮傳送裝置系統(tǒng)的一部分的簡圖。如圖1B所示，大致平面狀的基片150由來自于多個(gè)噴嘴152的壓力墊，例如流體流，優(yōu)選為氣流所懸浮，噴嘴152通過歧管154被連接到正流體壓力源156。
可以知道，在這種情況下，大致平面狀的基片150通常會(huì)被彎曲、或者平度不均勻，如附圖標(biāo)記158虛線所示。為了至少在一個(gè)給定部分壓平該平面狀基片150，按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例設(shè)置了來自于多個(gè)噴嘴162的抽吸裝置，噴嘴162通過歧管164被連接到正流體壓力源166。在圖1B的實(shí)施例中，噴嘴162和歧管164與通過噴嘴152提供的壓力墊位于平面狀基片的同一面。在2002年12月27日提出的PCT專利申請(qǐng)PCT/IL02/____中大致說明了懸浮傳送裝置系統(tǒng)的一個(gè)特別實(shí)施方式的例子，該系統(tǒng)用于傳送平面狀基片并結(jié)合抽吸裝置使用懸浮流體流，該專利申請(qǐng)屬于Core Fluid Ltd，題目為“High Performance Non-Contact Support Platforms”(“高性能非接觸支撐平臺(tái)”)(代理人案號(hào)1203/20)。其全部公開內(nèi)容在此被引作參考。
可以知道，作為選擇，可以結(jié)合合適的物品使用任何其它合適類型的懸浮方式，如磁懸浮。
現(xiàn)在參考圖2A，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮傳送裝置系統(tǒng)的簡圖。如圖2A所示，懸浮傳送裝置系統(tǒng)優(yōu)選包括靜止懸浮平臺(tái)200，該懸浮平臺(tái)包括多個(gè)孔202。大致平面狀的基片204由來自于多個(gè)噴嘴206的壓力墊，例如流體流，優(yōu)選為氣流所懸浮，噴嘴206優(yōu)選與對(duì)應(yīng)的孔202相連，噴嘴206在歧管208中，而歧管208被連接到正流體壓力源210。
可以知道，如果沒有反向流體流，或其它合適的抑制力，懸浮平面狀基片會(huì)發(fā)生彎曲，或者平度不均勻，如附圖標(biāo)記212和214所示。如圖2A所示，在沿著懸浮平臺(tái)200的一個(gè)位置216，即希望平面狀基片被壓平的地方，按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例提供了一種反向流體流，優(yōu)選為氣流，它優(yōu)選來自于多個(gè)噴嘴222，并形成反向壓力墊，噴嘴222通過歧管224被連接到正流體壓力源210。在圖2A的實(shí)施例中，噴嘴222和歧管224與通過噴嘴206提供的壓力墊位于平面狀基片204的相對(duì)面。
圖2A的懸浮傳送裝置系統(tǒng)優(yōu)選還包括至少一個(gè)放置裝置226，用于沿著，優(yōu)選平行于平臺(tái)200移動(dòng)懸浮平面狀基片。該放置裝置226優(yōu)選包括平行于平臺(tái)200設(shè)置的軌道228。運(yùn)載裝置230被沿著軌道228驅(qū)動(dòng)，并優(yōu)選包括夾持件232，該夾持件接合平面狀基片204并使它被平行于軌道228放置?？梢灾溃鳛檫x擇，任何其它合適類型的接觸或非接觸放置裝置，如推動(dòng)裝置、拉動(dòng)裝置，可以被使用。需要注意，如果懸浮基片204，例如通過一個(gè)壓力墊懸浮，可以被容易地側(cè)向放置，放置裝置226就不需要支撐基片204的全部重量，并且，放置裝置226只需要提供放置功能。
現(xiàn)在參考圖2B，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮傳送裝置系統(tǒng)的簡圖。如圖2B所示，懸浮傳送裝置系統(tǒng)優(yōu)選包括靜止懸浮平臺(tái)250，該懸浮平臺(tái)包括多個(gè)孔252。大致平面狀的基片254由來自于多個(gè)噴嘴256的流體流，優(yōu)選為氣流所懸浮，噴嘴256優(yōu)選與對(duì)應(yīng)的孔252相連，噴嘴256在歧管258中，而歧管208被連接到正流體壓力源260。
可以知道，如果沒有反向流體流，或其它合適的抑制力，懸浮平面狀基片會(huì)發(fā)生彎曲，或者平度不均勻，如附圖標(biāo)記262和264所示。如圖2B所示，在沿著懸浮平臺(tái)250的一個(gè)位置266，即希望平面狀基片被壓平的地方，按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例提供了反向流體流。該反向流可以僅僅由流體抽吸裝置所提供，該流體抽吸裝置提供出口用于抽吸聚集在平面狀基片254和靜止懸浮平臺(tái)250之間的空氣。反向流優(yōu)選為真空流或抽吸，可用于保持平面狀基片254的至少一部分位于與平臺(tái)200的表面相距精確距離的一個(gè)平面內(nèi)。反向流優(yōu)選通過多個(gè)噴嘴272形成，噴嘴272通過歧管274被連接到正流體壓力源276。在圖2B的實(shí)施例中，噴嘴272和歧管274與壓力墊位于平面狀基片254的同一面，該壓力墊通過噴嘴256與合適的孔252相連而形成。
圖2B的懸浮傳送裝置系統(tǒng)還包括至少一個(gè)放置裝置276，用于沿著，優(yōu)選平行于平臺(tái)250移動(dòng)懸浮平面狀基片。該放置裝置276優(yōu)選包括平行于平臺(tái)250設(shè)置的軌道278。運(yùn)載裝置280被沿著軌道278驅(qū)動(dòng)，并優(yōu)選包括夾持件282，該夾持件接合平面狀基片254并使它被平行于軌道278放置?？梢灾溃鳛檫x擇，任何其它合適類型的接觸或非接觸放置裝置，如推動(dòng)裝置、拉動(dòng)裝置，可以被使用。
至少一些噴嘴256和272被連接到適應(yīng)孔裝置，在缺乏與流體流進(jìn)行可操作性接合的懸浮平面的情況下，該裝置可以限制經(jīng)過噴嘴的流體流，這是圖2B實(shí)施例的一個(gè)特殊的特征。該適應(yīng)孔裝置可以被方便地設(shè)置為與平臺(tái)250中的孔252相連。在下列參考文獻(xiàn)中說明了用于通過縮減氣流提供壓力墊，或抽吸裝置的適應(yīng)孔裝置的優(yōu)選實(shí)施例，其公布的全部內(nèi)容在這里被引作參考已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/14782 A1已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/14752 A1已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/19572 A1。
可以知道，任何其它合適的適應(yīng)或非適應(yīng)孔裝置可以被使用。
現(xiàn)在參考圖3A，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮檢查系統(tǒng)的一部分的簡圖。如圖3A所示，懸浮檢查系統(tǒng)優(yōu)選包括靜止懸浮平臺(tái)300，該懸浮平臺(tái)包括多個(gè)孔302。大致平面狀的基片304由來自于多個(gè)噴嘴306的壓力墊，例如流體流，優(yōu)選為氣流所懸浮，噴嘴306優(yōu)選與對(duì)應(yīng)的孔302相連，并通過歧管308被連接到正流體壓力源310。
可以知道，如果沒有反向流體流，或其它合適的抑制力，懸浮平面狀基片304會(huì)發(fā)生彎曲，或者平度不均勻，如附圖標(biāo)記312和314所示。如圖3A所示，在沿著懸浮平臺(tái)300的一個(gè)檢查位置316，運(yùn)行著檢查裝置318，如激光掃描器或其它合適的例如大致為白光的光學(xué)成像裝置，在這里希望平面狀基片304被壓平或保持在相對(duì)于檢查裝置318的一個(gè)精確的給定方位。于是，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中設(shè)置有反向流，優(yōu)選為空氣，形成反向壓力墊，該反向流優(yōu)選來自于多個(gè)噴嘴322，而噴嘴322通過歧管324被連接到正流體壓力源310。在圖3A的實(shí)施例中，噴嘴322和歧管324與通過噴嘴306提供的壓力墊位于平面狀基片304的相對(duì)面。
圖3A的懸浮檢查系統(tǒng)優(yōu)選還包括至少一個(gè)放置裝置326，用于沿著優(yōu)選平行于平臺(tái)300移動(dòng)懸浮平面狀基片。該放置裝置326優(yōu)選包括平行于平臺(tái)300設(shè)置的軌道328。運(yùn)載裝置330被沿著軌道328驅(qū)動(dòng)，并優(yōu)選包括夾持件332，該夾持件接合平面狀基片304并使它被平行于軌道328放置?？梢灾?，作為選擇，任何其它合適類型的接觸或非接觸放置裝置，如推動(dòng)裝置、拉動(dòng)裝置，可以被使用。需要注意，如果例如通過壓力墊懸浮，基片304可以被容易地側(cè)向放置，放置裝置326就不需要支撐基片304的全部重量，并且，放置裝置326只需要提供放置功能。
現(xiàn)在參考圖3B，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮檢查系統(tǒng)的一部分的簡圖。如圖3B所示，懸浮傳送系統(tǒng)優(yōu)選包括靜止懸浮平臺(tái)350，該懸浮平臺(tái)包括多個(gè)孔352。大致平面狀的基片354由來自于多個(gè)噴嘴356的流體流，優(yōu)選為氣流所懸浮，噴嘴356優(yōu)選與對(duì)應(yīng)的孔352相連，并通過歧管358被連接到正流體壓力源360。
可以知道，如果沒有反向流體流，或其它合適的抑制力，懸浮平面狀基片會(huì)發(fā)生彎曲，或者平度不均勻，如附圖標(biāo)記362和364所示。如圖3B所示，在沿著懸浮平臺(tái)350的一個(gè)檢查位置366，運(yùn)行著檢查裝置368，如激光掃描器或其它合適的例如大致為白光的光學(xué)成像裝置，在這里希望平面狀基片被壓平或保持在相對(duì)于檢查裝置368的一個(gè)給定的方位，例如與檢查裝置368有精確距離。
于是，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中設(shè)置有一種反向流。該反向流可以僅僅由流體抽吸裝置所提供，該流體抽吸裝置提供有出口用于抽吸聚集在平面狀基片354和靜止懸浮平臺(tái)350之間的空氣。反向流優(yōu)選為真空流或抽吸，用于保持平面狀基片354的至少一部分位于與平臺(tái)300的表面，或任何其它合適的參考平面相距精確距離的一個(gè)平面內(nèi)。反向流優(yōu)選通過多個(gè)噴嘴372形成，噴嘴372通過歧管374被連接到抽吸源376。在圖3B的實(shí)施例中，噴嘴372和歧管374與壓力墊位于平面狀基片354的同一面，該壓力墊通過噴嘴356與合適的孔352相連而形成。
圖3B的懸浮傳送裝置系統(tǒng)優(yōu)選還包括至少一個(gè)放置裝置376，用于沿著優(yōu)選平行于平臺(tái)350移動(dòng)懸浮平面狀基片。該放置裝置376優(yōu)選包括平行于平臺(tái)350設(shè)置的軌道378。運(yùn)載裝置380被沿著軌道378驅(qū)動(dòng)，并優(yōu)選包括夾持件382，該夾持件接合平面狀基片354并使它被平行于軌道378放置?？梢灾?，作為選擇，任何其它合適類型的接觸或非接觸放置裝置，如推動(dòng)裝置、拉動(dòng)裝置，可以被使用。
至少一些噴嘴356和372被連接到適應(yīng)孔裝置，在缺乏與流體流進(jìn)行可操作性接合的懸浮平面的情況下，該裝置可以限制經(jīng)過噴嘴的流體流，這是圖3B實(shí)施例的一個(gè)特殊的特征。該適應(yīng)孔裝置可以被方便地設(shè)置為與平臺(tái)350中的孔352相連。在下列參考文獻(xiàn)中說明了用于通過縮減氣流提供壓力墊，或抽吸裝置的適應(yīng)孔裝置的優(yōu)選實(shí)施例，其公布的全部內(nèi)容在這里被引作參考已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/14782 A1已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/14752 A1已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/19572 A1。
可以知道，任何其它合適的適應(yīng)或非適應(yīng)孔裝置可以被使用。
現(xiàn)在參考圖4A，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮成像系統(tǒng)的一部分的簡圖。圖4A的成像系統(tǒng)可以是一種圖像獲取系統(tǒng)或/和圖像記錄系統(tǒng)。在所說明的實(shí)施例中顯示了一種圖像記錄系統(tǒng)，可以理解，所說明的結(jié)構(gòu)也適用于圖像獲取系統(tǒng)或圖像獲取與記錄系統(tǒng)的組合以及相應(yīng)的方法。
如圖4A所示，懸浮成像系統(tǒng)優(yōu)選包括靜止懸浮平臺(tái)400，該懸浮平臺(tái)包括多個(gè)孔402。大致平面狀的基片404由來自于多個(gè)噴嘴406的壓力墊，例如流體流，優(yōu)選為氣流所懸浮，噴嘴406優(yōu)選與對(duì)應(yīng)的孔402相連，并通過歧管408被連接到正流體壓力源410。
可以知道，如果沒有反向流體流，或其它合適的抑制力，懸浮平面狀基片404會(huì)發(fā)生彎曲，或者平度不均勻，如附圖標(biāo)記412和414所示。如圖4A所示，在沿著懸浮平臺(tái)400的一個(gè)成像位置416，設(shè)置有成像裝置418，如平板繪圖儀作為一種直接成像裝置，在平面狀基片404的表面形成圖案，并優(yōu)選結(jié)合具有光敏層的平面狀基片。作為選擇，成像裝置418是激光掃描器，使用旋轉(zhuǎn)多面鏡(未示出)在平面狀基片404表面掃描經(jīng)數(shù)據(jù)調(diào)制的激光束。
在成像位置416，希望平面狀基片在成像過程中被壓平或保持在相對(duì)于成像裝置418的給定方位。于是，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中設(shè)置有反向流，優(yōu)選為空氣，形成反向壓力墊，該反向流優(yōu)選來自于多個(gè)噴嘴422，而噴嘴422通過歧管424被連接到正流體壓力源410。在圖4A的實(shí)施例中，噴嘴422和歧管424與通過噴嘴406提供的壓力墊位于平面狀基片404的相對(duì)面。
圖4A的懸浮成像系統(tǒng)優(yōu)選還包括至少一個(gè)放置裝置426，用于沿著優(yōu)選平行于平臺(tái)400移動(dòng)懸浮平面狀基片。該放置裝置426優(yōu)選包括平行于平臺(tái)400設(shè)置的軌道428。運(yùn)載裝置430被沿著軌道428驅(qū)動(dòng)，并優(yōu)選包括夾持件432，該夾持件接合平面狀基片404并使它被平行于軌道428放置?？梢灾?，作為選擇，任何其它合適類型的接觸或非接觸放置裝置，如推動(dòng)裝置、拉動(dòng)裝置，可以被使用。需要注意，如果例如通過一個(gè)壓力墊懸浮，基片404可以被容易地側(cè)向放置，放置裝置426就不需要支撐基片404的全部重量，并且放置裝置426只需要提供放置功能。
現(xiàn)在參考圖4B，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮成像系統(tǒng)的一部分的簡圖。圖4B的成像系統(tǒng)可以是圖像獲取系統(tǒng)或/和圖像記錄系統(tǒng)。在所示實(shí)施例中顯示了一種圖像記錄系統(tǒng)，可以理解，所示結(jié)構(gòu)也適用于圖像獲取系統(tǒng)或圖像獲取與記錄系統(tǒng)的組合以及相應(yīng)的方法，或者任何其它需要基片的一部分與處理站相距非常精確距離的處理裝置。
如圖4B所示，懸浮成像系統(tǒng)優(yōu)選包括靜止懸浮平臺(tái)450，該懸浮平臺(tái)包括多個(gè)孔452。大致平面狀的基片454由來自于多個(gè)噴嘴456的壓力墊所懸浮，該壓力墊由例如流體流，優(yōu)選為氣流提供，噴嘴456優(yōu)選與對(duì)應(yīng)的孔452相連，并通過歧管458被連接到正流體壓力源460。
可以知道，如果沒有反向流體流，或其它合適的抑制力，懸浮平面狀基片會(huì)發(fā)生彎曲，或者平度不均勻，如附圖標(biāo)記462和464所示。如圖4B所示，在沿著懸浮平臺(tái)450的一個(gè)成像位置466，設(shè)置有成像裝置468，如平板繪圖儀作為直接成像裝置，在平面狀基片454的表面形成圖案，并優(yōu)選結(jié)合具有光敏層的平面狀基片。作為選擇，成像裝置468是激光掃描器，使用旋轉(zhuǎn)多面鏡(未示出)在平面狀基片454表面掃描經(jīng)數(shù)據(jù)調(diào)制的激光束。
在成像位置466，希望平面狀基片在成像過程中被壓平或保持在相對(duì)于成像裝置418給定的方位，例如距離成像裝置精確距離。于是，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中設(shè)置有反向流。該反向流可以僅僅由流體抽吸裝置所提供，該流體抽吸裝置提供有出口用于抽吸聚集在平面狀基片454和靜止懸浮平臺(tái)450之間的空氣。反向流優(yōu)選為真空流或抽吸，用于保持平面狀基片454的至少一部分位于與平臺(tái)400的表面相距精確距離的一個(gè)平面內(nèi)。反向流優(yōu)選通過多個(gè)噴嘴472形成，噴嘴472通過歧管474被連接到抽吸源476。在圖4B的實(shí)施例中，噴嘴472和歧管474與壓力墊位于平面狀基片454的相對(duì)面，該壓力墊通過噴嘴456與合適的孔452相連而形成。
圖4B的懸浮成像系統(tǒng)優(yōu)選還包括至少一個(gè)放置裝置476，用于沿著優(yōu)選平行于平臺(tái)450移動(dòng)懸浮平面狀基片。該放置裝置476優(yōu)選包括平行于平臺(tái)450設(shè)置的軌道478。運(yùn)載裝置480被沿著軌道478驅(qū)動(dòng)，并優(yōu)選包括夾持件482，該夾持件夾持平面狀基片454并使它被平行于軌道478放置。可以知道，作為選擇，任何其它合適類型的接觸或非接觸放置裝置，如推動(dòng)裝置、拉動(dòng)裝置，可以被使用。
至少一些噴嘴456和472被連接到一個(gè)適應(yīng)孔裝置，在缺乏與流體流進(jìn)行可操作性接合的懸浮平面的情況下，該裝置可以限制經(jīng)過噴嘴的流體流，這是圖4B實(shí)施例的一個(gè)特殊的特征。該適應(yīng)孔裝置可以被方便地設(shè)置為與平臺(tái)450中的孔452相連。在下列參考文獻(xiàn)中說明了用于通過縮減氣流提供壓力墊，或抽吸裝置的適應(yīng)孔裝置的優(yōu)選實(shí)施例，其公布的全部內(nèi)容在這里被引作參考已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/14782 A1已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/14752 A1已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/19572 A1。
可以知道，任何其它合適的適應(yīng)或非適應(yīng)孔裝置可以被使用。
現(xiàn)在參考圖5A，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮雙面成像系統(tǒng)的一部分的簡圖。圖5A的雙面成像系統(tǒng)可以是一種如用于檢查的圖像獲取系統(tǒng)或/和圖像記錄系統(tǒng)。在所說明的實(shí)施例中顯示了一種檢查系統(tǒng)，可以理解，所說明的大致結(jié)構(gòu)也適用于任何其它的圖像獲取系統(tǒng)、圖像記錄系統(tǒng)、圖像獲取與記錄系統(tǒng)的組合、或用于處理基片的系統(tǒng)以及相應(yīng)的方法，在該系統(tǒng)中需要基片的一部分與處理平臺(tái)相距非常精確的距離。
如圖5A所示，懸浮雙面成像系統(tǒng)優(yōu)選包括靜止懸浮平臺(tái)500，該懸浮平臺(tái)包括多個(gè)孔502。大致平面狀的基片504由來自于多個(gè)噴嘴506的壓力墊所懸浮，該壓力墊由，如流體流，優(yōu)選為氣流提供，噴嘴506優(yōu)選與對(duì)應(yīng)的孔502相連，并通過歧管508被連接到正流體壓力源510。
可以知道，如果沒有反向流體流，或其它合適的抑制力，懸浮平面狀基片會(huì)發(fā)生彎曲，或者平度不均勻，如附圖標(biāo)記512和514所示。如圖5A所示，在沿著懸浮平臺(tái)500的一個(gè)成像位置516，運(yùn)行著雙面成像裝置518。
可以知道，該雙面成像裝置可以包括一對(duì)成像裝置或一個(gè)集成的雙面成像裝置。設(shè)置用于使基片底面即面對(duì)平臺(tái)500的一面成像的成像裝置優(yōu)選通過間隙或平臺(tái)500的透明部分觀看到平面狀基片，該透明部分不受到懸浮和壓平功能件的干擾。
在成像位置516，希望平面狀基片504在成像過程中被壓平或保持在相對(duì)于雙面成像裝置518的給定方位。于是，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中設(shè)置有反向流，優(yōu)選為空氣，該反向流優(yōu)選來自于多個(gè)噴嘴522，并形成反向壓力墊，噴嘴522通過歧管524被連接到正流體壓力源510。在圖5A的實(shí)施例中，噴嘴522和歧管524與通過噴嘴506提供的壓力墊位于平面狀基片504的相對(duì)面。
圖5A的懸浮雙面成像系統(tǒng)優(yōu)選還包括放置裝置526，用于沿著優(yōu)選平行于平臺(tái)500移動(dòng)懸浮平面狀基片。該放置裝置526優(yōu)選包括平行于平臺(tái)500設(shè)置的軌道528。運(yùn)載裝置530被沿著軌道528驅(qū)動(dòng)，并優(yōu)選包括夾持件532，該夾持件接合基片504并使它被平行于軌道528放置?？梢灾?，作為選擇，任何其它合適類型的接觸或非接觸放置裝置，如推動(dòng)裝置、拉動(dòng)裝置，可以被使用。需要注意，如果例如通過一個(gè)壓力墊懸浮，基片504可以被容易地側(cè)向放置，放置裝置526就不需要支撐基片504的全部重量，并且放置裝置526只需要提供放置功能。
現(xiàn)在參考圖5B，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種懸浮雙面成像系統(tǒng)的簡圖。圖5B的雙面成像系統(tǒng)可以是例如一種圖像獲取系統(tǒng)，如用于檢查的或/和圖像記錄系統(tǒng)。在所說明的實(shí)施例中顯示了一種檢查系統(tǒng)，可以理解，所說明的大致結(jié)構(gòu)也適用于任何其它圖像獲取系統(tǒng)、圖像記錄系統(tǒng)、圖像獲取與記錄系統(tǒng)的組合、或用于處理基片的系統(tǒng)以及相應(yīng)的方法，在該系統(tǒng)中需要基片的一部分與處理平臺(tái)相距非常精確的距離。
如圖5B所示，懸浮雙面成像系統(tǒng)優(yōu)選包括靜止懸浮平臺(tái)550，該懸浮平臺(tái)包括多個(gè)孔552。大致平面狀的基片554由來自于多個(gè)噴嘴556的壓力墊所懸浮，該壓力墊由例如流體流，優(yōu)選為氣流提供，噴嘴556優(yōu)選與對(duì)應(yīng)的孔552相連，并過歧管558被連接到正流體壓力源560。
可以知道，如果沒有反向流體流，或其它合適的抑制力，懸浮平面狀基片554會(huì)發(fā)生彎曲，或者平度不均勻，如附圖標(biāo)記562和564所示。如圖5B所示，在沿著懸浮平臺(tái)550的一個(gè)成像位置566，提供有雙面成像裝置568。
可以知道，該雙面成像裝置可以包括一對(duì)成像裝置或一個(gè)集成的雙面成像裝置、或者照明平面狀基片554第一面的照明裝置以及獲取通過平面狀基片的光線圖像的成像裝置。設(shè)置用于使基片底面即面對(duì)平臺(tái)550的一面成像的成像裝置優(yōu)選通過間隙或平臺(tái)550的透明部分觀看到平面狀基片，該透明部分不受到懸浮和壓平功能件的干擾。
在成像位置566，希望平面狀基片554在成像過程中被壓平或保持在相對(duì)于雙面成像裝置568給定的方位，例如距離成像裝置精確距離。相應(yīng)地，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中設(shè)置有反向流。該反向流可以僅僅由流體抽吸裝置形成，該流體抽吸裝置提供有出口用于抽吸聚集在平面狀基片554和靜止懸浮平臺(tái)550之間的空氣。反向流優(yōu)選為真空流，用于保持平面狀基片554的至少一部分位于與平臺(tái)550的表面或任何其它的參考表面相距精確距離的一個(gè)平面內(nèi)。反向流優(yōu)選通過多個(gè)噴嘴572形成，噴嘴572通過歧管574被連接到抽吸源576。在圖5B的實(shí)施例中，噴嘴572和歧管574與壓力墊位于平面狀基片554的相對(duì)面，該壓力墊通過噴嘴556與合適的孔552相連而形成。
圖5B的懸浮雙面成像系統(tǒng)優(yōu)選還包括放置裝置576，用于沿著優(yōu)選平行于平臺(tái)550移動(dòng)懸浮平面狀基片。該放置裝置576優(yōu)選包括平行于平臺(tái)550設(shè)置的軌道578。運(yùn)載裝置580被沿著軌道578驅(qū)動(dòng)，并優(yōu)選包括夾持件582，該夾持件接合平面狀基片554并使它被平行于軌道578放置?？梢灾溃鳛檫x擇，任何其它合適類型的接觸或非接觸放置裝置，如推動(dòng)裝置、拉動(dòng)裝置，可以被使用。
至少一些噴嘴556和572被連接到適應(yīng)孔裝置，在缺乏與流體流進(jìn)行可操作性接合的懸浮平面的情況下，該裝置可以限制經(jīng)過噴嘴的流體流，這是圖5B實(shí)施例的一個(gè)特殊的特征。該適應(yīng)孔裝置可以被方便地設(shè)置為與平臺(tái)550中的孔552相連。在下列參考文獻(xiàn)中說明了用于通過縮減氣流提供壓力墊，或抽吸裝置的適應(yīng)孔裝置的優(yōu)選實(shí)施例，其公布的全部內(nèi)容在這里被引作參考已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/14782 A1已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/14752 A1已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/19572 A1。
可以知道，任何其它合適的適應(yīng)或非適應(yīng)孔裝置可以被使用。
現(xiàn)在參考圖6，它是按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成并運(yùn)行的一種檢查系統(tǒng)的簡圖，該檢查系統(tǒng)特別被用于檢查內(nèi)制平板顯示器。如圖6所示，靜止懸浮平臺(tái)600被安裝在底座602上。平臺(tái)600優(yōu)選形成有多個(gè)縱向延伸的槽604。布置在槽604內(nèi)的是兩組可選擇升高的輥?zhàn)?，用于接收并傳送大致平面狀的基?06，如內(nèi)制平板顯示器或印刷線路板。
這兩組可選擇升高的輥?zhàn)觾?yōu)選包括一個(gè)輸入組608和一個(gè)輸出組610，前者接收并傳送將要被檢查的大致平面狀的基片606，后者接收并傳送檢查后從檢查平臺(tái)612過來的大致平面狀的基片606。可以知道，該檢查平臺(tái)可以包括任何合適的光學(xué)檢查傳感器、或用于感測(cè)大致平面狀的基片606一個(gè)想要的物理屬性的其它任何合適裝置。
設(shè)置在槽604內(nèi)的是多個(gè)懸浮噴嘴614，這些噴嘴被用于進(jìn)行可選擇地懸浮大致平面狀的基片606。噴嘴614優(yōu)選通過歧管(未示出)被連接到正流體壓力源。
至少一些噴嘴614被連接到適應(yīng)孔裝置，在缺乏與流體流進(jìn)行可操作性接合的懸浮平面的情況下，該裝置可以限制經(jīng)過噴嘴的流體流，這是圖6的實(shí)施例的一個(gè)特殊的特征。在下列參考文獻(xiàn)中說明了適應(yīng)孔裝置的優(yōu)選實(shí)施例，其公布的全部內(nèi)容在這里被引作參考已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/14782 A1已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/14752 A1已公開的PCT專利申請(qǐng)WO 01/19572 A1。
在檢查站612，希望大致平面狀的基片606在運(yùn)輸經(jīng)過時(shí)被壓平或保持在相對(duì)于平臺(tái)600(或成像裝置，如照相機(jī)628)相距精確距離的給定方位。于是，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中除了懸浮噴嘴614之外，還設(shè)置有反向流體流，優(yōu)選為抽吸或真空流，該反向流優(yōu)選來自于多個(gè)反向力噴嘴616，這些噴嘴通過歧管(未示出)被連接到抽吸源。在圖6的實(shí)施例中，反向力噴嘴616位于檢查站612的附近，與受到來自于懸浮噴嘴614的流體流沖擊的平面電路606一面位于同一面。
圖6的檢查系統(tǒng)優(yōu)選還包括放置裝置620，用于在可選擇升高的輥?zhàn)颖皇栈夭?04中時(shí)，沿著優(yōu)選平行于平臺(tái)600移動(dòng)懸浮的大致平面狀的基片606。該放置裝置620優(yōu)選包括平行于平臺(tái)600設(shè)置的軌道622。運(yùn)載裝置624被沿著軌道622驅(qū)動(dòng)，并優(yōu)選包括夾持件626，該夾持件接合平面電路606并使它被平行于軌道622放置?？梢灾?，作為選擇，任何其它合適類型的接觸或非接觸放置裝置，如推動(dòng)裝置、拉動(dòng)裝置，可以被使用。需要注意，如果懸浮基片606例如通過壓力墊懸浮，可以被容易地側(cè)向放置，放置裝置620就不需要支撐平面狀基片606的全部重量，并且放置裝置620只需要提供放置功能。
檢查站612優(yōu)選包括多個(gè)靜止照相機(jī)628，它們優(yōu)選被安裝在跨過平臺(tái)600的第一橋630上，并被連接到圖像處理計(jì)算機(jī)(未示出)。檢查站612優(yōu)選還包括可移動(dòng)的攝像機(jī)632，它優(yōu)選安裝在位于第一橋630下游、橫跨平臺(tái)600的第二橋634上，并被連接到圖像后處理計(jì)算機(jī)(未示出)。可移動(dòng)的攝像機(jī)632優(yōu)選被用于響應(yīng)從圖像處理計(jì)算機(jī)接受的輸入信號(hào)，用于可選擇地觀察被懷疑有缺陷的大致平面狀的基片606的部分。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以知道，本發(fā)明并不限于上面特別顯示和說明的內(nèi)容。而且，本發(fā)明的范圍包括上述各種特征的組合和子組合，還包括本領(lǐng)域技術(shù)人員閱讀本說明書后作出的不屬于現(xiàn)有技術(shù)的變化和修改。
權(quán)利要求
1.一種與大致平面狀的基片一起使用的雙面成像系統(tǒng)，包括氣流傳送裝置，該氣流傳送裝置用于以懸浮狀態(tài)將大致平面狀的基片至少傳送到一個(gè)成像位置，所述平面狀基片選自基片組印刷線路板、平板顯示器和互連裝置基片；圖像獲取裝置，該圖像獲取裝置位于所述成像位置，用于在所述平面狀基片由所述氣流傳送裝置懸浮時(shí)使所述平面狀基片雙面成像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置至少在所述成像位置包括氣流基片壓平功能件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置包括抑制用抽吸裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流基片壓平功能件包括抑制用氣墊。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流基片壓平功能件包括抑制用抽吸裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置也被用于傳送所述平面狀基片離開所述成像位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置包括放置裝置，用于將所述平面狀基片至少朝向所述成像位置放置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置包括放置裝置，用于將所述平面狀基片遠(yuǎn)離所述成像位置放置。
9.一種用于使大致平面狀的基片雙面成像的方法，包括以懸浮狀態(tài)傳送平面狀基片到至少一個(gè)圖像獲取位置，所述平面狀基片選自基片組印刷線路板、平板顯示器和互連裝置基片；和在所述平面狀基片位于所述懸浮狀態(tài)時(shí)，獲取所述平面狀基片兩相對(duì)面的圖像。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中傳送包括使用氣流壓平裝置至少在所述圖像獲取位置壓平所述平面狀基片。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述傳送包括利用抑制用墊抑制所述平面狀基片。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述壓平包括利用抽吸裝置壓平。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述壓平包括利用氣墊壓平。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述傳送還包括傳送所述平面狀基片離開所述成像位置。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述傳送包括以懸浮狀態(tài)將所述平面狀基片至少朝向所述成像位置放置。
16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述傳送包括以懸浮狀態(tài)將所述平面狀基片遠(yuǎn)離所述成像位置放置。
17.一種與大致平面狀的基片一起使用的雙面成像系統(tǒng)，包括氣流傳送裝置，該氣流傳送裝置用于以懸浮狀態(tài)將印刷線路板基片至少傳送到一個(gè)成像位置；和圖像生成裝置，該圖像生成裝置位于所述成像位置，用于在所述平面狀基片由所述氣流傳送裝置懸浮時(shí)使所述平面狀基片雙面成像。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的平板掃描器系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置至少在所述成像位置包括氣流基片壓平功能件。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的平板掃描器系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置包括抑制用抽吸裝置。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流基片壓平功能件包括抑制用氣墊。
21.根據(jù)權(quán)利要求18所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流基片壓平功能件包括抑制用抽吸裝置。
22.根據(jù)權(quán)利要求17所述的平板掃描器系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置也被用于傳送所述平面狀基片離開所述成像位置。
23.根據(jù)權(quán)利要求17所述的平板掃描器系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置包括放置裝置，用于將所述平面狀基片至少朝向所述成像位置放置。
24.根據(jù)權(quán)利要求17所述的平板掃描器系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置包括放置裝置，用于將所述平面狀基片遠(yuǎn)離所述成像位置放置。
25.一種用于使大致平面狀的基片雙面成像的方法，包括以懸浮狀態(tài)傳送印刷線路板基片到至少一個(gè)圖像生成位置；在所述印刷線路板基片位于所述懸浮狀態(tài)時(shí)，在所述印刷線路板基片兩相對(duì)面的生成圖像。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中傳送包括使用氣流基片壓平裝置至少在所述圖像生成位置壓平所述印刷線路板基片。
27.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中所述傳送包括利用抑制用墊抑制所述印刷線路板基片。
28.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中所述壓平包括利用抽吸壓平。
29.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中所述壓平包括利用氣墊壓平。
30.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中所述傳送還包括傳送所述印刷線路板基片離開所述成像位置。
31.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中所述傳送包括以懸浮狀態(tài)將所述印刷線路板基片至少朝向所述成像位置放置。
32.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中所述傳送包括以懸浮狀態(tài)將所述印刷線路板基片遠(yuǎn)離所述成像位置放置。
33.一種與大致平面狀的基片一起使用的雙面成像系統(tǒng)，包括氣流傳送裝置，該氣流傳送裝置用于以懸浮狀態(tài)將大致平面狀的基片至少傳送到一個(gè)成像位置；成像裝置，該成像裝置位于所述成像位置，用于在所述平面狀基片由所述氣流傳送裝置懸浮時(shí)使所述平面狀基片雙面成像。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的成像系統(tǒng)，其中所述成像裝置為圖像獲取裝置。
35.根據(jù)權(quán)利要求33所述的成像系統(tǒng)，其中所述成像裝置為種圖像生成裝置。
36.根據(jù)權(quán)利要求33所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置至少在所述成像位置包括氣流基片壓平功能件。
37.根據(jù)權(quán)利要求33所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置包括氣流型抑制裝置。
38.根據(jù)權(quán)利要求36所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流基片壓平功能件包括氣流懸浮裝置。
39.根據(jù)權(quán)利要求36所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流基片壓平功能件包括氣流型抑制裝置。
40.根據(jù)權(quán)利要求33所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置也被用于傳送所述平面狀基片離開所述成像位置。
41.根據(jù)權(quán)利要求33所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置包括放置裝置，用于將所述平面狀基片至少朝向所述成像位置放置。
42.根據(jù)權(quán)利要求33所述的成像系統(tǒng)，其中所述氣流傳送裝置包括放置裝置，用于將所述平面狀基片遠(yuǎn)離所述成像位置放置。
43.一種用于使大致平面狀的基片雙面成像的方法，包括以懸浮狀態(tài)傳送所述平面狀基片到至少一個(gè)成像位置；在所述平面狀基片位于所述懸浮狀態(tài)時(shí)，對(duì)所述平面狀基片兩相對(duì)面成像。
44.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中所述成像包括圖像獲取。
45.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中所述成像包括圖像生成。
46.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中所述傳送包括使用氣流基片壓平裝置至少在所述成像位置壓平所述平面狀基片。
47.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中所述傳送包括利用氣流型抑制裝置抑制所述平面狀基片。
48.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中所述壓平包括利用氣流懸浮裝置壓平。
49.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中所述空氣壓平包括利用氣流型抑制裝置壓平。
50.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中所述傳送還包括傳送所述平面狀基片離開所述成像位置。
51.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中所述傳送包括以懸浮狀態(tài)將所述平面狀基片至少朝向所述成像位置放置。
52.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中所述傳送包括以懸浮狀態(tài)將所述平面狀基片遠(yuǎn)離所述成像位置放置。
全文摘要
一種與大致平面狀的基片一起使用的雙面成像系統(tǒng)，包括氣流傳送裝置，該氣流傳送裝置用于以懸浮狀態(tài)將大致平面狀的基片至少傳送到一個(gè)成像位置，所述平面狀基片選自基片組印刷線路板、平板顯示器和互連裝置基片；圖像獲取裝置，該圖像獲取裝置位于所述成像位置，用于在所述平面狀基片由所述氣流傳送裝置懸浮時(shí)使所述平面狀基片雙面成像。
文檔編號(hào)G01N21/86GK101024451SQ20061017013
公開日2007年8月29日 申請(qǐng)日期2002年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2001年12月27日
發(fā)明者拉阿南·阿丁, 尤沃爾·亞索爾 申請(qǐng)人:奧博泰克有限公司, 科爾弗洛有限公司