專利名稱：用于生物傳感器的新的電極設(shè)計(jì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于測量諸如那些與生物流體內(nèi)的分析物(諸如血 糖)的濃度相關(guān)的以及那些與對分析物濃度信號的干擾(諸如在血糖 的情況中的血細(xì)胞比容和溫度)相關(guān)的信號的設(shè)備。本發(fā)明更特定地 涉及用于生物傳感器檢驗(yàn)條的質(zhì)量保證的系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
測量生物流體中的物質(zhì)的濃度是用于診斷和治療許多醫(yī)學(xué)狀態(tài)的 重要的工具。例如，對諸如血液的體液中的葡萄糖的測量對于有效地 治療糖尿病是及其重要的。
糖尿病的療法通常包括兩種類型的胰烏素治療基礎(chǔ)的，和進(jìn)餐 時(shí)?；A(chǔ)的胰島素指的是連續(xù)的，例如逐漸釋放的胰島素，經(jīng)常在睡 覺前進(jìn)行。進(jìn)餐時(shí)胰島素治療提供附加的劑量的更快作用的胰島素以 調(diào)節(jié)由包括糖和碳水化合物的新陳代謝的各種因素導(dǎo)致的血糖的波 動(dòng)。對血糖波動(dòng)的適當(dāng)?shù)恼{(diào)節(jié)需要準(zhǔn)確地測量血液中的葡萄糖的濃 度。無法準(zhǔn)確地測量血液中的葡萄糖的濃度能夠產(chǎn)生嚴(yán)重的并發(fā)癥， 包括失明和喪失手足循環(huán)，其能夠最終導(dǎo)致糖尿病人喪失使用他或她 的手指、手、腳等等的能力。
已知用于確定血液樣本中的諸如例如葡萄糖的分析物的濃度的多 種方法。這樣的方法通常屬于兩種分類其中之一光學(xué)方法和電化學(xué) 方法。光學(xué)方法通常包括光譜學(xué)以觀察通過分析物的濃度導(dǎo)致的流體 內(nèi)的光譜偏移，通常與當(dāng)與分析物結(jié)合時(shí)產(chǎn)生已知的顏色的試劑協(xié) 同。電化學(xué)方法通常依靠電流(電流分析法)、電位(電位分析法) 或積聚的電荷(庫侖分析法)和分析物濃度之間的相互關(guān)系，通常與 當(dāng)與分析物結(jié)合時(shí)產(chǎn)生電荷載體的試劑協(xié)同。參看例如Columbus的美 國專利No. 4,233,029、Pace的4,225,410、Columbus的4,323,536、Muggli 的4，008，448、 Lilja等人的4,654,197、 Szuminsky等人的5，108，564、 Nankai等人的5,120,420、 Szuminsky等人的5,128,015、 White的 5，243，516、Diebold等人的5,437,999、Pollmann等人的5,288,636、 Carter 等人的5，628，890、Hill等人的5，682，884、Hill等人的5,727,548、Crismore
等人的5,997,817 、 Fujiwara等人的6,004,441 、 Priedel等人的 4,919,770、和Shieh的6,054,039，以上專利特此全文加入。用于實(shí)施 檢驗(yàn)的生物傳感器典型地為其上具有與生物流體內(nèi)的感興趣的分析物 化學(xué)地反應(yīng)的試劑的一次性的檢驗(yàn)條。檢驗(yàn)條配合到非一次性的檢驗(yàn) 儀表，使得檢驗(yàn)儀表能夠測量分析物和試劑之間的反應(yīng)以確定和為使 用者顯示分析物的濃度。
圖1示意性地示出了典型的現(xiàn)有技術(shù)的一次性的生物傳感器檢驗(yàn) 條，通常指示為10 (參看例如轉(zhuǎn)讓給與本申請相同的受讓人并且作為 參考加入這里的美國專利No. 4,999,582和5,438,271 )。檢驗(yàn)條10形成 在非導(dǎo)電的基底12上，在其上形成導(dǎo)電區(qū)域14、 16?；瘜W(xué)試劑18在 檢驗(yàn)條10的一個(gè)端部施加在導(dǎo)電區(qū)域14、 16上。試劑18將以當(dāng)電壓 電位施加到測量電極14a和16a之間時(shí)能夠被檢測到的方式與生物樣 本內(nèi)的感興趣的分析物反應(yīng),。
因此，檢驗(yàn)條10具有反應(yīng)區(qū)20，包含直接與包含將要確定其在樣 本內(nèi)的濃度的分析物的樣本接觸的測量電極14a、 16a。在電流分析法 或庫侖分析法電化學(xué)測量系統(tǒng)中，反應(yīng)區(qū)20內(nèi)的測量電極14a、 16a 被聯(lián)結(jié)到將電位施加到測量電極并且測量電化學(xué)傳感器對此電位的響 應(yīng)(例如，電流，阻抗，電荷，等等)的電子電路(典型地在檢驗(yàn)條 IO被插入其中的檢驗(yàn)儀表(沒有示出)內(nèi)，如在本領(lǐng)域中眾所周知的)。 此響應(yīng)與分析物的濃度成比例。
檢驗(yàn)儀表在檢驗(yàn)條10的接觸區(qū)22內(nèi)的接觸墊14b、 16b處接觸檢 驗(yàn)條10。接觸區(qū)22定位為稍微遠(yuǎn)離檢驗(yàn)區(qū)20，通常(但不總是)在 檢驗(yàn)條10的相反的端部。導(dǎo)電跡線14c、 16c將接觸區(qū)22內(nèi)的接觸墊 14b、 16b聯(lián)結(jié)到反應(yīng)區(qū)20內(nèi)的分別的測量電極14a、 16a。
特別是對于其中的電極、跡線和接觸墊由導(dǎo)電薄膜(例如，貴金 屬，碳墨，和銀膏，作為非限制性的示例)組成的生物傳感器10，將 接觸區(qū)22連接對反應(yīng)區(qū)20的導(dǎo)電跡線14c、 16c的電阻率能夠相當(dāng)于 數(shù)百歐姆或更大。此寄生電阻導(dǎo)致沿跡線14c、 16c的長度的電位降， 使得出現(xiàn)在反應(yīng)區(qū)20內(nèi)的測量電極14a、 16a的電位比通過檢驗(yàn)儀表 施加到接觸區(qū)22內(nèi)的檢驗(yàn)條10的接觸墊14b、 16b的電位小得多。因 為在反應(yīng)區(qū)20內(nèi)發(fā)生的反應(yīng)的阻抗可能在跡線14c、16c的寄生電阻的 數(shù)量的量級，由于通過跡線導(dǎo)致的I-R (電流x電阻)降，測量的信號
可能具有相當(dāng)大的偏移。如果不同檢驗(yàn)條之間此偏移不同，噪聲附加
到測量結(jié)果。此外，對檢驗(yàn)條io的物理損害，諸如磨損、破裂、劃痕、
化學(xué)降解等等，可能在制造、運(yùn)送、存儲和/或使用者誤操作期間發(fā)生。
這些因素可能損害導(dǎo)電區(qū)域14、 16達(dá)到它們呈現(xiàn)非常高的電阻或甚至 開路的程度。這樣的跡線電阻的增加可能阻止檢驗(yàn)儀表執(zhí)行準(zhǔn)確的檢 驗(yàn)。

發(fā)明內(nèi)容
用于當(dāng)檢驗(yàn)條配合到適當(dāng)?shù)臋z驗(yàn)儀表時(shí)測量生物流體內(nèi)的感興趣 的信號的檢驗(yàn)條，其中，檢驗(yàn)條和檢驗(yàn)儀表包括鑒定檢驗(yàn)條跡線的完 整性、測量檢驗(yàn)條跡線的寄生電阻、和在施加到檢驗(yàn)條的電壓內(nèi)提供 補(bǔ)償以解決檢驗(yàn)條跡線內(nèi)的寄生電阻損耗的結(jié)構(gòu)。另外，導(dǎo)電跡線定 位為確保存在于檢驗(yàn)條上的全部電極和跡線的結(jié)構(gòu)詢問。


下面將參考附圖僅作為示例更進(jìn)一步地描述本發(fā)明，其中
圖1為用于測量生物流體內(nèi)的感興趣的分析物的濃度的典型的現(xiàn)
有技術(shù)的檢驗(yàn)條的示意性的平面圖。
圖2為根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的檢驗(yàn)條的示意性的平面圖。
圖3為用于與圖2所示的第一實(shí)施例的檢驗(yàn)條一起使用的第一實(shí)
施例的電子檢驗(yàn)電路的原理圖。
圖4為用于測量生物流體內(nèi)的感興趣的分析物的濃度的第二典型
的檢驗(yàn)條的分解的裝配圖。
圖5示出了適用于與本發(fā)明 一起使用的燒蝕設(shè)備的視圖。
圖6為示出了第二掩模的圖5所示的激光燒蝕設(shè)備的視圖。
圖7為適用于與本發(fā)明一起使用的燒蝕設(shè)備的視圖。
圖8為根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的檢驗(yàn)條的示意性的平面圖。
圖9為用于與圖8所示的第二實(shí)施例的檢驗(yàn)條一起使用的第二實(shí)
施例的電子檢驗(yàn)電路的原理圖。
圖IO為用于與圖8所示的第二實(shí)施例的檢驗(yàn)條一起使用的第三實(shí)
施例的電子檢驗(yàn)電路的原理圖。
圖11為檢驗(yàn)條的第三實(shí)施例的示意性的平面圖。 圖12為檢驗(yàn)條的第四實(shí)施例的示意性的平面圖。
具體實(shí)施例方式
為了促進(jìn)理解本發(fā)明的原理的目的，現(xiàn)在將參考在附圖中示出的 實(shí)施例，并且將使用專用語言來描述該實(shí)施例。然而，應(yīng)該理解不打 算限制本發(fā)明的范圍。本發(fā)明涉及的領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員通常地想 到的說明的裝置的更改和修改、和如在這里說明的本發(fā)明的原理的更 進(jìn)一步的應(yīng)用是被預(yù)想的并且希望被保護(hù)。特別是，雖然關(guān)于血糖儀 表來討論本發(fā)明，預(yù)想本發(fā)明能夠與用于測量其它分析物和其它樣本 類型的裝置一起使用。對于本領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員顯而易見，這樣 的替代的實(shí)施例需要對這里討論的實(shí)施例進(jìn)行某些適應(yīng)。
雖然本發(fā)明的系統(tǒng)和方法可以與具有多種設(shè)計(jì)并且用多種構(gòu)造技
術(shù)和工藝制造的檢驗(yàn)條一起使用，在圖2中示意性地示出了本發(fā)明的 第一實(shí)施例的電化學(xué)檢驗(yàn)條，并且通常指示為200。與檢驗(yàn)條10大致 相同的檢驗(yàn)條200的部分用相似的參考指示符標(biāo)記。參考圖2，檢驗(yàn)條 200包括由在其頂部表面涂敷有50nm導(dǎo)電金層(例如通過濺射或氣相 沉積，作為非限制性的示例)的350pm厚的聚酯(諸如可以從DuPont 獲得的Melinex329)的不傳導(dǎo)的片形成的底部基底12。因此，電極、 連接跡線和接觸墊隨后通過例如激光燒蝕工藝在導(dǎo)電層內(nèi)形成圖案。 激光燒蝕工藝的一個(gè)實(shí)施例依靠通過石英上鉻的掩模的準(zhǔn)分子激光執(zhí) 行。通過鉻限定的掩模圖案導(dǎo)致激光場的一部分被反射，同時(shí)允許場 的其它部分通過石英，在金上形成圖案，金在被激光接觸的地方蒸發(fā)。 在下文中更加詳細(xì)地描述了激光燒蝕工藝。例如，工作電極214a、反 電極216a、和反感測電極224a可以如圖所示般形成并且依靠分別的跡 線214c、 216c和224c聯(lián)結(jié)到分別的測量接觸墊214b、 216b和224b。 這些接觸墊214b、 216b和224b在檢驗(yàn)條200上提供導(dǎo)電的區(qū)域，以 一旦檢驗(yàn)條200被插入檢驗(yàn)儀表，被檢驗(yàn)儀表(沒有示出)的連接器 觸點(diǎn)接觸，如在本領(lǐng)域中眾所周知的。
圖2和3示出了通過允許補(bǔ)償檢驗(yàn)條的反電極線內(nèi)的寄生I-R降對 現(xiàn)有技術(shù)的檢驗(yàn)條設(shè)計(jì)改進(jìn)的本發(fā)明的實(shí)施例。應(yīng)該理解，圖2所示 的檢驗(yàn)條200與圖1所示的現(xiàn)有技術(shù)的檢驗(yàn)條10大致相同，除了添加 了反感測電極224a、接觸墊224b、和跡線224c。反感測線224的提供 允許檢驗(yàn)儀表(如下文中所述)補(bǔ)償接觸墊216b、 224b之間的寄生電 阻。注意，當(dāng)與圖3所示的電路一起使用時(shí)，圖2所示的實(shí)施例僅補(bǔ) 償檢驗(yàn)條200的反電極側(cè)上的I-R降。使用此電路不能檢測檢驗(yàn)條200
的工作電極側(cè)上的寄生電阻，然而其也可以根據(jù)需要被復(fù)制在工作電 極側(cè)上，如本領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員通過參考本披露物可以明白的。 在下文中提出用于補(bǔ)償在檢驗(yàn)條的工作側(cè)和反側(cè)二者全部上的寄生電
阻的更進(jìn)一步的方法。因此，圖2所示的反感測線允許檢驗(yàn)儀表補(bǔ)償 反線216內(nèi)的任何寄生電阻電位降，如參考圖3更加詳細(xì)地描述的。
現(xiàn)在參考圖3，示出了容納在檢驗(yàn)儀表內(nèi)的第一實(shí)施例的電極補(bǔ)償 電路(通常指示為300)的電路原理圖。如圖所示，當(dāng)檢驗(yàn)條200被插 入檢驗(yàn)儀表時(shí)，電路聯(lián)結(jié)到接觸墊214b、 216b和224b。如本領(lǐng)域中的 普通技術(shù)人員應(yīng)該理解的，電壓電位施加到反電極接觸墊216b，這將 在反電極216a和工作電極214a之間產(chǎn)生與施加到試劑18的生物樣本 中存在的分析物的量成比例的電流。來自工作電極214a的電流依靠工 作電極跡線214c傳輸?shù)焦ぷ麟姌O接觸墊214b并且提供給電流-電壓放 大器310。通過模擬-數(shù)字轉(zhuǎn)換器(A/D) 312將放大器310的模擬輸出 電壓轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號。微處理器314隨后根據(jù)之前存儲的程序處理此 數(shù)字信號，以便確定施加到檢驗(yàn)條200的生物樣本內(nèi)的分析物的濃度。 依靠諸如液晶顯示器(LCD)屏幕的適當(dāng)?shù)妮敵鲅b置316為使用者顯 示此濃度。
微處理器314還輸出指示施加到反電極接觸墊216b的電壓電位的 數(shù)字信號。通過數(shù)字-模擬轉(zhuǎn)換器(D/A)318將此數(shù)字信號轉(zhuǎn)換為模擬 電壓信號。D/A318的模擬輸出施加到運(yùn)算放大器320的第一輸入。運(yùn) 算放大器320的第二輸入聯(lián)結(jié)到反感測電極接觸墊224b。運(yùn)算放大器 320的輸出聯(lián)結(jié)到反電極接觸墊216b。
運(yùn)算放大器320以電壓跟隨器構(gòu)造連接，其中，放大器將調(diào)節(jié)其 輸出(在其操作的物理限制內(nèi))直到在其第二輸入出現(xiàn)的電壓等于在 其第一輸入出現(xiàn)的指令電壓。運(yùn)算放大器320的第二輸入為高阻抗輸 入，因此，大致沒有電流在反感測線224上流動(dòng)。因?yàn)榇笾聸]有電流 流動(dòng)，反感測線224內(nèi)的任何寄生電阻不會導(dǎo)致電位降，并且出現(xiàn)在 運(yùn)算放大器320的第二輸入處的電壓與在反感測電極224a處的電壓大 致相同，由于它們物理上的接近性，其又與出現(xiàn)在反電極216a處的電 壓大致相同。因此，運(yùn)算放大器320作用為改變施加到反電極接觸墊 216b的電壓電位，直到出現(xiàn)在反電極216a處的實(shí)際電壓電位(當(dāng)通過 反感測線224反饋時(shí))等于通過微處理器314指令的電壓電位。因此，
運(yùn)算放大器320自動(dòng)地補(bǔ)償由反電極跡線216c內(nèi)的寄生電阻導(dǎo)致的任 何電位降，并且出現(xiàn)在反電極216a處的電位為希望的電位。因此，使 得從通過工作電極產(chǎn)生的電流計(jì)算生物樣本內(nèi)的分析物濃度更加準(zhǔn) 確，因?yàn)楫a(chǎn)生電流的電壓的確與通過微處理器314指令的電壓相同。 在沒有補(bǔ)償由電路300提供的寄生電阻電壓降的情況下，微處理器314 會在錯(cuò)誤地假定指令電壓實(shí)際地施加到反電極216a的情況下分析作為 結(jié)果的電流。
許多方法可以用于制備具有多個(gè)電極的檢驗(yàn)條，諸如作為非限制 性的示例的碳墨印刷、銀青絲網(wǎng)印制、劃線金屬化的塑料、電鍍、化 學(xué)鍍、和光化學(xué)刻蝕。這里描述的一種制備具有附加的電極感測線的 檢驗(yàn)條的方法為通過使用激光燒蝕技術(shù)。使用這些技術(shù)制備用于生物 傳感器的電極的示例在2001年5月25日提出的題目為 "Biosensors with Laser Ablation Electrodes with a Continuous Coverlay Channel" 的美國專利申請序號09/866,030和在1999年10月4日提出的題目為 "Laser Defined Features for Patterned Laminates and Electrode"的美 國專利申請序號09/411,940中描述，全部披露物在這里作為參考加入。 激光燒蝕對于制備根據(jù)本發(fā)明的檢驗(yàn)條是有用的，因?yàn)槠湓试S以可重 復(fù)的方式準(zhǔn)確地制造具有非常小的特征尺寸的導(dǎo)電區(qū)域。激光燒蝕提 供用于在不增加檢驗(yàn)條的尺寸的情況下將本發(fā)明的額外的感測線附加 到檢驗(yàn)條的方法。
本發(fā)明希望提供電部件相對于彼此并且相對于整個(gè)生物傳感器的 準(zhǔn)確的布置。在一個(gè)實(shí)施例中，至少部分地通過使用通過掩?；蚱渌?具有對于電部件的精確的圖案的裝置執(zhí)行的寬場激光燒蝕實(shí)現(xiàn)部件的 相對的布置。這允許準(zhǔn)確地定位鄰近的邊緣，這通過對于邊緣的平滑 度的緊公差更進(jìn)一 步地增強(qiáng)。
圖4示出了用于說明本發(fā)明的激光燒蝕工藝有用的簡單的生物傳 感器401，包括基底402，限定了電極系統(tǒng)的導(dǎo)電材料403形成在基底 402上，該電極系統(tǒng)包括第 一 電極組404和第二電極組405和分別地對 應(yīng)的跡線406、 407和接觸墊408、 409。注意，這里使用生物傳感器401 的目的為說明激光燒蝕工藝，并且其沒有示出為結(jié)合本發(fā)明的感測 線。導(dǎo)電材料403可以包含純的金屬或合金或其它為金屬導(dǎo)體的材料。 在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電材料對于用于形成電極的激光的波長是吸收性
的并且厚度服從迅速和精確的處理。非限制性的示例包括鋁、碳、銅、
鉻、金、銦錫氧化物(ITO)、鈀、鉑、銀、錫氧化物/金、鈦、它們 的混合物、和這些元素的合金或金屬化合物。在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電 材料包括貴金屬或合金或它們的氧化物。其它實(shí)施例使用諸如金、鈀、 鋁、鈦、鉑、ITO和鉻的導(dǎo)電材料。導(dǎo)電材料的厚度在從大約10nm到 80nm的范圍內(nèi)。 一些實(shí)施例使用在30nm到70nm之間的厚度范圍， 其它使用在50nm的厚度。應(yīng)該理解，導(dǎo)電材料的厚度取決于材料的透 射性質(zhì)和與生物傳感器的使用相關(guān)的其它因素。
雖然沒有示出，應(yīng)該理解，作為結(jié)果的有圖案的導(dǎo)電材料能夠涂 敷或鍍有附加的金屬層。例如，導(dǎo)電材料可以為銅，其隨后用激光燒 蝕為電極圖案；隨后，可以為銅鍍鈦/鴒層，并且隨后金層，以形成希 望的電極。在大多數(shù)實(shí)施例中，使用在基部402上的單一層導(dǎo)電材料。 雖然通常不是必要的，如本領(lǐng)域中眾所周知的，通過使用諸如鉻鎳或 鈦的種子層或輔助層，可能增強(qiáng)導(dǎo)電材料到基部的附著力。在一些實(shí) 施例中，生物傳感器401具有單一層金、鈀、鉑或ITO。
分別在圖4、 6和7中示出，生物傳感器401說明性地使用兩個(gè)設(shè) 備10、 IO，制造。應(yīng)該理解，除非另有說明，設(shè)備410、 410，以相似的 方式操作。首先參考圖5，通過將具有80nm金疊層的大約40mm寬的 帶狀物420的巻供給入定制配合的寬場激光燒蝕設(shè)備410來制造生物 傳感器401。設(shè)備410包括產(chǎn)生激光412的束的激光源411、鍍鉻的石 英掩模414、和光學(xué)器件416。應(yīng)該理解，雖然示出的光學(xué)器件416為 單一透鏡，光學(xué)器件416可以為合作以使得光412為預(yù)先確定的形狀 的多種透鏡。
適合的燒蝕設(shè)備410 (圖5-6)的非限制性的示例為可以從LPKF Laser Electronic GmbH, of Garbsen， Germany 購買到的定制的 MicrolineLaser 200-4激光系統(tǒng)，其結(jié)合了可以從Lambda Physik AG， Gottingen， Germany購買到的LPX-400、 LPX-300或LPX-200激光系 統(tǒng)和可以從Infinite Graphics, Minneapolis, MN購買到的鍍鉻的石英掩 模。
對于MicrolineLaser 200-4激光系統(tǒng)(圖5-6 )，激光源411為 LPX-200 KrF-UV-laser。然而，應(yīng)該理解，根據(jù)本披露物，能夠使用 更高波長的UV激光。激光源411工作在248nm，脈沖能量為600mJ， 并且脈沖重復(fù)頻率為50Hz。激光束412的強(qiáng)度可以通過電介質(zhì)光束衰 減器(沒有示出)在3%和92%之間無限地調(diào)節(jié)。束輪廓為27x15mm2 (0.62平方英寸)并且脈沖持續(xù)時(shí)間為25ns。掩模414上的布局通過 光學(xué)元件光束擴(kuò)展器、均化器、和場鏡(沒有示出)均勻地投射。已 經(jīng)通過測量能量曲線確定了均化器的性能。成像光學(xué)器件416將掩模 414的結(jié)構(gòu)傳遞到帶狀物420上。成像比率為2:1以一方面允許移除大 的區(qū)域，另一方面保持能量密度低于施加的鉻掩模的燒蝕點(diǎn)。雖然說 明了 2:1的成像，應(yīng)該理解，根據(jù)本披露物，根據(jù)希望的設(shè)計(jì)需求，任 何數(shù)量的替代的比率是可能的。帶狀物420如箭頭425所示般運(yùn)動(dòng)以 允許接連地?zé)g多個(gè)布局段。
掩模414的定位、帶狀物420的運(yùn)動(dòng)、和激光能量由計(jì)算機(jī)控制。 如圖5所示，激光束412投射到要燒蝕的帶狀物420上。通過掩模414 的空白區(qū)域或窗418的光412從帶狀物420燒蝕金屬。掩模414的鉻涂 敷的區(qū)域424阻斷激光412并且防止在那些區(qū)域燒蝕，在帶狀物420 的表面上導(dǎo)致金屬化的結(jié)構(gòu)?，F(xiàn)在參考圖6，電部件的完整的結(jié)構(gòu)可能 需要通過第二掩模414，的附加的燒蝕步驟。應(yīng)該理解，根據(jù)本披露物， 根據(jù)光學(xué)器件和要燒蝕的電部件的尺寸，僅單一燒蝕步驟或多于兩個(gè) 燒蝕步驟可以是必要的。此外，應(yīng)該理解，根據(jù)本披露物，代替多個(gè) 掩模，可以在同一掩模上形成多個(gè)場。
特別地，適合的燒蝕設(shè)備410，(圖7)的第二非限制性的示例為可 以從LPKF Laser Electronic GmbH, of Garbsen， Germany購買到的定 制的激光系統(tǒng)，其結(jié)合了可以從Lambda Physik AG， Gottingen, Germany購買到的Lambda STEEL(穩(wěn)定能量準(zhǔn)分子激光)激光系統(tǒng)和 可以從Infinite Graphics, Minneapolis, MN購買到的鍍鉻的石英掩模。 激光系統(tǒng)特征為在308nm波長達(dá)到lOOOmJ脈沖能量。此外，激光系 統(tǒng)的頻率為100Hz。設(shè)備410，可以形成為如圖5和6所示的以兩次通 過生產(chǎn)生物傳感器，但是在一些實(shí)施例中，其光學(xué)器件允許以25ns單 一通過形成10 x 40mm圖案。
雖然不希望被特定的理論束縛，相信通過掩模414、 414，、 414" 的激光脈沖或束412在帶狀物420上的表面402的小于lpm內(nèi)被吸收。 束412的光子的能量足夠?qū)е鹿饨庾饔煤驮诮饘?聚合物分界面處的化 學(xué)鍵的迅速斷裂。相信此迅速的化學(xué)鍵斷裂導(dǎo)致吸收區(qū)內(nèi)的突然的壓
力增加并且促使材料(金屬膜403)從聚合物基部表面噴射。因?yàn)榈湫?的脈沖持續(xù)時(shí)間為20-25納秒左右，與材料的互相作用非常迅速地發(fā)生 并且對導(dǎo)電材料403的邊緣和周圍結(jié)構(gòu)的熱損害最小。和本發(fā)明預(yù)想 的一樣，作為結(jié)果的電部件的邊緣具有高邊緣質(zhì)量和準(zhǔn)確的布置。
用于從帶狀物420移除或燒蝕金屬的注量能量取決于形成帶狀物 420的材料、金屬膜到基部材料的附著、金屬膜的厚度、并且可能取決 于用于將膜布置到基部材料上的工藝，即支撐和氣相沉積。對于金在 KALADEX⑧上的注量級范圍為從大約50到大約卯mJ/cm2，在聚酰亞 胺上為大約100到大約120mJ/cm2，并且在MELINEX⑧上在大約60 到大約120mJ/cm2。應(yīng)該理解，根據(jù)本披露物，小于或大于上面提到的 注量級的注量級可能適用于其它基礎(chǔ)材料。
通過使用掩模414、 414，實(shí)現(xiàn)帶狀物420的區(qū)域的圖案形成。每個(gè) 掩模414、 414，示例性地包括包含要形成的電極部件圖案的預(yù)先確定的 部分的精確的兩維圖的掩模場422。圖5示出了包括接觸墊和跡線的一 部分的掩模場422。如圖6所示，第二掩模414，包含跡線的第二對應(yīng)的 部分和包含指狀物的電極圖案。如前所述，應(yīng)該理解，根據(jù)要燒蝕的 區(qū)域的尺寸，掩模414能夠包含電極圖案(圖7)的完整的圖，或與根 據(jù)本披露物的那些在圖5和6中示出的不同的圖案的部分。預(yù)想在本 發(fā)明的一個(gè)方面， 一次激光燒蝕檢驗(yàn)條上的電部件的整個(gè)圖案，即， 寬場包圍檢驗(yàn)條的整個(gè)尺寸(圖7)。在替代物中，并且如圖5和6所 示，接連地實(shí)現(xiàn)整個(gè)生物傳感器的部分。
雖然將在下文中討論掩模414，應(yīng)該理解，除非另有說明，討論將 同樣適用于掩模414，、 414"。參考圖5，被鉻保護(hù)的掩模場422的區(qū)域 424將阻斷激光束412投射到帶狀物420。掩模場422內(nèi)的空白區(qū)域或 窗418允許激光束412通過掩模414并且沖擊帶狀物420的預(yù)先確定的 區(qū)域。如圖5所示，掩模場422的空白區(qū)域418對應(yīng)導(dǎo)電材料403要從 其被移除的帶狀物420的區(qū)域。
此外，掩模場422的長度通過線430示出并且寬度通過線432示 出。給定LPX-200的成像比率為2:1，應(yīng)該理解，掩模的長度30為作 為結(jié)果的圖案的長度434的長度的兩倍，并且掩模的寬度432為帶狀 物420上的作為結(jié)果的圖案的寬度436的寬度的兩倍。光學(xué)器件416 減小沖擊帶狀物420的激光束412的尺寸。應(yīng)該理解，根據(jù)本披露物，
掩模場422和作為結(jié)果的圖案的相對尺寸可以改變。掩模414，(圖6)
用于完成電部件的兩維圖。
繼續(xù)參考圖5，在激光燒蝕設(shè)備410中，準(zhǔn)分子激光源411發(fā)射束 412，束412通過石英上鉻的掩模414。掩模場422導(dǎo)致激光束412的 部分反射，同時(shí)允許束的其它部分通過，在金膜上被激光束412沖擊 的地方形成圖案。應(yīng)該理解，帶狀物420可以相對于設(shè)備410靜止或 在通過設(shè)備410的輥上連續(xù)地運(yùn)動(dòng)。因此，帶狀物420的非限制性的 運(yùn)動(dòng)速率可以從大于Om/min到大約100m/min，并且在一些實(shí)施例中 從大約30m/min到大約60m/min。應(yīng)該理解，才艮據(jù)本披露物，帶狀物 420的運(yùn)動(dòng)速率僅受到選擇的設(shè)備410的限制并且依靠激光源411的脈 沖持續(xù)時(shí)間可以超過100m/min 。
一旦在帶狀物420上形成掩模414的圖案，重繞帶狀物并且將其 再次供給通過設(shè)備410，使用掩模414，(圖6)。應(yīng)該理解，替代地， 根據(jù)本披露物，激光設(shè)備410可以串聯(lián)定位。從而，通過使用掩模414、 414，，能夠使用重復(fù)步驟工藝為帶狀物420的大的區(qū)域形成圖案，包括 在相同的掩模區(qū)域內(nèi)的多個(gè)掩模場422，以使得能夠在基部的基底上經(jīng) 濟(jì)地形成復(fù)雜的電極圖案和其它電部件、形成電極部件的精確的邊 緣、和從基部材料移除較大量金屬膜。
圖8和9所示的本發(fā)明的第二實(shí)施例通過提供對于檢驗(yàn)條上的工 作電極和反電極導(dǎo)線二者全部的I-R降的補(bǔ)償改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)?，F(xiàn)在參 考圖8，示意性地示出了本發(fā)明的第二實(shí)施例的檢驗(yàn)條構(gòu)造，通常指示 為800。檢驗(yàn)條800包括用50nm導(dǎo)電金層(例如通過作為非限制性的 示例的濺射或氣相沉積)涂敷在其頂部表面上的底部基底12。因此， 電極、連接跡線和接觸墊隨后通過如上文中所述的激光燒蝕工藝在導(dǎo) 電層內(nèi)形成圖案。例如，工作電極814a、工作感測電極826a、反電極 216a、和反感測電極224a可以如圖所示形成并且通過分別的跡線 814c、 826c、 216c和224c聯(lián)結(jié)到分別的測量接觸墊814b、 826b、 216b 和224b。這些接觸墊814b、 826b、 216b和224b在檢驗(yàn)條800上提供 導(dǎo)電區(qū)域，以一旦檢驗(yàn)條800插入檢驗(yàn)儀表，被檢驗(yàn)儀表(沒有示出)
的連接器觸點(diǎn)接觸。
應(yīng)該理解，圖8所示的檢驗(yàn)條800與圖2所示的第一實(shí)施例的檢驗(yàn) 條200大致相同，除了添加了工作感測電極826a、接觸墊826b、和跡
線826c。工作感測線826的提供允許檢驗(yàn)儀表補(bǔ)償通過到接觸墊814b 和216b的連接的接觸電阻導(dǎo)致的任何I-R降，并且補(bǔ)償跡線814c和 216c的跡線電阻。
現(xiàn)在參考圖9，示出了容納在檢驗(yàn)儀表內(nèi)的第二實(shí)施例的電極補(bǔ)償 電路(通常指示為卯0)的電路原理圖。如圖所示，當(dāng)檢驗(yàn)條800插入 檢驗(yàn)儀表時(shí)，電路聯(lián)結(jié)到接觸墊826b、 814b、 216b和224b。如本領(lǐng)域 中的普通技術(shù)人員應(yīng)該理解的，電壓電位施加到反電極接觸墊216b， 這將在反電極216a和工作電極814a之間產(chǎn)生與施加到試劑18的生物 樣本中存在的分析物的量成比例的電流。來自工作電極814a的電流通 過工作電極跡線814c傳輸?shù)焦ぷ麟姌O接觸墊814b并且提供給電流-電 壓放大器310。通過A/D312將放大器310的模擬輸出電壓轉(zhuǎn)換為數(shù)字 信號。微處理器314隨后根據(jù)之前存儲的程序處理此數(shù)字信號，以便 確定施加到檢驗(yàn)條800的生物樣本內(nèi)的感興趣的分析物的濃度.依靠 LCD輸出裝置316為使用者顯示此濃度。
微處理器314還輸出指示施加到反電極接觸墊216b的電壓電位的 數(shù)字信號。通過D/A318將此數(shù)字信號轉(zhuǎn)換為模擬電壓信號。D/A318 的模擬輸出施加到運(yùn)算放大器320的第一輸入。運(yùn)算放大器320的第 二輸入聯(lián)結(jié)到運(yùn)算放大器910的輸出。運(yùn)算放大器910以使用測量放 大器的不同的放大器構(gòu)造連接。運(yùn)算放大器910的笫一輸入聯(lián)結(jié)到工 作感測電極接觸墊826b，同時(shí)運(yùn)算放大器910的笫二輸入聯(lián)結(jié)到反感 測電極接觸墊224b。運(yùn)算放大器320的輸出聯(lián)結(jié)到反電極接觸墊 216b。
運(yùn)算放大器320以電壓跟隨器構(gòu)造連接，其中，放大器將調(diào)節(jié)其 輸出(在其操作的物理限制內(nèi))直到在其第二輸入出現(xiàn)的電壓等于在 其第一輸入出現(xiàn)的指令電壓。運(yùn)算放大器320的全部輸入為高阻抗輸 入，因此，大致沒有電流在反感測線224或工作感測線826內(nèi)流動(dòng)。 因?yàn)榇笾聸]有電流流動(dòng)，反感測線224或工作感測線826內(nèi)的任何寄 生電阻不會導(dǎo)致電位降，并且跨越運(yùn)算放大器910的輸入出現(xiàn)的電壓 與跨越測量單元(即，跨越反電極216a和工作電極814a)的電壓大致 相同。因?yàn)檫\(yùn)算放大器910以不同的放大器構(gòu)造連接，其輸出表示跨 越測量單元的電壓。
因此，運(yùn)算放大器320作用為改變其輸出(即，施加到反電極接
觸墊216b的電壓電位)，直到跨越測量單元出現(xiàn)的實(shí)際的電壓電位等 于通過微處理器314指令的電壓電位。因此，運(yùn)算放大器320自動(dòng)地 補(bǔ)償由反電極跡線216c、反電極接觸件216b、工作電極跡線814c、和 工作電極接觸件814b內(nèi)的寄生電阻導(dǎo)致的任何電位降，并且因此，跨 越測量單元出現(xiàn)的電位為希望的電位。因此，使得從通過工作電極產(chǎn) 生的電流計(jì)算生物樣本內(nèi)的分析物的濃度更加準(zhǔn)確。
圖IO連同圖8示出了本發(fā)明的第三實(shí)施例，其通過提供對于工作 電極線和反電極線二者全部上的I-R降的補(bǔ)償以及提供工作電極線和 反電極線二者全部上的電阻不高于預(yù)先確定的閾值的驗(yàn)證以便確保檢 驗(yàn)儀表能夠補(bǔ)償I-R降來改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)?，F(xiàn)在參考圖10，示出了容納 在檢驗(yàn)儀表內(nèi)的第三實(shí)施例的電極補(bǔ)償電路(通常指示為1000)的電 路原理圖。電極補(bǔ)償電路1000與圖8所示的檢驗(yàn)條800—起工作。如 圖所示，當(dāng)檢驗(yàn)條800插入檢驗(yàn)儀表時(shí)，電路聯(lián)結(jié)到接觸墊826b、814b、 216b和224b。如本領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員應(yīng)該理解的，電壓電位施加 到反電極接觸墊216b，這將在反電極216a和工作電極814a之間產(chǎn)生 與施加到試劑18的生物樣本中存在的分析物的量成比例的電流。來自 工作電極814a的電流通過工作電極跡線814c傳輸?shù)焦ぷ麟姌O接觸墊 814b并且提供給電流-電壓放大器310。電流-電壓放大器310的輸出施 加到當(dāng)開關(guān)1004處于閉合位置時(shí)構(gòu)造為具有單位增益的緩沖器的測量 放大器1002的輸入。通過A/D312將放大器1002的模擬輸出電壓轉(zhuǎn)換 為數(shù)字信號。微處理器314隨后根據(jù)之前存儲的程序處理此數(shù)字信號， 以便確定施加到檢驗(yàn)條800的生物樣本內(nèi)的分析物的濃度。依靠LCD 輸出裝置316為使用者顯示此濃度。
微處理器314還輸出指示施加到反電極接觸墊216b的電壓電位的 數(shù)字信號。通過D/A318將此數(shù)字信號轉(zhuǎn)換為模擬電壓信號。D/A318 的模擬輸出施加到運(yùn)算放大器320的輸入，當(dāng)開關(guān)1006處于示出的位 置時(shí)，運(yùn)算放大器320構(gòu)造為電壓跟隨器。運(yùn)算放大器320的輸出聯(lián) 結(jié)到反電極接觸墊216b，這將允許測量施加到試劑18的生物流體樣 本。此外，開關(guān)1006、 1008和1010如圖10所示定位，電路如圖9所 示構(gòu)造并且可以用于如上文中關(guān)于圖9描述地自動(dòng)地補(bǔ)償寄生和接觸 電阻。
為了測量反電極線216內(nèi)的寄生電阻的量，開關(guān)1008布置在圖10
所示的位置，開關(guān)1006布置在與圖10所示相反的位置，而開關(guān)1010 閉合。因此，運(yùn)算放大器320作用為具有單位增益的緩沖器并且將電 壓電位通過已知的電阻Rnom施加到反電極接觸墊216b。此電阻導(dǎo)致 電流在反電極線216和反感測線224內(nèi)流動(dòng)，其通過現(xiàn)在通過開關(guān)1010 聯(lián)結(jié)到電流感測線的電流-電壓放大器310感測。電流-電壓放大器310 的輸出通過A/D312提供給微處理器314。因?yàn)镽nom的值已知，微處 理器314能夠計(jì)算反感測線224和反電極線216內(nèi)的任何寄生電阻的 值。此寄生電阻值能夠與存儲在檢驗(yàn)儀表內(nèi)的預(yù)先確定的閾值比較， 以確定檢驗(yàn)條800是否發(fā)生物理損害或存在于接觸墊上的不傳導(dǎo)的累 積物是否已經(jīng)達(dá)到檢驗(yàn)條800不能可靠地用于執(zhí)行檢驗(yàn)的程度。在這 樣的情形中，檢驗(yàn)儀表可以編程序?yàn)楦嬷褂谜咴诶^續(xù)檢驗(yàn)之前應(yīng)該 將替代的檢驗(yàn)條插入檢驗(yàn)儀表。
為了測量工作電極線814內(nèi)的寄生電阻的量，開關(guān)1006和1008 布置在與圖10所示相反的位置，而開關(guān)1010打開。因此，運(yùn)算放大 器320作用為具有單位增益的緩沖器并且將電壓電位通過已知的電阻 Rnom施加到工作感測接觸墊826b。此電阻導(dǎo)致電流在工作感測線826 和工作電極線814內(nèi)流動(dòng)，其通過電流-電壓放大器310感測。電流-電壓放大器310的輸出通過A/D312提供給微處理器314。因?yàn)镽nom 的值已知，微處理器314能夠計(jì)算工作感測線826和工作電極線814 內(nèi)的任何寄生電阻的值。此寄生電阻值能夠與存儲在檢驗(yàn)儀表內(nèi)的預(yù) 先確定的閾值比較，以確定檢驗(yàn)條800是否發(fā)生物理損害或存在于接 觸墊上的不傳導(dǎo)的累積物是否已經(jīng)達(dá)到檢驗(yàn)條800不能可靠地用于執(zhí) 行檢驗(yàn)的程度。在這樣的情形中，檢驗(yàn)儀表可以編程序?yàn)楦嬷褂谜?在繼續(xù)檢驗(yàn)之前應(yīng)該將替代的檢驗(yàn)條插入檢驗(yàn)儀表。
圖ll示意性地示出了具有對圖8所示的工作電極和反電極二者全 部的I-R降補(bǔ)償?shù)母鶕?jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的檢驗(yàn)條。第三實(shí)施例的 檢驗(yàn)條1100包括在其頂部表面涂敷有50nm導(dǎo)電層(例如通過賊射或 氣相沉積，作為非限制性的示例)的底部基底12。因此，電極、連接 跡線和接觸墊隨后通過如上文中所述的激光燒蝕工藝在導(dǎo)電層內(nèi)形成 圖案。如本領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員容易明白的，圖ll所示的檢驗(yàn)條與 圖8所示的檢驗(yàn)條相似。與圖8所示的檢驗(yàn)條不同，反感測線224和 工作感測線826不延伸到反應(yīng)區(qū)20內(nèi)。另外，反電極216a包括多個(gè)指
狀物1104而不是僅一個(gè)。在其它實(shí)施例中，工作電極814a也能夠包 括多個(gè)指狀物1104。另外，毛細(xì)空間1102提供為用于將樣本抽到反應(yīng) 區(qū)20內(nèi)，使得樣本覆蓋電極216a和814a的部分。
圖11所示的設(shè)計(jì)固有地包括一些性能限制。線A-A、 B-B、 C-C 等等為不能被詢問以確定電極216a、814a或指狀物1104的結(jié)構(gòu)整體性 是否存在故障的區(qū)域。例如，這些區(qū)域內(nèi)的任何物理缺陷，諸如增加 跡線電阻或完全切斷跡線的劃痕，不能通過在上文中描述的質(zhì)量保證 檢查檢測到。這是由于感測線224c、 826c在檢驗(yàn)儀表和線A-A之間的 點(diǎn)結(jié)合分別的電極跡線216c、 814c的事實(shí)。因此，在線A-A和F-F之 間的對檢驗(yàn)條1100的任何損害在質(zhì)量保證檢驗(yàn)回路外部并且將不會影 響在上文中描述的I-R降補(bǔ)償或寄生電阻閾值檢驗(yàn)。因此，感測線826、 224的定位阻止在獲得并且分析流體樣本之前完全地檢驗(yàn)檢驗(yàn)條1100 的功能。因此，對流體樣本的希望的特性的最終測量結(jié)果可能是錯(cuò)誤 的。
圖12示出了更加穩(wěn)固的檢驗(yàn)條設(shè)計(jì)，以克服圖11所示的設(shè)計(jì)的 缺點(diǎn)。檢驗(yàn)條1200包括工作感測線826和反感測線224，其具有它們 與分別的電極814a、 216a相交的分別的點(diǎn)1206、 1208。工作感測線826 和反感測線224為形成在基底12上的導(dǎo)電跡線。點(diǎn)1206和用于檢驗(yàn)條 1200的檢驗(yàn)儀表內(nèi)的電源之間的距離(在與檢驗(yàn)條的縱軸線平行的平 面內(nèi)測量)大于或等于試劑18內(nèi)的工作電極814a的部分上的任何點(diǎn) 和電源之間的距離。相似地，點(diǎn)1208和用于檢驗(yàn)條1200的電源之間 的距離大于或等于試劑18內(nèi)的反電極216a的部分上的任何點(diǎn)和電源 之間的距離。使得工作感測線826和反感測線224在這些位置包括點(diǎn) 1206、 1208使得能夠詢問電源和測量電極指狀物之間的檢驗(yàn)條1200上 的每個(gè)點(diǎn)關(guān)于其結(jié)構(gòu)整體性和寄生電阻。如能夠結(jié)合圖3從圖12看出 的，電源經(jīng)由定位在接觸區(qū)(22)內(nèi)的接觸墊聯(lián)結(jié)到檢驗(yàn)條。因此， 相交的點(diǎn)(1206， 1208)和接觸區(qū)(22)之間的距離大于或等于電極 (814a， 216a)上的任何點(diǎn)和接觸區(qū)(22)之間的距離。
與圖11所示的設(shè)計(jì)不同，圖12所示的設(shè)計(jì)定位感測線224、 826 以使得能夠詢問電極216a、 814a和相關(guān)的指狀物的結(jié)構(gòu)缺陷。如果發(fā) 現(xiàn)缺陷，能夠補(bǔ)償或指示該缺陷并且能夠除掉檢驗(yàn)條1200并且使用新 的檢驗(yàn)條。這有助于消除對流體樣本的希望的特性的測量結(jié)果中的錯(cuò)
誤。
在這里引用的全部出版物、在先的申請、和其它文獻(xiàn)在這里全文 作為參考加入，如同每個(gè)已經(jīng)作為參考單獨(dú)地加入并且完全地陳述。
雖然在附圖中和前面的描述中已經(jīng)詳細(xì)地示出和描述了本發(fā)明， 這些描述應(yīng)該被認(rèn)為是說明性的并且在性質(zhì)上不是限制性的。僅示出 了認(rèn)為是有助于理解的某些實(shí)施例。希望保護(hù)在本發(fā)明的精神范圍內(nèi) 的全部改變和4務(wù)改。
權(quán)利要求
1.一種通過電源供電的電化學(xué)檢驗(yàn)條，其包括第一測量電極(814a)，和操作地聯(lián)結(jié)到第一測量電極的第一導(dǎo)電跡線(826)，其中，在第一導(dǎo)電跡線上的至少一個(gè)點(diǎn)和電源之間的距離大于或等于在所述第一測量電極上的任何點(diǎn)和電源之間的距離。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢驗(yàn)條，還包括 第二測量電極(216a)，和操作地聯(lián)結(jié)到第二測量電極的第二導(dǎo)電跡線(224)，其中，在第 二導(dǎo)電跡線上的至少一個(gè)點(diǎn)和電源之間的距離大于或等于在所述第二 測量電極上的任何點(diǎn)和電源之間的多巨離。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的檢驗(yàn)條，其中，所述第一測量電極包括 多個(gè)第一指狀物。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢驗(yàn)條，其中，所述第二測量電極包括 多個(gè)笫二指狀物。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢驗(yàn)條，還包括布置在所述第一指狀物 上并且操作以在流體樣本內(nèi)產(chǎn)生指示要通過檢驗(yàn)條測量的希望的流體 性質(zhì)的電位的試劑。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的檢驗(yàn)條，還包括布置在所述第二指狀物 上并且操作以在流體樣本內(nèi)產(chǎn)生指示要通過檢驗(yàn)條測量的希望的流體 性質(zhì)的電位的試劑。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢驗(yàn)條，其中，在第一導(dǎo)電跡線上的該 至少一個(gè)點(diǎn)為第一導(dǎo)電跡線與第一測量電極相交的點(diǎn)(1206)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢驗(yàn)條，其中，在第二導(dǎo)電跡線上的該 至少一個(gè)點(diǎn)為第二導(dǎo)電跡線與第二測量電極相交的點(diǎn)(1208)。
9. 一種通過電源供電的電化學(xué)檢驗(yàn)條，其包括 工作電極(814a);和操作地聯(lián)結(jié)到工作電極的工作感測線(826)，所述工作感測線在 點(diǎn)(1206)與工作電極相交，其中，所述點(diǎn)(1206)和在檢驗(yàn)條上的接觸區(qū)(22)之間的距離 大于或等于在工作電極的部分上的任何點(diǎn)和接觸區(qū)(22)之間的距離。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的檢驗(yàn)條，還包括 反電極(216a);和操作地聯(lián)結(jié)到反電極的反感測線(224); 所述反感測線在點(diǎn)(1208)與反電極相交，其中，所述點(diǎn)(1208)和在檢驗(yàn)條上的接觸區(qū)(22)之間的距離 大于或等于在反電極的部分上的任何點(diǎn)和接觸區(qū)之間的距離。
全文摘要
用于當(dāng)檢驗(yàn)條配合到適當(dāng)?shù)臋z驗(yàn)儀表時(shí)測量生物流體內(nèi)的感興趣的信號的檢驗(yàn)條，其中，檢驗(yàn)條和檢驗(yàn)儀表包括鑒定檢驗(yàn)條跡線的完整性、測量檢驗(yàn)條跡線的寄生電阻、和在施加到檢驗(yàn)條的電壓內(nèi)提供補(bǔ)償以解決檢驗(yàn)條跡線內(nèi)的寄生電阻損耗的結(jié)構(gòu)。另外，導(dǎo)電跡線定位為確保存在于檢驗(yàn)條上的全部電極和跡線的結(jié)構(gòu)詢問。
文檔編號G01N27/416GK101103271SQ200680002100
公開日2008年1月9日 申請日期2006年1月12日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月12日
發(fā)明者A·D·約瑟夫, R·K·里格勒斯, T·芬克 申請人:霍夫曼-拉羅奇有限公司