專利名稱：一種100%匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微陣列光柵的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種微陣列光柵，特別涉及一種能夠100%匹配圓形、環(huán)形、甚至是任意形狀光束孔徑，而形成的光斑陣列呈方形規(guī)整排布的微陣列光糖。
背景技術(shù)：
哈特曼波前傳感器已廣泛應(yīng)用于自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)之中，它可以事先用一 束高質(zhì)量的參考光標(biāo)定，而在現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量時(shí)無需參考光，所以對(duì)環(huán)境的要求不 像干涉儀那樣敏感，因此它可以應(yīng)用于光學(xué)元件質(zhì)量控制、光束質(zhì)量測(cè)量、 人眼像差、角膜面形測(cè)量等方面?，F(xiàn)有的哈特曼波前傳感器，通常采用微透鏡陣列分割光束孔徑，并將入射光聚焦到光電探測(cè)器(通常為CCD)的光 敏耙面，或者通過一轉(zhuǎn)像系統(tǒng)將微透鏡的焦面光斑圖象成像于光電探測(cè)器光 敏耙面。上述哈特曼傳感器可以參見"Adaptive Optics for Astronomy" D.M.AIIoin and丄M.Mariotti.Kluwer Academic Publishers, 1994. "Hartmann Sensers for Optical Testing" Robert丄Zielinski, B,Martin Levine， Brain MoNeil. SPIEVol.314, P398, 1997。
這類哈特曼傳感器的不足在于微透鏡陣列的微透鏡單元的焦距誤差不 一致導(dǎo)致影響傳感器精度，對(duì)微透鏡陣列制作技術(shù)的要求很高。為此，王海 英、張雨?yáng)|等曾提出過一種基于微棱鏡陣列的哈特曼波前傳感器，見中國(guó)專 利申請(qǐng)?zhí)?3126430.1、 200310100168.1、 03126431.X。所述的基于微棱 鏡陣列的哈特曼波前傳感器主要由鋸齒形相位光柵結(jié)構(gòu)的微棱鏡陣列、透鏡 或透鏡組和光電耦合器件(如CCD探測(cè)器)組成，其中透鏡或透鏡組緊靠
微棱鏡陣列，光電耦合器件位于透鏡或透鏡組焦面上。其優(yōu)點(diǎn)在于提出了一 種鋸齒形相位光柵陣列結(jié)構(gòu)，和一個(gè)透鏡或透鏡組組合實(shí)現(xiàn)光束孔徑的均勻 分割，避免了微透鏡陣列技術(shù)中微透鏡單元焦距不 一致所帶來的誤差。但是，在上述三個(gè)專利(中國(guó)專利申請(qǐng)?zhí)?3126430.1 、 200310100168.1、 03126431.X)中所提出的微棱鏡哈特曼波前傳感器，其 子孔徑形狀和所能匹配的光束口徑均為方形。這樣，在光束孔徑為圓形或環(huán) 形的情況下(事實(shí)上，絕大多數(shù)光束孔徑皆為圓形或環(huán)形)，導(dǎo)致與光束孔 徑不能做到完全匹配，損失有效的光束信息，并且，這種不匹配所帶來的邊 緣衍射效應(yīng)還會(huì)導(dǎo)致邊界子孔徑光斑質(zhì)量惡化，影響其實(shí)際應(yīng)用。同時(shí)，現(xiàn) 有的光電探測(cè)器其光敏靶面、像素等均為矩形，又要求光斑陣列仍呈方形規(guī) 整排布，以便于數(shù)據(jù)的讀出與處理。這些問題將會(huì)直接影響該技術(shù)在工程實(shí) 際應(yīng)用方面的發(fā)展。
本發(fā)明正是在上述背景下產(chǎn)生，發(fā)明了一種能夠100%匹配圓形、環(huán)形 等光束孔徑，同時(shí)光斑陣列可以成方形規(guī)整排布的微陣列光柵結(jié)構(gòu)；并且， 進(jìn)一步提出了微陣列光柵的幾種實(shí)現(xiàn)方案，尤其是其中的由同樣兩個(gè)一維鋸 齒形相位光柵陣列組合實(shí)現(xiàn)的方案。本發(fā)明有效地解決了上述三個(gè)專利(中 國(guó)專利申請(qǐng)?zhí)?3126430.1、 200310100168,1、 03126431.X)中發(fā)明的鋸 齒形相位光柵陣列結(jié)構(gòu)與圓形光束孔徑和方形光電探測(cè)器同時(shí)匹配的問題， 并針對(duì)實(shí)際制作問題，提出了簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)、提高制作效率的實(shí)施方案，彌補(bǔ)了 上述專利中發(fā)明技術(shù)所存在的不足。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的扶術(shù)解決問題之一克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種100%匹 配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微陣列光柵制作方法，該方法能夠100%匹配圓 形、環(huán)形孔徑，理論上甚至是任意形狀光束孔徑，而光斑陣列仍呈方形規(guī)整 排布，解決了這種鋸齒形相位光柵陣列技術(shù)無法實(shí)際應(yīng)用的問題。
本發(fā)明的另一技術(shù)解決問題是提供了能夠有效降低微陣列片子設(shè)計(jì)和 工藝制作復(fù)雜性的幾種實(shí)際設(shè)計(jì)、制作方案，尤其是其中的由同樣兩個(gè)一維 鋸齒形相位光柵陣列組合實(shí)現(xiàn)的方案，解決了如何提高鋸齒形相位光柵制作 效率、批量制作實(shí)現(xiàn)的問題。本發(fā)明的技術(shù)解決方案 一種100%匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微陣 列光柵制作方法，其特征在于(1)首先進(jìn)行孔徑分割，即確定在整個(gè)光束孔徑上要分出的子孔徑數(shù)目N;(2 )確定子孔徑數(shù)N之后，按照各個(gè)子孔徑面積相等的原則進(jìn)行劃分；(3) 劃分完子孔徑后，預(yù)先設(shè)定預(yù)期要形成的光斑陣列分布，光斑陣 列中共有N個(gè)光斑，這些預(yù)期形成的N個(gè)光斑陣列將與N個(gè)子孔徑對(duì)應(yīng)；(4) 最后根據(jù)對(duì)應(yīng)關(guān)系設(shè)計(jì)每個(gè)子孔徑內(nèi)二維微陣列光柵的兩個(gè)方向 的空間周期或鋸齒深度，其中子孔徑內(nèi)鋸齒形相位光柵的周期Tx、 Ty分別 為了,丄 了,丄 X 乂Xi, yi分別為光斑所在的位置，鋸齒深度d為其中義為所用的光源波長(zhǎng)，n為光學(xué)材料的折射率； (5)在每個(gè)子孔徑內(nèi)制作具有設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)的鋸齒形相位微陣列光柵，將 整個(gè)圓形或環(huán)形等光束孔徑均勻分割，經(jīng)過與其組合的透鏡或透鏡組會(huì)聚， 形成方形規(guī)整排布的光斑陣列。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)點(diǎn)在于 (1)本發(fā)明能夠100%匹配圓形、環(huán)形孔徑，理論上甚至是任意形狀 光束孔徑，而光斑陣列仍呈方形規(guī)整排布，解決了這種鋸齒形相位光柵陣列 技術(shù)無法實(shí)際應(yīng)用的問題，實(shí)現(xiàn)100%占空比，同時(shí)還能保證形成的光斑陣 列仍呈方形規(guī)整排布，便于光電探測(cè)器數(shù)據(jù)的讀出與處理。(2)本發(fā)明設(shè)計(jì)原理簡(jiǎn)單，并提供了能夠有效降低設(shè)計(jì)和工藝制作復(fù) 雜性的實(shí)際設(shè)計(jì)、制作方案，加工工藝易實(shí)現(xiàn)，既可采用微光學(xué)技術(shù)、也可 以采用模壓技術(shù)加工，克服了現(xiàn)有基于微棱鏡陣列的哈特曼波前傳感器技術(shù) 發(fā)明中微棱鏡陣列只能方形制作，無法滿足圓形、環(huán)形等光束孔徑要求這一 不足，提供了一種能100%匹配圓形、環(huán)形孔徑，理論上甚至是任意形狀孔 徑，而光斑陣列仍呈方形規(guī)整排布的微陣列光柵結(jié)構(gòu)，解決了微陣列光柵技 術(shù)在工程應(yīng)用以及批量化制作方面的問題。


圖1為本發(fā)明中100%匹配圓形光束孔徑、同時(shí)光斑陣列形成方形規(guī)整 排布的陣列光柵形成過程示意圖。其中11為經(jīng)過設(shè)計(jì)的微陣列光柵，12 為透鏡或透鏡組，14為光電探測(cè)器，13即為形成的方形規(guī)整排布的光斑陣 列；圖2為以本發(fā)明中的方法實(shí)際制作實(shí)現(xiàn)的100%匹配圓形光束孔徑的二 維鋸齒形相位光柵陣列片子實(shí)物照片和所形成的光斑陣列；圖3為本發(fā)明實(shí)施例1—僅需單面制作的微陣列光^^陣列及某一個(gè)子孔 徑設(shè)計(jì)示意圖；圖4為本發(fā)明的實(shí)施例2—在同一塊基片或同一個(gè)光學(xué)件的兩個(gè)面上， 分別只制作X方向的一維陣列光柵和Y方向的一維陣列光柵，兩面組合實(shí) 現(xiàn)一個(gè)二維相位光柵陣列的功能；圖5為本發(fā)明的實(shí)施例3—在一塊基片或光學(xué)件的一個(gè)面上只制作X方 向的一維陣列光柵，在另一塊基片或光學(xué)件的一個(gè)面上只制作Y方向的一維 陣列光柵，這兩塊基片或光學(xué)件組合實(shí)現(xiàn)二維相位光柵陣列的功能；圖6為本發(fā)明的實(shí)施例4一為兩個(gè)一維鋸齒形相位光柵陣列光柵組合成 一個(gè)二維鋸齒形相位光柵示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本發(fā)明的主要的特征在于其孔徑分割元件為微鋸齒形相位光柵陣列11。本發(fā)明中的微鋸齒形相位光柵陣列11為新型布局，能夠100%匹配圓形、環(huán)形等最常用的光束孔徑。下面根據(jù)圖3,以圓形或環(huán)形光束孔徑為例，來說明本發(fā)明提出的100% 匹配圓形光束孔徑、同時(shí)光斑陣列形成方形規(guī)整排布的陣列光柵設(shè)計(jì)過程 根據(jù)前述的子孔徑劃分原則(各子孔徑面積相等，以保證相同的光通量)， 所劃分的N個(gè)子孔徑為等面積扇形，以圖中放大處理的子孔徑為例，由設(shè) 計(jì)光斑所在的位置(Xj, yj)來確定該子孔徑內(nèi)鋸齒形相位光柵的周期Tx、 Ty:<formula>formula see original document page 8</formula>鋸齒深度d為其中義為所用的光源波長(zhǎng)，n為光學(xué)材料的折射率，如石英，n=1.45。 K可取任意正整數(shù)，如1、 2或3等。同時(shí)，可以設(shè)計(jì)每個(gè)鋸齒形相位 光柵的X、 Y方向空間周期，它們分別反比于其設(shè)計(jì)光斑的預(yù)期坐標(biāo)Xi和yh 反比系數(shù)可以根據(jù)系統(tǒng)實(shí)際需要設(shè)定。陣列中每個(gè)子孔徑均以這一 方法設(shè)計(jì) 其鋸齒形相位光柵結(jié)構(gòu)。設(shè)計(jì)完成后，在每個(gè)扇形子孔徑內(nèi)刻蝕或模壓形成 具有設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)的鋸齒形相位光柵，刻蝕或模壓邊界以扇形邊界為準(zhǔn)。各個(gè)扇 形子孔徑因?yàn)槠滗忼X形相位光柵結(jié)構(gòu)均經(jīng)過設(shè)計(jì)，空間周期各不相同的鋸齒 形相位光柵將產(chǎn)生各自的相位變化，將整個(gè)圓形光束均勻分割，經(jīng)過與其組 合的透鏡或透鏡組會(huì)聚，便會(huì)形成方形規(guī)整排布的光斑陣列，這一設(shè)計(jì)解決 了與圓形、環(huán)形光束孔徑和矩形光電探測(cè)器同時(shí)匹配的問題。上述除了每個(gè)子孔徑形狀為等面積扇形外，可以使子孔徑面積均勻一致 的任意形狀均可以。 利用微光學(xué)刻蝕、金剛石車削或模壓技術(shù)在基片或光學(xué)件的某個(gè)面上形 成空間周期各不相同的整個(gè)陣列。上述的二維微陣列光柵是變周期二維鋸齒形相位光柵陣列結(jié)構(gòu)，或變鋸 齒深度的二維鋸齒形相位光柵陣列結(jié)構(gòu)，或既變周期又變鋸齒深度的二維鋸 齒形相位光柵陣列結(jié)構(gòu)。在具體進(jìn)行陣列設(shè)計(jì)時(shí)，所有子孔徑可以保持相同的鋸齒深度，對(duì)每個(gè)子孔徑僅控制鋸齒的周期這一參數(shù)；或者可以對(duì)所有子 孔徑保持相同的鋸齒周期，僅改變各個(gè)子孔徑的鋸齒深度參數(shù)；還可以對(duì)鋸 齒深度和鋸齒周期兩個(gè)參數(shù)同時(shí)進(jìn)行控制，使設(shè)計(jì)的各個(gè)子孔徑鋸齒深度和 鋸齒周期參數(shù)各不相同。如圖2所示，為實(shí)際制作實(shí)現(xiàn)的100%匹配圓形光束孔徑的二維鋸齒形 相位光柵陣列片子和所形成的光斑陣列。本發(fā)明針對(duì)上述的第二個(gè)技術(shù)問題即如何有效降低微陣列光柵片子設(shè) 計(jì)和工藝制作復(fù)雜性問題，提出以下三種具體的技術(shù)實(shí)施方案A、 在同一個(gè)基片或光學(xué)件的某一個(gè)面上，制作各個(gè)經(jīng)過設(shè)計(jì)的二維鋸 齒形相位光柵形成陣列，如對(duì)圓形光束孔徑，每一個(gè)扇形子孔徑內(nèi)均是一個(gè) 獨(dú)立的二維鋸齒形相位光柵，各個(gè)扇形子孔徑內(nèi)的二維鋸齒形陣列光柵各不 相同，形成一種中心對(duì)稱的圓形布局，見附圖3所示；B、 可以在同一塊基片或同一個(gè)光學(xué)件的一個(gè)面上只制作X方向的一維 陣列光柵，另一個(gè)面上只制作Y方向的一維陣列光柵，兩面共同實(shí)現(xiàn)一個(gè)二 維相位光柵陣列的功能，見附圖4所示；C、 在一塊基片或光學(xué)件的一個(gè)面上只制作X方向的一維陣列光柵，在 另一塊基片或光學(xué)件的一個(gè)面上只制作丫方向的一維陣列光柵，這兩塊基片 或光學(xué)件組合，也可以實(shí)現(xiàn)二維相位光柵陣列的功能，見圖5所示。這一技 術(shù)方案進(jìn)一步將方案一中的各個(gè)二維相位光柵分解為兩個(gè)一維陣列光柵，由 簡(jiǎn)單的兩個(gè)一維陣列光柵來組合實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的二維相位光柵的功能，大大簡(jiǎn)化 了結(jié)構(gòu)，提出了兩種有助于提高制作效率的實(shí)現(xiàn)方案，尤其是實(shí)現(xiàn)方案已， 提出通過將簡(jiǎn)單的一維陣列光柵制作于不同基片或光學(xué)件表面上，再對(duì)兩塊 基片或光學(xué)件組合使用的這一新穎設(shè)計(jì)，在實(shí)際制作時(shí)(如采用微光學(xué)刻蝕 技術(shù)、金剛石車削技術(shù)、模壓技術(shù)等)，只需設(shè)計(jì)、制作一塊模板，然后制作出同樣的兩塊，互旋一定角度(如90° )進(jìn)行組合，即可實(shí)現(xiàn)所需功能， 大大簡(jiǎn)化了陣列片子設(shè)計(jì)和工藝制作的復(fù)雜性，提高了其制作效率。本發(fā)明的具體實(shí)施方案A比較直觀，易于理解。下面根據(jù)附圖進(jìn)一步說 明本發(fā)明的具體實(shí)施方案B和具體實(shí)施方案C:經(jīng)過與具體實(shí)施方案A相 同的子孔徑劃分與設(shè)計(jì)后，將每個(gè)子孔徑中的二維鋸齒形相位光柵按照X 和Y兩個(gè)方向分解為兩個(gè)一維陣列光柵，即，每一個(gè)子孔徑均是由兩個(gè)方向 的一維陣列光柵組合而成，見圖6所示。仍以圓形或環(huán)形光束孔徑為例，在 對(duì)整個(gè)光束孔徑劃分為等面積扇形，并對(duì)每個(gè)扇形子孔徑分別設(shè)計(jì)其X方向 和Y方向的空間周期之后，進(jìn)行如下工作先分別提取各個(gè)扇形子孔徑X 方向的空間周期，作為X方向一維陣列光柵的周期，然后，分別提取各個(gè)扇 形子孔徑Y(jié)方向的空間周期，作為Y方向一維陣列光柵的周期。按照?qǐng)D4所示，在同一基片或光學(xué)件的光學(xué)面上雙面刻蝕或模壓，分別 形成x方向和y方向的一維鋸齒形相位光柵陣列，兩個(gè)方向的光柵陣列共同 作用實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)功能。按照?qǐng)D5所示，在片子上某一面上制作一維鋸齒形相位光柵陣列，同樣 片子制作兩塊，再將兩個(gè)片子互旋一定角度(如對(duì)于圓形光束孔徑，旋轉(zhuǎn) 90°)組合而成，由兩塊片子上的一維光柵陣列共同作用形成整齊排布的光 斑陣列。該實(shí)施方案相比圖4所示方案制作實(shí)現(xiàn)更加容易，無需兩面制作所 需的對(duì)準(zhǔn)步驟，只需通過事后的機(jī)械工裝來保證兩塊片子的對(duì)準(zhǔn)；并且是只 需制作相同的片子，片子的設(shè)計(jì)、制作工藝大大簡(jiǎn)化，能有效地縮短設(shè)計(jì)、 制作時(shí)間，形成批量化，從而提高生產(chǎn)效率，進(jìn)一步控制成本。
權(quán)利要求
1、一種100％匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微陣列光柵制作方法，其特征在于(1)首先進(jìn)行孔徑分割，即確定在整個(gè)光束孔徑上要分出的子孔徑數(shù)目N；(2)確定子孔徑數(shù)N之后，按照各個(gè)子孔徑面積相等的原則進(jìn)行劃分；(3)劃分完子孔徑后，預(yù)先設(shè)定預(yù)期要形成的光斑陣列分布，光斑陣列中共有N個(gè)光斑，這些預(yù)期形成的N個(gè)光斑陣列將與N個(gè)子孔徑對(duì)應(yīng)；(4)最后根據(jù)對(duì)應(yīng)關(guān)系設(shè)計(jì)每個(gè)子孔徑內(nèi)二維微陣列光柵的兩個(gè)方向的空間周期或鋸齒深度，其中子孔徑內(nèi)鋸齒形相位光柵的周期Tx、Ty分別為<math-cwu><![CDATA[<math> <mrow><msub> <mi>T</mi> <mi>x</mi></msub><mo>&Proportional;</mo><mfrac> <mn>1</mn> <msub><mi>x</mi><mi>i</mi> </msub></mfrac> </mrow></math>]]></math-cwu><!--img id="icf0001" file="A2007101204800002C1.gif" wi="61" he="43" img-content="drawing" img-format="tif"/--><math-cwu><![CDATA[<math> <mrow><msub> <mi>T</mi> <mi>y</mi></msub><mo>&Proportional;</mo><mfrac> <mn>1</mn> <msub><mi>y</mi><mi>i</mi> </msub></mfrac> </mrow></math>]]></math-cwu><!--img id="icf0002" file="A2007101204800002C2.gif" wi="59" he="45" img-content="drawing" img-format="tif"/-->xi，yi分別為光斑所在的位置，鋸齒深度d為d＝K·λ/(n-1) K＝1，2，3......，其中λ為所用的光源波長(zhǎng)，n為光學(xué)材料的折射率；(5)在每個(gè)子孔徑內(nèi)制作具有設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)的鋸齒形相位微陣列光柵，將整個(gè)圓形或環(huán)形等光束孔徑均勻分割，經(jīng)過與其組合的透鏡或透鏡組會(huì)聚，形成方形規(guī)整排布的光斑陣列。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的100%匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微陣列 光柵制作方法，其特征在于所述步驟(4)中的二維微陣列光柵是變周期 二維鋸齒形相位光柵陣列結(jié)構(gòu)，或變鋸齒深度的二維鋸齒形相位光柵陣列結(jié) 構(gòu)，或既變周期又變鋸齒深度的二維鋸齒形相位光柵陣列結(jié)構(gòu)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的100%匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微陣列 光柵制作方法，其特征在于所述步驟(2)中的每個(gè)子孔徑形狀為等面積扇形，或《吏子孔徑面積均勻 一致的4壬意形狀。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的100%匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微陣列 光柵制作方法，其特征在于所述步驟(5)中利用微光學(xué)刻蝕、或金剛石 車削或模壓方法在基片或光學(xué)件的某個(gè)面上形成空間周期各不相同的整個(gè) 微陣列。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的100%匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微陣列 光柵制作方法，其特征在于所述步驟(5)中的微陣列光柵以中心對(duì)稱布 局刻蝕形成在基片或光學(xué)件的某一個(gè)單面上。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的100%匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微 陣列光柵制作方法，其特征在于所述的步驟(5)中微陣列光柵獨(dú)立制作 在基片或光學(xué)件的某一個(gè)面上。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的100%匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的凝:陣列光柵制作方法，其特征在于所述步驟(5)中的微陣列光柵，在同一塊基片或同一個(gè)光學(xué)件的一個(gè)面上只制作X方向的一維陣列光柵，另一個(gè)面上只制作Y方向的一維陣列光柵，兩面共同實(shí)現(xiàn)一個(gè)二維相位光柵陣列的功 6匕
8、 根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的100%匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微 陣列光柵制作方法，其特征在于所述步驟(5)中的微陣列光柵，在一塊 基片或光學(xué)件的一個(gè)面上只制作X方向的一維陣列光柵，在另一塊基片或光 學(xué)件的一個(gè)面上只制作Y方向的一維陣列光柵，這兩塊基片或光學(xué)件組合， 實(shí)現(xiàn)二維相位光柵陣列的功能。
全文摘要
一種100％匹配圓形、環(huán)形等光束孔徑的微陣列光柵制作方法，確定在整個(gè)光束孔徑上要分出的子孔徑數(shù)目N；按照各個(gè)子孔徑面積相等的原則進(jìn)行劃分；設(shè)定預(yù)期要形成的光斑陣列分布，光斑陣列中共有N個(gè)光斑，這些預(yù)期形成的N個(gè)光斑陣列將與N個(gè)子孔徑對(duì)應(yīng)；根據(jù)對(duì)應(yīng)關(guān)系來設(shè)計(jì)每個(gè)子孔徑內(nèi)二維陣列光柵的兩個(gè)方向的空間周期或鋸齒深度，在每個(gè)子孔徑內(nèi)制作具有設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)的鋸齒形相位光柵，經(jīng)過與其組合的透鏡或透鏡組會(huì)聚，便會(huì)形成方形規(guī)整排布的光斑陣列。本發(fā)明能夠100％匹配圓形、環(huán)形孔徑，理論上甚至是任意形狀光束孔徑，而光斑陣列仍呈方形規(guī)整排布，解決了這種鋸齒形相位光柵陣列技術(shù)無法實(shí)際應(yīng)用的問題，同時(shí)提高鋸齒形相位光柵制作效率、便于實(shí)現(xiàn)批量制作。
文檔編號(hào)G01J9/00GK101126836SQ200710120480
公開日2008年2月20日 申請(qǐng)日期2007年8月20日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月20日
發(fā)明者張雨?yáng)|, 王海英 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所