專利名稱：外觀檢查裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及檢查晶片等基板的周緣部的外觀的裝置。本申請(qǐng)要求2006年9月29日提交的在先日本專利申請(qǐng)第2006 — 268479號(hào)的優(yōu)先權(quán)，并在此援引其內(nèi)容。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體的制造工廠等中，在半導(dǎo)體晶片的周緣部有時(shí)產(chǎn)生作為缺 陷的傷痕和裂紋。如果對(duì)這種缺陷放置不管，則將成為在制造工序的中 途導(dǎo)致晶片破損的原因。并且，如果晶片開(kāi)裂，則產(chǎn)生制造裝置必須長(zhǎng) 時(shí)間停止等損失。因此，近年來(lái)在制造工廠中正在采取檢查晶片的周緣 部、査看在工藝中途產(chǎn)生的傷痕等缺陷，并根據(jù)需要回收晶片等對(duì)策。例如，關(guān)于自動(dòng)檢査晶片的周緣部的裝置，有在日本特開(kāi)2003 — 243465號(hào)公報(bào)中公開(kāi)的裝置。該檢查裝置在旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)上放置晶片，在 使彈性體抵接晶片的圓周端面而限制晶片位置的狀態(tài)下，取得周緣部的 全周圖像并實(shí)施檢查。在晶片的周緣部附近，在同一平面上配置有拍攝 晶片周緣部的上表面的攝像機(jī)、拍攝側(cè)面的攝像機(jī)、和拍攝下表面的攝 像機(jī)。在拍攝周緣部時(shí)，在確定晶片的凹口位置后使晶片旋轉(zhuǎn)，從各個(gè) 攝像機(jī)取得一圈的周緣部的圖像。各個(gè)攝像機(jī)的圖像通過(guò)攝像數(shù)據(jù)處理 部進(jìn)行處理，去除凹口部分，自動(dòng)進(jìn)行缺陷提取處理。并且，在日本特表2004—518293號(hào)公報(bào)中公開(kāi)了以下技術(shù)，以確認(rèn) 周緣部的抗蝕劑去除為目的，不連續(xù)拍攝晶片的周緣部，而在對(duì)圓周方 向進(jìn)行了等分的多個(gè)部位進(jìn)行拍攝。例如，在圓周方向以60。間隔進(jìn)行6 次拍攝，對(duì)各個(gè)圖像進(jìn)行分析。如果任一個(gè)圖像的測(cè)定值偏離閾值，則 視為產(chǎn)生了抗蝕劑的去除不良。但是，如日本特開(kāi)2003—243465號(hào)公報(bào)中所公開(kāi)的那樣，如果測(cè)試晶片的周緣部全周，則存在檢查花費(fèi)時(shí)間的問(wèn)題。此外，在日本特表2004 一518293號(hào)公報(bào)中公開(kāi)的技術(shù)中，以去除晶片周緣部的抗蝕劑時(shí)確認(rèn)殘 留抗蝕劑是否偏離晶片中心為目的，所以只確認(rèn)沿圓周方向等分的檢査 點(diǎn)即足以，但晶片的缺陷并不限于出現(xiàn)在圓周方向的等分處的位置。因 此，使用日本特表2004 — 518293號(hào)公報(bào)中公開(kāi)的技術(shù)不能有效檢查晶片 的周緣部傷痕。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明就是鑒于上述情況而提出的，其主要目的在于，能夠有效檢 查晶片的周緣部。本發(fā)明提供一種按照預(yù)先設(shè)定的處方(recipe)進(jìn)行晶片周緣部的外 觀檢查的外觀檢查裝置，其特征在于，該外觀檢查裝置具有將所述晶 片可自由旋轉(zhuǎn)地進(jìn)行保持的晶片保持部；取得所述晶片周緣部的放大像 的周緣攝像部；檢查區(qū)域指定單元，其可以在設(shè)定處方時(shí)設(shè)定所述晶片 周緣部的檢查位置的信息；以及控制部，其生成并登記用于檢查通過(guò)所 述檢查區(qū)域指定單元而設(shè)定的檢查位置的處方，按照所登記的處方控制 所述晶片保持部和所述周緣攝像部，來(lái)進(jìn)行檢査。該外觀檢查裝置可以僅對(duì)晶片周緣部的一部分進(jìn)行檢査。例如，在 晶片的直徑約為30cm時(shí)，周緣部的周長(zhǎng)約為lm。在以往的裝置中經(jīng)常 進(jìn)行這樣長(zhǎng)區(qū)域的檢查，而在本外觀檢查裝置中可以只檢査必要部分。 根據(jù)本發(fā)明，可以對(duì)晶片周緣部只檢查必要部分，所以能夠縮短檢查時(shí) 間。在一定程度上根據(jù)經(jīng)驗(yàn)等可知容易產(chǎn)生傷痕等的位置的情況下，如 果將這種部位指定為檢查區(qū)域，則可以既縮短檢查時(shí)間又能夠可靠地發(fā) 現(xiàn)傷痕。


圖1是表示本實(shí)施方式的外觀檢查裝置的概要結(jié)構(gòu)的圖。圖2是表示周緣攝像部的攝像機(jī)的配置示例的圖。圖3是表示設(shè)定檢查條件的畫(huà)面顯示的一個(gè)例子的圖。 圖4是表示指定檢查區(qū)域的畫(huà)面顯示的一個(gè)例子的圖。 圖5是說(shuō)明在握持晶片時(shí)使用被握持部分的信息自動(dòng)生成處方的情 況下，機(jī)械臂和外觀檢查裝置以及晶片的配置的圖。
具體實(shí)施方式
(第1實(shí)施方式)如圖1所示，外觀檢查裝置1具有被固定在未圖示的框架等上的基座部2，在基座部2上安裝有檢查部3。檢查部3具有用于放置作為檢 査對(duì)象的晶片W的晶片保持部4;和接近晶片保持部4配置并取得晶片 W的周緣部圖像的周緣攝像部5。晶片保持部4和周緣攝像部5由裝置 控制部6控制。另外，除周緣攝像部5夕卜，還可以設(shè)置能夠全面觀察晶 片W的顯微鏡等表面檢查部。晶片保持部4被固定在基座部2上，具有可以沿圖1中X所示的水 平方向移動(dòng)的X載物臺(tái)11，在X載物臺(tái)11上安裝有可以沿與X軸垂直 的水平方向即Y軸移動(dòng)的Y載物臺(tái)12。另外，在Y載物臺(tái)12上安裝有 能夠在與XY方向正交的高度方向沿Z方向移動(dòng)的Z載物臺(tái)13。由此， 晶片保持部4可以使晶片W相對(duì)于周緣攝像部5進(jìn)行三維相對(duì)移動(dòng)。另 外，在Z載物臺(tái)13上設(shè)有旋轉(zhuǎn)部14。旋轉(zhuǎn)部14具有可以繞Z軸旋轉(zhuǎn)的 旋轉(zhuǎn)軸15。各個(gè)載物臺(tái)11 13和旋轉(zhuǎn)軸15的驅(qū)動(dòng)使用伺服電機(jī)、滾珠 絲杠、減速機(jī)構(gòu)進(jìn)行。驅(qū)動(dòng)源可以使用步進(jìn)電機(jī)、線性電機(jī)。在旋轉(zhuǎn)軸 15的上端設(shè)有旋轉(zhuǎn)板16。在旋轉(zhuǎn)板16的上表面設(shè)有通過(guò)真空吸附來(lái)保 持晶片W的未圖示的吸附部。周緣攝像部5由固定在基座部2上的臂部21支撐著。周緣攝像部5 在側(cè)視時(shí)大致呈C字形狀，具有可以收容晶片W的周緣部的凹部22,并 設(shè)有可以拍攝晶片W的周緣部的攝像機(jī)。圖2表示采用三個(gè)攝像機(jī)方式 的周緣攝像部的一個(gè)例子。攝像機(jī)包括可以拍攝晶片W的周緣部上表面 的第一攝像機(jī)25、可以拍攝晶片W的周緣部側(cè)面的第二攝像機(jī)26、和 可以拍攝晶片W的周緣部下表面的第三攝像機(jī)27。各個(gè)攝像機(jī)25 27 具有CCD (Charge Coupled Device,電荷耦合元件)等攝像元件28和帶
聚焦功能的變焦透鏡29，通過(guò)在光軸上設(shè)置半透半反鏡30，構(gòu)成為可以 使用照明裝置31進(jìn)行同軸照明。另外，攝像機(jī)的數(shù)量可以任意變更為1 個(gè)或5個(gè)等。在只使用1個(gè)攝像機(jī)時(shí)，通過(guò)可自由移動(dòng)地支撐攝像機(jī)從 而可以變更攝像位置，或者一直使從攝像機(jī)到晶片端面的觀察位置之間 的距離固定，而借助可動(dòng)式反射鏡可以變更攝像位置。照明裝置31不限 于同軸照明，也可以在離開(kāi)攝像機(jī)25 27的位置設(shè)置一個(gè)或多個(gè)。照明 裝置31優(yōu)選能夠以明視場(chǎng)觀察周緣部。圖1所示的裝置控制部6進(jìn)行晶片保持部4的各個(gè)載物臺(tái)11 13和 旋轉(zhuǎn)部14的驅(qū)動(dòng)控制、吸附用的抽真空控制、周緣攝像部5的各個(gè)攝像 機(jī)25 27的變焦調(diào)整、聚焦調(diào)整、照明裝置31的調(diào)光、各個(gè)攝像機(jī)25 27的圖像信號(hào)接收。例如，利用電機(jī)的驅(qū)動(dòng)電路和控制抽真空用的閥門 開(kāi)閉的驅(qū)動(dòng)電路等構(gòu)成。另外，裝置控制部6也與計(jì)算機(jī)41連接。計(jì)算機(jī)41 (控制裝置)是連接有鼠標(biāo)42和鍵盤43等輸入裝置、及 顯示各種設(shè)定和周緣部圖像的監(jiān)視器44的通用計(jì)算機(jī)。鼠標(biāo)42、鍵盤 43、監(jiān)視器44是檢査者可以操作的界面。計(jì)算機(jī)41具有連接裝置控制 部6和鼠標(biāo)42、鍵盤43、監(jiān)視器44的I/0 (Input/Output，輸入/輸出) 裝置45、控制部46、和存儲(chǔ)處方等的數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)裝置47?？刂撇?6由 CPU (中央運(yùn)算裝置)等構(gòu)成，根據(jù)功能可以劃分為按照處方實(shí)施檢查 的檢查控制部51、和進(jìn)行處方登記的處方登記部52。另外，計(jì)算機(jī)41 可以安裝在外觀檢查裝置1上，也可以與裝置分開(kāi)設(shè)置。還可以利用計(jì) 算機(jī)41和裝置控制部6形成一個(gè)控制裝置。在此，圖3表示監(jiān)視器44的畫(huà)面顯示的一例。該畫(huà)面成為設(shè)定檢查 條件用的檢查條件設(shè)定部。作為檢查條件設(shè)定部提供的檢查條件設(shè)定畫(huà) 面70具有表示觀察位置的觀察位置圖像71、可以按照每個(gè)項(xiàng)目輸入檢查 條件的設(shè)定部72。觀察位置圖像71在相當(dāng)于晶片W的圖像71A的周緣 部上利用箭頭表示攝像機(jī)25 27的觀察。箭頭顯示有5個(gè)，表示可以從 5個(gè)方向進(jìn)行觀察的情況，但在只可從3個(gè)方向觀察時(shí)，不顯示不能觀察 的方向的箭頭。并且，設(shè)有觀察角度的輸入部71B，在此輸入數(shù)值后， 即選擇該角度的攝像機(jī)25 27。
設(shè)定部72在畫(huà)面上從上到下排列顯示有攝像機(jī)25 27的倍率的輸 入部72A、焦點(diǎn)位置的輸入部72B、晶片W的旋轉(zhuǎn)速度的輸入部72C、 同軸照明的光量的輸入部72D、其他照明的光量的輸入部72E、 Z方向位 置的輸入部72F、以及攝像機(jī)25 27的快門速度的輸入部72G。這些輸 入部72A 72G可以從鍵盤43輸入數(shù)值。并且，圖4表示監(jiān)視器44的畫(huà)面顯示的另一示例。在本實(shí)施方式中， 該畫(huà)面和鼠標(biāo)42、鍵盤43等構(gòu)成設(shè)定圓周方向的觀察位置的檢查區(qū)域指 定單元。在監(jiān)視器44上所提供的檢査區(qū)域指定畫(huà)面80具有利用圖形表 示圓周方向的觀察區(qū)域的顯示部81、和設(shè)定觀察區(qū)域的輸入部82。顯示 部81顯示相當(dāng)于晶片W的圓板上的圖像81A，并設(shè)有與晶片W的凹口 對(duì)應(yīng)的缺口81B。另外，重疊顯示有由輸入部82設(shè)定的觀察區(qū)域。在圖 4中，如沿著外圓周的箭頭Al所示，從凹口起逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)90。的區(qū)域是 觀察區(qū)域。并且，如觀察區(qū)域中的外圓周上的點(diǎn)P所示，示出以15。的相 等間隔進(jìn)行6處攝像的情況。輸入部82具有從步進(jìn)、連續(xù)、指定位置三種攝像方式中選擇一種的 選擇部83。所說(shuō)"步進(jìn)"是指以晶片W的中心為基準(zhǔn)在圓周方向每隔預(yù) 定的步進(jìn)角進(jìn)行攝像的攝像方式。另外，角度設(shè)定以凹口的形成位置為 基準(zhǔn)，在顯示部81上逆時(shí)針地指定相對(duì)晶片中心的圓周方向的角度。在 晶片具有定位邊(orientation flat)時(shí)，相當(dāng)于定位邊的圖形顯示在顯示 部81上，以該位置為基準(zhǔn)指定角度。在利用選擇部83選擇了 "步進(jìn)" 時(shí)，利用步進(jìn)的條件輸入部84輸入觀察范圍84A和步進(jìn)角84B。例如， 在將觀察范圍設(shè)定為0 卯。、將步進(jìn)角設(shè)為15°時(shí)，生成在以凹口為基準(zhǔn) 的從起點(diǎn)0°到終點(diǎn)90。的范圍內(nèi)每隔15。進(jìn)行攝像的處方(recipe)。并且，在利用選擇部83選擇了 "連續(xù)"時(shí)，利用"連續(xù)"的條件輸 入部85輸入觀察范圍85A和旋轉(zhuǎn)速度85B。例如，在將觀察范圍設(shè)定為 0 90°、將旋轉(zhuǎn)速度設(shè)為預(yù)定值時(shí)，生成使得晶片W以設(shè)定的旋轉(zhuǎn)速度 旋轉(zhuǎn)，并在以凹口為起點(diǎn)的卯。范圍內(nèi)連續(xù)攝像的處方。在利用選擇部83選擇了 "指定位置"時(shí)，利用"指定位置"的條件 輸入部86輸入觀察位置86A和觀察范圍86B。例如，在將觀察位置設(shè)定 為120°、將觀察范圍設(shè)為5。時(shí)，設(shè)定攝像機(jī)25 27的倍率等，使得在相 對(duì)中心土5。的范圍內(nèi)拍攝一次，生成對(duì)以凹口為起點(diǎn)逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)了 120° 的位置拍攝一次的處方。另外，檢查位置即觀察范圍和點(diǎn)可以設(shè)定為多個(gè)。例如，在設(shè)定0 90。的觀察范圍后，再設(shè)定180 270°時(shí)，可以對(duì)兩個(gè)區(qū)域依序進(jìn)行檢查。下面，說(shuō)明該實(shí)施方式的作用。首先設(shè)定處方。處方用于確定攝像機(jī)25 27的變焦、聚焦、照明、 晶片W的旋轉(zhuǎn)速度等各種條件，以便可以可靠地取得預(yù)定位置的周緣部 的圖像，裝置控制部6按照該處方向X載物臺(tái)11等輸出指令信號(hào)。在圖 3所示的檢査條件設(shè)定畫(huà)面70下設(shè)定攝像機(jī)25 27等的條件，另外在圖 4所示的檢査區(qū)域指定畫(huà)面下設(shè)定攝像方式和攝像位置。由此生成的處方 通過(guò)處方登記部52而存儲(chǔ)在存儲(chǔ)裝置47中。在進(jìn)行檢査時(shí)，晶片W利用機(jī)械臂等搬運(yùn)過(guò)來(lái)。晶片W利用未圖 示的校準(zhǔn)裝置校準(zhǔn)并檢測(cè)出凹口位置后，將晶片W的中心對(duì)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)板16 的旋轉(zhuǎn)中心，將凹口方向存儲(chǔ)為基準(zhǔn)方向進(jìn)行放置。通過(guò)裝置控制部6 使吸附部對(duì)晶片W的背面中心附近進(jìn)行真空吸附。另外，也可以將本發(fā)明的外觀檢查裝置兼用作校準(zhǔn)裝置。 一旦將晶 片放置在旋轉(zhuǎn)板16上后，使晶片旋轉(zhuǎn)，同時(shí)利用攝像機(jī)25進(jìn)行攝像， 檢測(cè)凹口位置和偏心量，再次利用機(jī)械臂重新進(jìn)行放置，以使旋轉(zhuǎn)板16 的中心與晶片W的中心一致，由此將不需要專用的校準(zhǔn)裝置。對(duì)定位放置在晶片保持部4上的晶片W，按照預(yù)先登記的處方進(jìn)行 周緣部的檢査。計(jì)算機(jī)41從存儲(chǔ)裝置47讀入由檢查者選擇的處方，使 檢查控制部51執(zhí)行。晶片W以規(guī)定速度旋轉(zhuǎn)，以在檢查區(qū)域指定畫(huà)面 80下設(shè)定的攝像方式和攝像位置下，攝像機(jī)25 27取得周緣部的圖像， 并顯示在監(jiān)視器44上。調(diào)整晶片保持部4的XYZ，以使周緣部的圖像顯 示在監(jiān)視器44的大致中央，所以檢査者能夠目視確認(rèn)監(jiān)視器44來(lái)檢查 有無(wú)傷痕等缺陷。例如，在利用檢査區(qū)域指定畫(huà)面80的選擇部83選擇了 "步進(jìn)"，并 登記了將觀察范圍設(shè)為0 90°、將步進(jìn)角設(shè)為15。的處方時(shí)，在使晶片W 從凹口位置旋轉(zhuǎn)15。后的位置進(jìn)行一次攝像，將其放大像顯示在監(jiān)視器44上。并且，在沿圓周方向旋轉(zhuǎn)15。后的位置再次進(jìn)行攝像，將其放大 像顯示在監(jiān)視器44上。以后，每當(dāng)旋轉(zhuǎn)15。時(shí)攝像一次，并在到達(dá)90° 的位置停止。并且，在利用檢査區(qū)域指定畫(huà)面80的選擇部83選擇了 "連續(xù)"，并 登記了將觀察范圍設(shè)為0 90。的處方時(shí)，在晶片W以所設(shè)定的旋轉(zhuǎn)速度 從凹口位置旋轉(zhuǎn)90。的期間內(nèi)，攝像機(jī)25 27連續(xù)進(jìn)行攝像，并顯示在 監(jiān)視器44上。并且在到達(dá)90。的位置停止。在利用檢查區(qū)域指定畫(huà)面80的選擇部83選擇"指定位置"，并登記 了將觀察位置設(shè)為60°、將觀察范圍設(shè)為±5°的處方時(shí)，在晶片W從凹口 位置旋轉(zhuǎn)60。后的位置處攝像一次，并顯示在監(jiān)視器44上。在顯示于監(jiān) 視器44的圖像上，包含以60。的位置為中心的相當(dāng)于圓周方向土5。的圖像。 在結(jié)束該攝像后停止。并且，在指定了兩個(gè)以上的檢查位置時(shí)，重復(fù)所述處理。根據(jù)所登 記的處方的內(nèi)容，有時(shí)會(huì)重復(fù)相同攝像方式，有時(shí)依次實(shí)施"步進(jìn)"和 "連續(xù)"。在指定"步進(jìn)"、"連續(xù)"、"指定位置"的其他組合并登記了處 方時(shí)，按照該處方中登記的攝像方式和順序進(jìn)行檢查。在能夠?qū)︻A(yù)定的檢查位置檢查有無(wú)缺陷時(shí)，使晶片W的旋轉(zhuǎn)停止， 在解除吸附后，利用機(jī)械臂搬出晶片W。在該實(shí)施方式中，可以將利用攝像機(jī)25 27攝像的位置指定為圓周 方向的任意范圍和點(diǎn)，所以不需要沿著整個(gè)圓周攝像。根據(jù)制造裝置和 工序、晶片的類型等，在根據(jù)過(guò)去的檢查結(jié)果統(tǒng)計(jì)等能夠憑借經(jīng)驗(yàn)確定 容易產(chǎn)生傷痕等缺陷部的位置時(shí)，將該位置預(yù)先存儲(chǔ)在存儲(chǔ)裝置47中， 在生成處方時(shí)適當(dāng)讀出并顯示在監(jiān)視器44的畫(huà)面上，以該顯示為參考指 定檢查區(qū)域，由此可以更高精度地檢查有無(wú)傷痕，所以能夠縮短檢查時(shí) 間。并且，與沿著全周取得圖像的情況相比，可以減少進(jìn)行圖像處理的 數(shù)據(jù)量，所以能夠減輕帶給計(jì)算機(jī)41的負(fù)擔(dān)。檢査者指定的觀察范圍和觀察位置示意地顯示在檢查區(qū)域指定畫(huà)面 80上，所以容易掌握效果，可以縮短設(shè)定所需時(shí)間。
(第2實(shí)施方式)該實(shí)施方式的主要特征在于，可以使用預(yù)先登記的數(shù)據(jù)自動(dòng)設(shè)定觀 察范圍和位置。另外，外觀檢查裝置的結(jié)構(gòu)與第l實(shí)施方式相同。作為預(yù)先登記的數(shù)據(jù)，可以列舉表示將晶片W搬運(yùn)到晶片保持部4 上的機(jī)械臂把持晶片W的部分的位置和范圍的數(shù)據(jù)。例如圖5所示，將 晶片W從晶片盒91搬運(yùn)到外觀檢查裝置1上的裝置92的機(jī)械臂93利 用兩個(gè)固定式保持部93A、 93B和一個(gè)移動(dòng)式保持部93C夾持晶片W， 在這種情況下，在晶片W中受到來(lái)自保持部93A 93C的力的被保持部 Wl形成3處。該被保持部W1是與把持的部分的接觸部，是受到外力的 部分，所以相比其他部分容易產(chǎn)生傷痕和異物附著等缺陷。被保持部Wl的圓周方向的長(zhǎng)度是根據(jù)機(jī)械臂93的保持部93A 93C的形狀而確定的已知值。并且，由于機(jī)械臂93和晶片保持部4的配 置固定，所以被保持部Wl的位置例如像圖5中的虛擬線所示的晶片W 的3處被保持部Wl的配置那樣成為大致一定的位置。因此，可以根據(jù) 機(jī)械臂93保持晶片W的保持位置的信息、以及機(jī)械臂93和晶片保持部 4的配置，來(lái)運(yùn)算將晶片W放置在晶片保持部4上時(shí)的被保持部Wl的 位置。這樣運(yùn)算出的被保持部Wl的位置和大小的數(shù)據(jù)被預(yù)先登記在計(jì) 算機(jī)41的存儲(chǔ)裝置47中。另外，與該被保持部Wl相關(guān)的數(shù)據(jù)，可以由檢査者觀察把持部的 設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)或?qū)崪y(cè)數(shù)據(jù)，并利用鼠標(biāo)42點(diǎn)擊顯示在監(jiān)視器44上的與圖4 所示相同的把持位置指定用畫(huà)面的晶片形狀的邊緣來(lái)生成，也可以使用 鍵盤43輸入距凹口的角度等數(shù)值來(lái)生成。并且，計(jì)算機(jī)42也可以覆蓋 (overlay)顯示機(jī)械臂93的保持部93A 93C的設(shè)計(jì)圖的CAD數(shù)據(jù)， 使檢查者可以觀看著監(jiān)視器圖像來(lái)指定被把持部Wl的位置。并且，還 可以設(shè)計(jì)自動(dòng)檢測(cè)被把持部Wl的位置的功能。處方登記部52使用該數(shù)據(jù)自動(dòng)生成只檢查配置有被把持部Wl的區(qū) 域的處方，并登記在存儲(chǔ)裝置47中。在進(jìn)行檢查時(shí)，按照該處方檢查被 把持部Wl有無(wú)傷痕。例如，根據(jù)機(jī)械臂93的形狀、搬運(yùn)裝置92的配置等，按照以保持
在晶片保持部4上的晶片W的中心為基準(zhǔn)的圓周方向的角度，將被保持部Wl配置在從晶片保持部的基準(zhǔn)位置起逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)的30°、 150°、 270° 這三個(gè)位置，在進(jìn)行這種運(yùn)算時(shí)，使晶片W旋轉(zhuǎn)，依次取得上述3點(diǎn)的 圖像并顯示在監(jiān)視器44上?；鶞?zhǔn)位置有時(shí)未必與晶片W的凹口位置一 致，但也可以進(jìn)行使凹口位置成為基準(zhǔn)位置的運(yùn)算。另外，與第1實(shí)施方式相同，如果使本發(fā)明的外觀檢査裝置構(gòu)成為 兼作校準(zhǔn)裝置，則可以檢測(cè)凹口位置，可以容易地以該凹口位置為基準(zhǔn) 檢測(cè)出保持位置。在此，在機(jī)械臂93等的布局變更時(shí)，登記在存儲(chǔ)裝置47中的數(shù)據(jù) 被更新。數(shù)據(jù)也可以不保存在存儲(chǔ)裝置47中，而利用其他計(jì)算機(jī)生成， 或者使用公知的通信單元取得存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)。此外，在晶片處理裝置等的晶片制造生產(chǎn)線內(nèi)進(jìn)行檢査時(shí)，也可以 登記把持晶片W的周緣部的所有裝置的把持位置，經(jīng)常進(jìn)行校準(zhǔn)，并經(jīng) 常在以凹口位置為基準(zhǔn)的一定的旋轉(zhuǎn)角度位置進(jìn)行把持。在該實(shí)施方式中，可以使用預(yù)先保有的數(shù)據(jù)自動(dòng)地僅對(duì)晶片W被機(jī) 械臂93所保持的位置進(jìn)行檢査。與檢査周緣部全周的情況相比，可以縮 短檢查時(shí)間。并且，由于自動(dòng)進(jìn)行處方的生成，所以作業(yè)容易。另外，本發(fā)明不限于上述實(shí)施方式，可以得到廣泛應(yīng)用。例如，晶片保持部4能夠使晶片W沿XYZ三方向移動(dòng)，并使晶片 W旋轉(zhuǎn)即可，并不限于實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)。此外，也可以不使晶片W沿 XYZ移動(dòng)，而將周緣攝像部5放置在X載物臺(tái)、Y載物臺(tái)、Z載物臺(tái)上， 并使其沿XYZ三方向移動(dòng)。另外，還可以將沿XYZ中的至少一個(gè)方向 移動(dòng)的機(jī)構(gòu)設(shè)在晶片保持部4偵ij，將沿其余兩個(gè)方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)設(shè)在周 緣攝像部5側(cè)。
權(quán)利要求
1.一種外觀檢查裝置(1)，其按照預(yù)先設(shè)定的處方進(jìn)行晶片(W)周緣部的外觀檢查，該外觀檢查裝置(1)具有將所述晶片可自由旋轉(zhuǎn)地進(jìn)行保持的晶片保持部(4)；取得所述晶片的周緣部的放大像的周緣攝像部(5)；檢查區(qū)域指定單元，其可在設(shè)定處方時(shí)設(shè)定晶片周緣部的檢查位置的信息；以及控制部(51)，其生成并登記用于檢查由所述檢查區(qū)域指定單元所設(shè)定的檢查位置的處方，按照所登記的處方控制所述晶片保持部和所述周緣攝像部，來(lái)進(jìn)行檢查。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的外觀檢查裝置，所述檢查區(qū)域指定單元可以對(duì)將要檢查的范圍，以相對(duì)晶片中心的圓周方向的角度來(lái)分別輸入起 點(diǎn)和終點(diǎn)，而且起點(diǎn)和終點(diǎn)的角度是以晶片的凹口或定位邊的位置為基 準(zhǔn)的角度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的外觀檢查裝置，所述檢查區(qū)域指定單元可以以相對(duì)晶片中心的圓周方向的角度來(lái)指定將要檢查的范圍，并且能夠 在該范圍內(nèi)以預(yù)定的角度間隔來(lái)指定觀察位置。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的外觀檢查裝置，所述控制部具有取入將所述晶片搬運(yùn)到所述晶片保持部的搬運(yùn)裝置的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的功能。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的外觀檢查裝置，所述檢査區(qū)域指定單元可 以使用所述搬運(yùn)裝置的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)來(lái)指定檢查區(qū)域。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的外觀檢查裝置，所述檢査區(qū)域指定單元在 指定檢査區(qū)域時(shí)，對(duì)所述搬運(yùn)裝置的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行覆蓋顯示。
7. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的外觀檢查裝置，所述控制部根據(jù)將所述晶 片搬運(yùn)到所述晶片保持部的搬運(yùn)裝置保持晶片的位置信息，來(lái)生成設(shè)定 有晶片周緣部的檢查位置的處方。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的外觀檢查裝置，所述控制部通過(guò)通信單元 從具有檢查區(qū)域指定單元的其他控制裝置取得所述搬運(yùn)裝置保持所述晶 片的位置信息。
9. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的外觀檢查裝置，所述搬運(yùn)裝置通過(guò)進(jìn)行用 于夾持所述晶片的把持來(lái)進(jìn)行搬運(yùn)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的外觀檢查裝置，其具有存儲(chǔ)部，該存儲(chǔ) 部對(duì)根據(jù)過(guò)去的檢查結(jié)果統(tǒng)計(jì)出的產(chǎn)生缺陷較多的位置進(jìn)行登記，并可 以在生成處方時(shí)讀出該位置信息。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種外觀檢查裝置，其能夠有效檢查晶片周緣部。該外觀檢查裝置通過(guò)使檢查區(qū)域指定畫(huà)面(81)顯示在監(jiān)視器上，由此可以對(duì)晶片周緣部的任意區(qū)域進(jìn)行檢查。檢查區(qū)域指定畫(huà)面(81)具有顯示觀察范圍的顯示部(81)和設(shè)定觀察區(qū)域的輸入部(82)。在輸入部(82)中，可以選擇步進(jìn)、連續(xù)、指定位置中的任一種觀察方式，按照此處設(shè)定的條件登記處方，并實(shí)施檢查。
文檔編號(hào)G01N21/892GK101153852SQ20071016166
公開(kāi)日2008年4月2日 申請(qǐng)日期2007年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月29日
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