專利名稱：上照式x熒光能量色散光譜儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種微量元素檢測儀器，尤其是一種創(chuàng)新式地采用上照式光路系統(tǒng)的x熒光能量色散光譜儀。
背景技術(shù)：
目前進行全元素分析其他方法有很多，除了 x熒光分析法之外，還有電子能譜分析和無機質(zhì)譜分析兩大類這兩大類中的其他方法主要如下 電子能譜分析俄歇電子能譜法(AES)，紫外光電子能譜法OJPS) 無機質(zhì)譜分析感應(yīng)耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)，微波感應(yīng)等離子體質(zhì)譜儀(MIP-MS)，火花源雙聚焦質(zhì)譜儀(SS-MS)，熱電離質(zhì)譜儀(TI-MS)， 輝光放電質(zhì)譜儀(GD""MS)，激光微探針質(zhì)譜儀(LM-船)，二次離子質(zhì)譜儀 (SIMS)。針對鍍層分析，目前行業(yè)主要分為兩大類破壞法鍍層檢測，非破壞法鍍層檢測方法。破壞法鍍層檢測方法必須將檢淵部位做斷面切片，經(jīng)過金相研磨、拋光、化學(xué)腐蝕得到試樣，通過CCD攝像到電腦中，通過計算機測量軟件進行電 鍍層斷面的觀察和搠量。這種檢測方式的缺點為要破壞檢搠樣品，所以檢測速度慢，只適合于抽檢。非破壞性鍍層檢測方法除了本文將要介紹的x熒光方法外，還包括電磁法、超聲波等方式。但是這種方法的檢測精度比較低，誤判率比較高。本款儀器是采用X熒光分析方法，在分析翻試方面，X熒光分析方法相 較其他儀器來說，有以下的優(yōu)勢1. 快速最多200s，可以精確得出測量結(jié)果。無需前處理或者前處理
過程非常簡單。2. 直觀瀾試過程中有實時譜圖顯示，可以直觀進行含量的判斷操作。3. 無損測試前后，樣品不發(fā)生任何物理和化學(xué)的變化。4. 準確測量結(jié)果準確可靠。5. 分析濃度范圍廣分析濃度范圍較寬,從常量到微量都可分析。重元 素的檢瀾限可達PP旭量級。6. 既可進行全元素分析，又可進行鍍層分析，適合在軟件中集成。 以上是一般X熒光光譜儀都具有的優(yōu)良性能，相較其它X熒光光譜儀來說，該儀器具有自己獨特的優(yōu)勢。本發(fā)明人于去年申請了名稱為一種自動定位X熒光能量色散光譜儀的專利，專利申請?zhí)枮?00620014536.x。如圖1所示，該專利為一種真空檢測 X熒光能量色散光譜儀，包括機身和與之相連的電腦，其中，所述機身內(nèi)安 裝有光源系統(tǒng)、探溯器系統(tǒng)以及信號處理系統(tǒng)，其中，所述光源系統(tǒng)包括 高壓單元和X光管，光源系統(tǒng)發(fā)射出X射線，X射線作用在樣品上后，樣品中 的各個原子會被激發(fā)出特征X熒光，這些X熒光被探測器系統(tǒng)所接收，分析 轉(zhuǎn)化為電信號，電信號經(jīng)MMCA模塊系統(tǒng)的處理，再傳輸?shù)诫娔X中，在機身 和與之相連的電腦的用戶界面上顯示出來，其特征在于所述真空檢測X熒 光能量色散光譜儀的機身包括一金屬框架和一外殼，其中，所述光源放射 系統(tǒng)、探測器系統(tǒng)、以及信號處理系統(tǒng)均固定于所述金屬框架上，所述外 殼罩在所述金屬框架外起保護作用，所述金屬框架的上部還設(shè)有一樣品臺， 所述樣品放置于該樣品臺上，所述樣品臺、光源放射系統(tǒng)、探測器系統(tǒng)、 以及信號處理系統(tǒng)構(gòu)成一測量單元。但本發(fā)明人經(jīng)過實踐，發(fā)現(xiàn)上述專利存在以下幾個方面的缺點需要改
迸一、 該X熒光光譜儀，采用了下照式的傳統(tǒng)光路設(shè)計模式，也就是說， 放置樣品的樣品臺位于光源放射系統(tǒng)的上方，采用這種光路，在測試過程 中可能對光路造成污染。二、 該X熒光光譜儀，樣品臺不能自動定位。三、 該X熒光光譜儀的樣品腔不是全封閉的，有可能造成射線污染。 發(fā)明內(nèi)容為了克服上述X熒光光譜儀的眾多缺點，本實用新型的目的是提供一種上照式x熒光能量色散光譜儀，可以避免在測試過程中可能對光路造成的污染，從而更進一步地排除了可能對瀾試結(jié)果產(chǎn)生影響的因素，保證了測試 效果。本實用新型所采用的技術(shù)方案是 一種上照式X熒光能量色散光譜儀， 包括機身和與之相連的電腦，其特征在于所述機身包括外殼(91)、密封樣品腔(71)、機架(9)、探瀾器(10)、光管(11)和樣品臺(81)，其特 征在于所述樣品臺(81)固定于所述探淵器(10)和光管(11)的下方。因此樣品位于照射光路的下方，采用這種光路設(shè)計，可以避免在測試過程 中可能對光路造成的污染，從而更進一步地排除了可能對測試結(jié)果產(chǎn)生影 響的因素，保證了測試效果。所述外殼(91)包括底座(1)、右掛板(2)、左掛板(3)、后面板(4)、 前門(5)和上蓋板(6)。所述密封樣品腔(71)包括密封腔上罩(7)和密封腔下罩(8)。 所述樣品臺包括主架(811)、直線步進電機(812)和滑塊813。工作時， 直線步進電機驅(qū)動，激光定位，當(dāng)樣品到達淵量位后自動停止并開始測 量。本實用新型的有益效果是 第一、采用上照式光路設(shè)計，射線直接照射到樣品，排除了薄膜對溯量結(jié)果的影響，在測量液體，粉末的時候表現(xiàn)的尤其明顯；由于光路處 于樣品的上方，所以不用擔(dān)心樣品中的粉塵和流體造成光路的污染。 第二、密封樣品腔為全封閉式，能有效防止射線對人體造成傷害。 第三、樣品臺可以實時檢測樣品上升過程中與探淵器的距離。從而保證樣 品處于最合適的檢測位置，同時保護探測器不會受損。
以下結(jié)合附圖和實施例進一步說明本實用新型。

圖1本實用新型背景技術(shù)工作原理示意圖；圖2本實用新型的外殼結(jié)構(gòu)示意圖；圖3本實用新型整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖4本實用新型內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；圖5本實用新型的樣品臺部分的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6本實用新型使用軟件的流程圖。圖中1、底座；2、右掛板；3、左掛板；4、后面板；5、前門；6、上蓋 板；7、密封腔上罩；8、密封腔下罩；9、機架；10、探湖器；11、光管； 81、樣品臺；811、主架；812、直線歩進電機；813、滑塊。
具體實施方式
如圖2、圖3、圖4、圖5所示的一種上照式X熒光能量色散光譜儀，包括機身和與之相連的電腦，其特征在于所述機身包括外殼(91)、密封樣品腔(71)、機架(9)、探測器(10)、光管(11)和樣品臺(81)，其特
征在于所述樣品臺(81)固定于所述探測器(10)和光管(11)的下方。 因此樣品位于照射光路的下方，采用這種光路設(shè)計，可以避免在測試過程 中可能對光路造成的污染，從而更進一步地排除了可能對測試結(jié)果產(chǎn)生影 響的因素，保證了淵試效果。所述外殼(91)包括底座(1)、右掛板(2)、左掛板(3)、后面板(4)、 前門(5)和上蓋板(6)。所述密封樣品腔(71)包括密封腔上罩(7)和密封腔下罩(8)。 所述樣品臺包括主架(811)、直線步進電機(812)和滑塊813。工作時， 直線步進電機驅(qū)動，激光定位，當(dāng)樣品到達淵量位后自動停止并開始測里o另外，目前市場上推出的X熒光光譜儀，有些配套測量軟件是又其他 軟件改編而來，操作界面十分繁復(fù)，對操作人員的要求很高，給儀器購買 商造成了不小的麻煩。因此，本實用新型面向用戶的操作需求開發(fā)了操作軟件，方便用戶進行測試方面的操作，其流程圖如圖6所示，其工作原理如下一、 儀器校正調(diào)整儀器放大倍數(shù)，消除峰漂的影響，確保待溯樣品與標注樣品條件一致。二、 工作曲線 根據(jù)樣品的成分和基材不同，可以添加多條曲線。三、 強度計算強度計算方法有全面積，凈面積，高斯擬合，純元素擬合，多譜擬合 等多種方法供選擇。
四、 計算含量計算公式<formula>formula see original document page 8</formula>參數(shù)說明 C : 樣品中待測元素的含量；I - 樣品的熒光強度含量 K: 待定系數(shù)。鍍層計算公式<formula>formula see original document page 8</formula>V '- 乂 參數(shù)說明T: 鍍層的厚度: 基體中各元素?zé)晒鈴姸鹊目偤蚄: 待定系數(shù)五、 報告結(jié)果測量完畢之后，以特定的格式輸出測量值。
權(quán)利要求1.一種上照式X熒光能量色散光譜儀，包括機身和與之相連的電腦，其特征在于所述機身包括外殼(91)、密封樣品腔(71)、機架(9)、探測器(10)、光管(11)和樣品臺(81)，其特征在于所述樣品臺(81)固定于所述探測器(10)和光管(11)的下方。
2、 據(jù)權(quán)利要求1所述的上照式X熒光能量色散光譜儀，其特征在于所述外殼(91)包括底座(1)、右掛板(2)、左掛板(3)、后面板(4)、 前門(5)和上蓋板(6)。
3、 據(jù)權(quán)利要求1或2所述的上照式X熒光能量色散光譜儀，其特征在 于所述密封樣品腔(71)包括密封腔上罩(7)和密封腔下罩(8)。
4、 如權(quán)利要求1或2所述的高精度X熒光能量色散光譜儀，其特征在 于所述樣品臺包括主架(811)、直線步進電機(812)和滑塊813。
專利摘要一種上照式X熒光能量色散光譜儀，包括機身和與之相連的電腦，其特征在于所述機身包括外殼(91)、密封樣品腔(71)、機架(9)、探測器(10)、光管(11)和樣品臺(81)，其特征在于所述樣品臺(81)固定于所述探測器(10)和光管(11)的下方。因此樣品位于照射光路的下方，采用這種光路設(shè)計，可以避免在測試過程中可能對光路造成的污染，從而更進一步地排除了可能對測試結(jié)果產(chǎn)生影響的因素，保證了測試效果。
文檔編號G01J3/10GK201016945SQ200720062800
公開日2008年2月6日 申請日期2007年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月28日
發(fā)明者劉召貴 申請人:深圳市天瑞儀器有限公司