專利名稱：斐索干涉儀檢測工作臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種光學(xué)元件的檢測設(shè)備，尤其是檢測平面光學(xué)元件 面形的斐索干涉儀的配套設(shè)備，屬于光學(xué)檢測和機(jī)械領(lǐng)域。
技術(shù)背景目前，斐索干涉儀作為平面光學(xué)元件表面面形的檢測設(shè)備，在平面 光學(xué)元件的生產(chǎn)過程中承擔(dān)著極為重要的檢驗任務(wù)，特別是在大尺寸高精 度光學(xué)工件的檢測中尤其如此。由于檢測精度要求高，被測工件在運送、 裝夾、擦洗過程受到擠壓、震動、人體接觸等使得工件受力或溫度場的變 化會明顯影響其面形的檢測結(jié)果，因此工件在檢測前需要恒溫等待一段時 間使其面形達(dá)到穩(wěn)定后再進(jìn)行檢測。現(xiàn)有的檢測方法是將工件裝調(diào)后直接 在干涉儀檢測位進(jìn)行恒溫等待，并且一次只能放置一個工件。恒溫等待過程一般需要2 8小時，特殊情況需要近24小時，但實際有效的檢測時間 只需要幾分鐘至十幾分鐘，檢測過程中的大部分時間都用于恒溫等待，致 使干涉儀的檢測效率大大降低，從而限制了平面光學(xué)元件的生產(chǎn)效率。 實用新型內(nèi)容為了克服現(xiàn)有的大口徑平面光學(xué)工件面形檢測效率低的缺陷，本實用 新型提供一種可大大提高檢測效率的斐索干涉儀檢測工作臺。本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:斐索干涉儀檢測工作臺，包括承載臺1、工件支架2和檢測底座3，承載臺1上設(shè)有導(dǎo)軌l-2， 工件支架2的底部設(shè)有滑動滾珠2-7，檢測底座3的一端設(shè)有插槽3-1， 承載臺i與檢測底座3連接處設(shè)有插頭1-5。本實用新型實現(xiàn)了斐索干涉儀檢測平面光學(xué)元件面形時恒溫等待過 程和檢測過程的分離，具有安全裝夾、多向位移、精密調(diào)節(jié)的特點。待檢 工件安全裝夾在工作臺上進(jìn)行檢測前恒溫等待，而不占用干涉儀的檢測 位，工作臺提供多工位，可同時靜置多個工件。達(dá)到恒溫要求后，通過 工作臺位移導(dǎo)軌可將裝夾工件平穩(wěn)移動至干涉儀檢測位，并通過檢測底座 精密調(diào)節(jié)工件空間位置達(dá)到檢測要求。 本實用新型的有益效果是，恒溫等待過程和檢測過程分離，多工位 設(shè)計縮短了干涉儀的檢測周期，大大提高了干涉儀的檢測效率，實現(xiàn)了工 件的連續(xù)檢測，較原始的檢測效率提高了4 5倍，從而也大大提高了精 密光學(xué)元件的生產(chǎn)效率。

圖1是本實用新型總體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖1的A—A剖面圖；圖3是本實用新型工件支架主視圖；圖4是本實用新型工件支架左視圖；圖5是本實用新型工件支架仰視圖； _圖6是本實用新型工件支架底板部分主視圖圖7是本實用新型工件支架底板部分俯視圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進(jìn)一步說明。斐索干涉儀檢測工作臺，包括承載臺l、工件支架2和檢測底座3， 承載臺1上設(shè)有導(dǎo)軌1-2，工件支架2的底部設(shè)有滑動滾珠2-7，檢測底 座3的一端設(shè)有插槽3-1，承載臺1與檢測底座3連接處設(shè)有插頭l-5。如圖1、 2，承載臺1上安裝有導(dǎo)軌板1-1，上面設(shè)有導(dǎo)軌1-2，承載 臺1上面可放置多個工件支架2，每個工件支架2上夾裝一個工件5，工 件支架2底部的滑動滾珠2-7在導(dǎo)軌卜2中可平穩(wěn)滑動，工件5在達(dá)到恒 溫狀態(tài)時，推動工件支架2沿著承載臺1的長度方向移動，到導(dǎo)軌1-2 的交點處時，沿承載臺1的寬度方向移動，此時推動檢測底座3向承載臺 1靠近(圖1中箭頭表示)，承載臺1的插頭1-5插入檢測底座3的插槽 3-1中，此時兩者相接并在同一平面，再推動工件支架2到檢測底座3上， 推動檢測底座3到檢測位(圖1中虛線位置)并固定。本實用新型實現(xiàn)了用 斐索干涉儀檢測平面光學(xué)元件面形時恒溫等待過程和檢測過程的分離。承載臺2兩外側(cè)邊緣設(shè)有限位條1-3、卜4,防止工件支架2脫軌滑向工作臺兩側(cè)邊緣，限位條1-4上設(shè)有鎖定旋鈕1-6，左、右兩端的鎖定旋 鈕1-6阻止工件支架2滑向工作臺的兩端邊緣，中間的鎖定旋鈕1-6可將 工件支架2鎖定在任意位置。
工作臺可以同時放置8個工件支架2，可在任意位置將其夾緊鎖定； 移動過程可控，工件不傾斜、搖晃、碰撞；承載設(shè)計滿足裝載工件的最大負(fù)荷要求，承重X).5T;導(dǎo)軌1-2為L形，節(jié)省檢測空間，上下臺方便、 可靠，易于操作、調(diào)節(jié)；承載臺1具有很好的穩(wěn)定性，不滑動、不傾倒、 不變形。如圖3—7，工件支架2由底板2-1、頂板2-2、螺桿2-3及旋鈕2-4 組成，頂板2-2上設(shè)有聚四氟乙烯夾緊塊2-5:底板2-l上設(shè)有聚四氟乙 烯墊板2-6;墊板2-6上設(shè)有聚四氟乙烯夾緊塊2-5。工件2置于墊板2-6 上，根據(jù)工件2的高度，用旋鈕2-4調(diào)節(jié)頂板2-2的高度，頂板2-2與工 件2之間留有空隙，根據(jù)工件2的厚度，移動夾緊塊2-5接觸工件2，旋 緊螺栓2-9將工件2固定；根據(jù)工件的寬度，將夾緊塊2-5置于墊板2-6 和底板2-1以及頂板2-2相應(yīng)的連接孔2-8處。工件支架2可以滿足不同尺寸工件2的裝夾要求，最大可裝夾尺寸為 600mmx500mmxlOOmm的工件，且在此規(guī)格內(nèi)裝夾范圍可調(diào)；與工件接 觸的墊板2-6和夾緊塊2-5采用聚四氟乙烯材料制作，夾緊塊2-5的楔口 為V形結(jié)構(gòu)并且可以調(diào)節(jié)，既保證了裝夾安全又不會造成工件的應(yīng)力變 形。檢測底座3可承重120Kg，可垂直方向升降，升降范圍為0 150mm; 可手動精密調(diào)節(jié)其傾斜角度，水平角度轉(zhuǎn)動范圍0 70°，垂直俯仰調(diào)節(jié) 范圍±5°，水平移動距離土40mm;調(diào)節(jié)精度由調(diào)節(jié)螺桿實現(xiàn)，采用螺距 為0.25mm超細(xì)牙螺桿。工件2的檢測位置調(diào)整合適后，即可在檢測室4-2中由斐索干涉儀4 通過標(biāo)準(zhǔn)鏡4-1進(jìn)行其面形檢測。上面已結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式
進(jìn)行了示例性的描述， 顯然本實用新型不限于此，在本實用新型范圍內(nèi)進(jìn)行的各種改型均沒有超 出本實用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1、一種斐索干涉儀檢測工作臺，包括承載臺(1)、工件支架(2)和檢測底座(3)，其特征在于，承載臺(1)上設(shè)有導(dǎo)軌(1-2)，工件支架(2)的底部設(shè)有滑動滾珠(2-7)，檢測底座(3)的一端設(shè)有插槽(3-1)，承載臺(1)與檢測底座(3)連接處設(shè)有插頭(1-5)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的斐索干涉儀檢測工作臺，其特征在于，所述的 導(dǎo)軌(1-2)設(shè)在置于承載臺(1)上面的導(dǎo)軌板(1-1)上，在承載臺(1)的長度方向和寬度方向上均有兩條，在承載臺(1)的一端相交。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的斐索干涉儀檢測工作臺，其特征在于，所述的 承載臺(1)兩外側(cè)邊緣設(shè)有限位條(卜3)、 (1-4)。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的斐索干涉儀檢測工作臺，其特征在于，所述的 限位條U-4)上設(shè)有鎖定旋鈕(1-6)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的斐索干涉儀檢測工作臺，其特征在于，所述的 工件支架(2)由底板(2-1)、頂板(2-2)、螺桿(2-3)及旋鈕(2-4) 組成。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的斐索干涉儀檢測工作臺，其特征在于，所述的 底板(2-1)的底部設(shè)有4個滾珠套(2-10)，滑動滾珠(2-7)置于其中。
7、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的斐索干涉儀檢測工作臺，其特征在于，所述的 頂板(2-2)上設(shè)有聚四氟乙烯夾緊塊(2-5)。
8、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的斐索干涉儀檢測工作臺，其特征在于，所述的 底板(2-l)上設(shè)有聚四氟乙烯墊板(2-6)。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的斐索干涉儀檢測工作臺，其特征在于，所述的 的墊板(2-6)上設(shè)有聚四氟乙烯夾緊塊(2-5)。
專利摘要本實用新型公開了一種斐索干涉儀檢測工作臺，旨在提供一種檢測平面光學(xué)元件面形配套設(shè)備。它包括承載臺、工件支架和檢測底座，承載臺上設(shè)有導(dǎo)軌，工件支架的底部設(shè)有滑動滾珠。本實用新型使工件的恒溫等待過程和檢測過程分離，實現(xiàn)了工件的連續(xù)檢測，大大提高了檢測效率，較原始的檢測效率提高了4-5倍，提高了光學(xué)元件的生產(chǎn)效率。本實用新型適合大口徑斐索干涉儀檢測大型平面光學(xué)元件面形時使用。
文檔編號G01M11/04GK201053919SQ20072007990
公開日2008年4月30日 申請日期2007年6月12日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月12日
發(fā)明者杰 于, 劉夏來, 光 巨, 寧 張, 李瑞潔, 楊李茗, 敏 段, 石琦凱 申請人:成都精密光學(xué)工程研究中心