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      一種低倍組織電解酸蝕裝置的制作方法

      文檔序號:6034026閱讀:604來源:國知局
      專利名稱:一種低倍組織電解酸蝕裝置的制作方法
      技術領域
      本實用新型涉及一種電解酸蝕設備,具體涉及一種用于對鋼材進行低倍組織電 解酸蝕,以檢查鋼材原材料缺陷和/或鍛造流線酸蝕裝置。
      背景技術
      根據(jù)《GB/T226-91鋼的低倍組織及缺陷酸蝕檢驗法》對鋼材進行低倍組織電 解酸蝕,以檢査鋼材原材料缺陷和/或鍛造流線。
      目前,在應用電解酸侵蝕法時還沒有專門的設備, 一般直接采用電解池電解酸 蝕,它們存在主要缺點
      1. 電解板長期浸置于電解池中,壽命短;
      2. 酸揮發(fā)嚴重,污染環(huán)境;
      3. 時間無法精確,自動控制;
      4. 控制器和酸蝕槽在一起,整個系統(tǒng)易腐蝕;
      5. 電解板取出時帶出腐蝕性液體造成環(huán)境污染;
      6. 低倍組織酸蝕程度無法有效控制,重復性差, 一旦樣品酸蝕不理想,就得 重新制樣,效率低;
      8.電解池中的電解液過多或需要更換時,難以操作。
      發(fā)明內(nèi)容
      本實用新型的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術存在的不足之處而提供一種效 率髙、重復性好、電解液損失小的低倍組織電解酸蝕裝置。
      本實用新型的目的可以通過以下技術方案來實現(xiàn) 一種低倍組織電解酸蝕裝 置,其特征在于,該裝置包括電控柜l、電解槽2,該電解槽2包括兩塊隔欄3、 電解板4、樣品板5、龍頭6、卡槽7、電解槽上蓋8,所述的兩塊隔欄3分設在電 解槽2兩側,將電解槽分成三個區(qū)域,兩側的瀝液區(qū)和中間的電解區(qū),所述的電解槽2頂部邊緣隔欄3兩側設有擱置電解板4的卡槽7,所述的樣品板5設置在兩塊 隔欄3之間的電解區(qū),所述的電解槽2側面底部設有與外界相通的龍頭5,所述的 電控柜1與電解槽2分開放置,通過導線9將電解槽2電極與電控柜1連接。 所述的卡槽7有四對,各對卡槽7對稱設置于電解槽2相對的兩個側面上。 所述的卡槽7設于瀝液區(qū)和電解區(qū)靠近隔欄3的電解槽2邊緣。 所述的電解板4有兩塊,電解時,電解板4與隔欄3平行設置于電解區(qū)的卡槽 7上。
      所述的電解板4有兩塊,非電解時,電解板4與隔欄3平行設置于瀝液區(qū)的卡 槽7上。
      所述的龍頭6有三個,分別設置于電解槽2的兩側瀝液區(qū)和中間電解區(qū)側面底部。
      與現(xiàn)有技術相比,本實用新型用兩塊隔欄將電解槽分割成三個區(qū)域,兩側較小 的瀝液區(qū)和中間的電解區(qū),電解時,將電解板置于電解區(qū)兩側,多排樣品可并列放 置于電解板之間的樣品板上,并在電解槽上電解區(qū)側面底部設有龍頭,可將方便的 控制電解液的量或者更換電解液;非電解時,將電解板取出,置于電解槽兩側的瀝 液區(qū)卡槽上,電解板上攜帶的電解液可滴入瀝液區(qū),由于電解液常采用鹽酸等腐蝕 性液體,電解板長期放置于電解液中會減少電解板的壽命,而且取出電解板時,電 解板上不可避免的會攜帶電解液,本實用新型裝置則可在非電解時適當安置電解 板,增加電解板壽命,減少環(huán)境污染,且該裝置效率高、重復性好,無需加熱,電 解液揮發(fā)相對較少,從而可改善工作環(huán)境。


      圖1為本實用新型裝置結構示意圖。
      具體實施方式

      以下是結合附圖按照本實用新型技術方案所作的實施例,用以進一步解釋 本實用新型。 實施例1
      如圖1所示, 一種低倍組織電解酸蝕裝置,該裝置包括電控柜l、電解槽2, 該電解槽2包括兩塊隔欄3、電解板4、樣品板5、龍頭6、卡槽7、電解槽上蓋8,所述的兩塊隔欄3分設在電解槽2兩側,將電解槽2分成三個區(qū)域,兩側的狹窄的 瀝液區(qū)和中間較寬的電解區(qū),所述的電解槽2頂部邊緣隔欄3兩側設有四對卡槽7, 各對卡槽7對稱設置于電解槽2相對的兩個側面上,其中兩對卡槽7位于電解區(qū)兩 側隔欄3旁邊,另外兩對卡槽7位于電解槽2兩側的瀝液區(qū)上,電解時,將電解板 4設置于電解區(qū)的卡槽7上,使電解板4與隔欄3平行,將帶電解酸蝕的樣品置于 電解板之間的樣品板5上,并在電解槽2電解區(qū)側面底部設有與外界相通的龍頭5, 當電解槽2中的電解液過滿時,可方便的放出一部分,或者當需要更換電解液時, 也可以方便的將廢液放出,并將電解槽上蓋8蓋上,減少電解液揮發(fā)。非電解時, 將電解板4設置于瀝液區(qū)的卡槽7上,與隔欄3平行,電極板上攜帶出的電解液可 滴落在瀝液區(qū),避免造成環(huán)境污染,并在兩瀝液區(qū)側面底部也設有龍頭5,可及時 方便的排出液。
      電控柜1與電解槽2分開放置,安放電解槽的房間應有排風裝置及良好的通風, 連接輸入電纜,輸入電纜線應在6平方毫米以上,通過導線9將電解槽2電極與電 控柜1連接,電控柜1輸出端到電極之間用50mn^以上的銅線9連接,用戶可根 據(jù)電控柜到電解槽之間的距離確定連線長度,但連線長度應小于10m。電控柜應有 良好的接地,接地電阻應小于10Q;電控柜的房間溫度在0。C 35。C。相對濕度Z 75%;龍頭纏上生膠帶后,將其裝在酸槽的后面板上的三個螺紋口處;在槽中裝上 少量的水,以檢查來確保是否滲漏。然后,將水放出。
      上述低倍組織電解酸蝕裝置操作步驟
      1. 在槽的中間部分中裝上適量的腐蝕液;
      2. 將兩個電極板從兩側的隔欄中移到中間欄的兩側;
      3. 將樣品放入腐蝕液中,樣品的腐蝕面應平行電極板平面;并保證樣品與樣 品之間、樣品與電極板之間不得接觸;
      4. 接上電源,合上空氣開關(在機箱內(nèi)部);
      5. 將電壓調(diào)整旋鈕(在控制面板上)反時針旋到零位;
      6. 時間設定定時開關撥到"定時關"位置上時,可設置工作時間;
      7. 按壓啟動按鈕,工作指示燈亮;
      8. 順時針旋轉電壓調(diào)整旋鈕,根據(jù)工藝要求,將電解電流調(diào)整到規(guī)定值后, 停止旋轉電壓調(diào)整旋鈕;
      9. 將定時開關撥到"定時開"位置上時,即開始按設定的時間工作;10. 當時間倒計數(shù)到零時,蜂鳴器響,切斷電解電流。
      11. 如果需按前面的設定重復工作,按壓啟動按鈕即可。
      12. 當發(fā)生過載時,過載指示燈亮,蜂鳴器響。
      13. 將旋轉電壓調(diào)整旋鈕反時針旋轉到零位后,按壓復位按鈕,過載指示燈 滅,蜂鳴器停止鳴叫。
      14. 取出樣品,進行清洗觀察;
      15. 將兩個電極板從中間欄移到兩側的隔欄中,這樣,電極板在不工作時不
      與酸液接觸,能延長其使用壽命。
      權利要求1.一種低倍組織電解酸蝕裝置,其特征在于,該裝置包括電控柜(1)、電解槽(2),該電解槽(2)包括兩塊隔欄(3)、電解板(4)、樣品板(5)、龍頭(6)、卡槽(7)、電解槽上蓋(8),所述的兩塊隔欄(3)分設在電解槽(2)兩側,將電解槽分成三個區(qū)域,兩側的瀝液區(qū)和中間的電解區(qū),所述的電解槽(2)頂部邊緣隔欄(3)兩側設有擱置電解板(4)的卡槽(7),所述的樣品板(5)設置在兩塊隔欄(3)之間的電解區(qū),所述的電解槽(2)側面底部設有與外界相通的龍頭(6),所述的電控柜(1)與電解槽(2)分開放置,通過導線(9)將電解槽(2)電極與電控柜(1)連接。
      2. 根據(jù)權利要求1所述的低倍組織電解酸蝕裝置,其特征在于,所述的卡槽(7) 有四對,各對卡槽(7)對稱設置于電解槽(2)相對的兩個側面上。
      3. 根據(jù)權利要求1或2所述的低倍組織電解酸蝕裝置,其特征在于,所述的 卡槽(7)設于瀝液區(qū)和電解區(qū)靠近隔欄(3)的電解槽(2)邊緣。
      4. 根據(jù)權利要求1所述的低倍組織電解酸蝕裝置,其特征在于,所述的電解 板(4)有兩塊,電解時,電解板(4)與隔欄(3)平行設置于電解區(qū)的卡槽(7) 上。
      5. 根據(jù)權利要求1所述的低倍組織電解酸蝕裝置,其特征在于,所述的電解 板(4)有兩塊,非電解時,電解板(4)與隔欄(3)平行設置于瀝液區(qū)的卡槽(7) 上。
      6. 根據(jù)權利要求1所述的低倍組織電解酸蝕裝置,其特征在于,所述的龍頭 (6)有三個,分別設置于電解槽(2)的兩側瀝液區(qū)和中間電解區(qū)側面底部。
      專利摘要本實用新型涉及一種低倍組織電解酸蝕裝置,該裝置包括電控柜(1)、電解槽(2),該電解槽(2)包括兩塊隔欄(3)、電解板(4)、樣品板(5)、龍頭(6)、卡槽(7)、電解槽上蓋(8),所述的兩塊隔欄(3)分設在電解槽(2)兩側,將電解槽分成三個區(qū)域,兩側的瀝液區(qū)和中間的電解區(qū),所述的電解槽(2)頂部邊緣隔欄(3)兩側設有擱置電解板(4)的卡槽(7),所述的樣品板(5)設置在兩塊隔欄(3)之間的電解區(qū),所述的電解槽(2)側面底部設有與外界相通的龍頭(6)。與現(xiàn)有技術相比,本實用新型具有效率高、重復性好、環(huán)保、壽命長等特點。
      文檔編號G01N1/32GK201222021SQ20082005953
      公開日2009年4月15日 申請日期2008年6月10日 優(yōu)先權日2008年6月10日
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