專利名稱：馬赫-曾德爾型剪切波面測量系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及激光波面的測量，特別是一種馬赫一曾德爾型剪切波面測量系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
光學(xué)衍射極限是光束受到孔徑限制條件下能夠達(dá)到的最小的發(fā)散度，此時光束 波面只具有0.3X左右的波面象差。剪切干涉法是一種方便精密的間接測量方法，通 過待測波面與自身復(fù)制面的干涉求得波面的變化率。在先技術(shù)可以利用雙剪切干涉 方便直觀地測量這樣微小的波差。干涉測量中的移相方法是常用的提高測量精度的 手段，對雙剪切干涉測量系統(tǒng)，如果引入移相方法，可以同時獲得直觀、高精度的 測量結(jié)果。目前的激光應(yīng)用系統(tǒng)中，很多采用半導(dǎo)體激光器，相干長度小，釆用干 涉方法測量時，需要兩束相干光的光程相等。大口徑光學(xué)元件的加工和檢驗難度較 高，是束縛測量大口徑波面的重要因素。平板的加工是相對簡單的，工藝上容易實 現(xiàn)，因此設(shè)計了一種基于平板結(jié)構(gòu)、簡便易行的大口徑、可移相、剪切干涉的高精 度測量系統(tǒng)，實現(xiàn)大口徑、寬光譜、高精度激光波面測量'。
在先技術(shù)[l] (M.V.R.K.Murty，'，The use of a single plane parallel plate as a lateral shearing interfereometerwith a visible gas laser source，，,Appl.Opt.3,531-534(1964))中所 描述的平行平板剪切干涉儀，利用平板的厚度和折射率，光束入射角產(chǎn)生剪切干涉 條紋。但是波差在一個波長以下，出現(xiàn)均勻視場，更小的波差無法辨別。
在先技術(shù)[2](參見R.S.Sirohi and M.RKothiyal,"Double wedge plate shearing interferometer for collimation testing,"Appl.Opt,26,4054-4056(1987))中所描述的是雙 楔形平板的剪切測量干涉儀，利用兩塊楔角反向平行的楔形平板形成兩組干涉條紋，' 通過兩組條紋的夾角或?qū)挾炔钋蟪霾?。檢測精度是單楔板剪切的2倍。但是要比 較兩幅干涉圖，需提供參考或要求嚴(yán)格反向平行。由楔板決定的剪切波面與待測波 面無法分開，非等光程相干。因此只適用于相干長度長的光源探測。
在先技術(shù)[3](參見G. Li， M. Zhao, and J. Zhang,"Improved wedge-plate shearing interferometric technique for a collimation test,，，Appl.Opt.31,4363-4364(1992))中所描述 的是在先技術(shù)[2]的改型，由一塊楔形板的反射和透射代替兩塊反向平行的楔板， 形成兩組剪切干涉條紋，不需要提供參考或調(diào)節(jié)兩光楔嚴(yán)格反向平行。但是仍為非 等光程相干。在先技術(shù)[4](參見Yun "Woo Lee， Hyun Mo Cho， In Won Lee, "half-aperture shearing interferometer for collimation testing", Opt.Eng.32(ll),2837-2840(1993))中所
描述的是用兩塊擋板分別遮擋在先技術(shù)[3]中反射透射光路的上下部分，使兩組條 紋合并成一幅干涉圖，相互參考方便比較。仍為非等光程相干。
在先技術(shù)[5](參見專利ZL02155049.2雙剪切波面干涉測量儀)中所描述的是以 雅敏干涉儀為基礎(chǔ)的分口徑雙楔板剪切干涉儀，利用兩塊平行板和四塊楔形形成一 幅分口徑的剪切干涉圖。剪切量是同樣厚度楔板的兩倍，剪切量越大，可以準(zhǔn)確測 得更小的波差。由系統(tǒng)直接得到分口徑干涉圖不需要實驗過程中遮擋。為等光程相 干。但是對于大口徑檢測，分束需要大厚度平行板，制作西難。
在先技術(shù)[6](參見專利公開1444023大口徑波面干涉測量儀)中所描述的是以 馬赫曾德干涉儀為基礎(chǔ)的分口徑雙剪切干涉儀，利用兩塊透射平板，四塊反射平板 形成一幅分口徑的剪切干涉圖，為等光程相干。但是，只能計算得出波面高度的信 息，不能恢復(fù)波面，進(jìn)行計算機(jī)數(shù)字處理。同時沒有提供調(diào)試精度的保證。 ■
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型要解決的技術(shù)問題是克服上述已有技術(shù)的困難，提供一種馬赫一曾 德爾型剪切波面測量系統(tǒng)，該系統(tǒng)大口徑、高精密、可移相、剪切干涉波面測量， 可以測量衍射極限波面，等光程相干，適用于短相干長度光源，可采用移相方法， 進(jìn)行計算機(jī)數(shù)字圖像處理。 .
本實用新型的技術(shù)解決方案如下
一種馬赫—曾德爾型剪切波面測量系統(tǒng)，特征在于包括
由入射平板、出射平板、固定底座、第一反射平板、第二反射平板、第三反射 平板、第四反射平板、第一導(dǎo)軌、第二導(dǎo)軌、成像透鏡、小孔和CCD成像儀構(gòu)成的 干涉系統(tǒng)；
提供精度保證的調(diào)整設(shè)備包括自準(zhǔn)直平行光管、第一反射鏡、激光準(zhǔn)直光源、
基準(zhǔn)透反射鏡、第二反射鏡、光闌、第一五棱鏡和第二五棱鏡； 控制處理系統(tǒng)包括壓電控制器和計算機(jī)處理系統(tǒng)； 上述部件的位置關(guān)系如下
入射平板和出射平板為透射反射平板，該入射平板和出射平板的基準(zhǔn)面嚴(yán)格平 行地順列地固定在同一個底座上，該底座斜置地固定在一基板的中間偏上位置，所 述的第一反射平板固定在第一導(dǎo)軌上，該第一導(dǎo)軌置于所述的基板的右上部位，第 一反射平板的方向與所述的入射平板平行，間距為d13，'所述的第一反射平板通過 第一導(dǎo)軌的調(diào)整可沿水平方向移動，所述的第二反射平板的方向與所述的第一反射 平板垂直，間距為d34，所述的第二反射平板到所述的出射平板的間距為d24，所述的第三反射平板和第四反射平板互相垂直，中心的間距為d56，共同固定在第二導(dǎo) 軌上，該第二導(dǎo)軌置于所述的基板的中下部位，且第四反射平板的方向與所述的入 射平板平行，間距為dl6，所述的第三反射平板到所述的出射平板的間距為d25，所 述的第四反射平板、出射平板和第一反射平板的方向相互.平行；
在所述的基板上的下邊自左至右設(shè)置第一反射鏡和自準(zhǔn)直平行光管，在所述的 基板上的左側(cè)自下至上設(shè)置激光準(zhǔn)直光源和第二反射鏡，在所述的基板上的上側(cè)自 左至右依次是光闌、第二反射鏡、基準(zhǔn)透反射鏡、入射平板和第一反射平板，在所 述的基板上的上側(cè)和所述的出射平板的出射方向設(shè)置所述的成像透鏡、小孔和CCD 成像儀，該CCD成像儀的輸出端與計算機(jī)相連；
所述的第三反射平板裝有所述的壓電控制機(jī)構(gòu)，微動提供移相； 沿待測光束入射方向依次是光闌、第二反射鏡、基準(zhǔn)透反射鏡、入射平板和第 一反射平板，該入射平板將光束分為透射光束和反射光束，該反射光束經(jīng)由第四^ 射平板、第三反射平板至所述的出射平板構(gòu)成第一光路，所述的透射光束經(jīng)第一反 射平板、第二反射平板反射達(dá)到所述的出射平板構(gòu)成第二光路，所述的第一光路與 第二光路等光程；
所述的第一反射平板、第二反射平板、第三反射平板和第四反射平板中有一塊 反射平板的結(jié)構(gòu)是上下兩部分構(gòu)成的，上下部分可分別以垂直方向為軸，順時針和 逆時針方向轉(zhuǎn)動角度，其他那三塊反射平板為整塊。
本實用新型的技術(shù)效果
在先技術(shù)[l]用平行平板測量波差，無法測量波差小于一個波長的波面。在先技 術(shù)[2]和[3]和[4]采用雙楔形平板剪切干涉儀，為非等光程干涉。不適用于短相干長度 光源。在先技術(shù)[5]的雙剪切波面測量儀制作大口徑困難。在先技術(shù)[6]采用馬赫一曾 德爾型的剪切干涉儀為基礎(chǔ)，引入分上下的反射平板，上下與其他平板成不同的角 度，差動測量波面，恒等光程干涉。只能計算得出波面高度的信息，不能恢復(fù)波面，. 進(jìn)行計算機(jī)數(shù)字處理，沒有提供調(diào)試精度保證的系統(tǒng)。本實用新型的馬赫一曾德爾 型剪切波面測量系統(tǒng)采用導(dǎo)軌的位移決定剪切量和等光程的精密調(diào)整，同時配有自 準(zhǔn)直平行光管和激光(包括寬光譜)準(zhǔn)直光源實時調(diào)整和標(biāo)定，保證系統(tǒng)的獨立工 作。以大口徑平板為基礎(chǔ)，易于加工檢驗。系統(tǒng)中可采用壓電移相控制，結(jié)合計算 機(jī)剪切移相數(shù)字處理，進(jìn)一步提高測量精度。因此是一種適用于測量大口徑，衍射 極限下的波面，特別是適用于短相干長度的光源波面，可以進(jìn)行移相處理，配有實 時調(diào)整和標(biāo)定的完整系統(tǒng)。


圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
6圖2為本實用新型中上下分開的反射平板的結(jié)構(gòu)示意圖，工作時上下平板的夾 角為2a。
圖3為調(diào)試設(shè)備中基準(zhǔn)透反鏡的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為入射光闌的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5為各平板間距示意圖。
圖6為干涉條紋示意圖，陰影為不可見部分。 .具體實施方式
下面結(jié)合實施例和附圖對本實用新型作進(jìn)一步說明，但不應(yīng)以此限制本實用新 型的保護(hù)范圍。
先請參閱圖l，圖1為本實用新型裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。'由圖可見，本實用新型馬 赫一曾德爾型剪切波面測量系統(tǒng)包括由入射平板l、出射平板2、固定底座23、
第一反射平板3、第二反射平板4、第三反射平板5、第四反射平板6、第一導(dǎo)軌7、 第二導(dǎo)軌8、成像透鏡9、小孔10和CCD成像儀11構(gòu)成的干涉系統(tǒng)；
提供精度保證的調(diào)整設(shè)備包括自準(zhǔn)直平行光管12、第一反射鏡13、激光準(zhǔn)直光 源14、基準(zhǔn)透反射鏡15、第二反射鏡16、光闌17、第一五棱鏡18和第二五棱鏡
19;
控制處理系統(tǒng)包括壓電控制器20和21和計算機(jī)22處理系統(tǒng)；
上述部件的位置關(guān)系如下
入射平板1和出射平板2為透射反射平板，該入射平.板1和出射平板2的基準(zhǔn) 面嚴(yán)格平行地順列地固定在同一個底座23上，該底座23斜置地固定在一基板的中 間偏上位置，所述的第一反射平板3固定在第一導(dǎo)軌7上，該第一導(dǎo)軌7置于所述 的基板的右上部位，第一反射平板3的方向與所述的入射平板1平行，間距為dl3， 所述的第一反射平板3通過第一導(dǎo)軌(7)的調(diào)整可沿水平方向移動，所述的第二反 射平板4的方向與所述的第一反射平板3垂直，間距為d34,所述的第二反射平板4 到所述的出射平板2的間距為d24，所述的第三反射平板5和第四反射平板6互相 垂直，中心的間距為d56，共同固定在第二導(dǎo)軌8上，該第二導(dǎo)軌8置于所述的基 板的中下部位，且第四反射平板6的方向與所述的入射平板1平行，間距為d16，' 所述的第三反射平板5到所述的出射平板2的間距為d25，如圖5所示。所述的第 四反射平板6、出射平板2和第一反射平板3的方向相互平行且中心在一條直線上；
在所述的基板上的下邊自左至右設(shè)置第一反射鏡13和自準(zhǔn)直平行光管12，在所 述的基板上的左側(cè)自下至上設(shè)置激光準(zhǔn)直光源14和第二反射鏡16，在所述的基板 上的上側(cè)自左至右依次是光闌17、第二反射鏡16、基準(zhǔn)透反射鏡15、入射平板1 和第一反射平板3，在所述的基板上的上側(cè)和所述的出射平板2的出射方向設(shè)置所述的成像透鏡9、小孔10和CCD成像儀11，該CCD成像儀11的輸出端與計算機(jī) 22相連；
所述的第三反射平板5裝有所述的壓電控制機(jī)構(gòu)20、 21，微動提供移相；.
沿待測光束入射方向依次是光闌17、第二反射鏡16、基準(zhǔn)透反射鏡15、入射平 板1和第一反射平板3，該入射平板1將光束分為透射光束和反射光束，該反射光 束經(jīng)由第四反射平板6、第三反射平板5至所述的出射平板2構(gòu)成第一光路，所述 的透射光束經(jīng)第一反射平板3、第二反射平板4反射達(dá)到所述的出射平板2構(gòu)成第 二光路，所述的第一光路與第二光路等光程； '
所述的第一反射平板3、第二反射平板4、第三反射平板5和第四反射平板6中 有一塊反射平板的結(jié)構(gòu)是上下兩部分構(gòu)成的，上下部分可分別以垂直方向為軸，順 時針和逆時針方向轉(zhuǎn)動角度，其他那三塊反射平板為整塊'。
第一反射平板3為反射鏡，固定在高精密導(dǎo)軌7上，第一反射平板3的方向與 平板1平行，間距為d13，如圖5所示。沿光程調(diào)整方向(箭頭方向)移動可以精 密調(diào)整一路相干光的光程，使之與另一路光的光程相等。第三反射平板5和第四反 射平板6為反射鏡互相垂直，間距為d56，共同固定在導(dǎo)軌8上，平板6的方向與 平板1平行，間距為d16。沿剪切方向(箭頭方向)移動可以改變剪切量。剪切量 由O增大時，相干條紋的區(qū)域減少。第二反射平板4為反射鏡，方向與第一反射平 板3垂直，間距為d34。結(jié)構(gòu)是上下一分為二，可以垂直方向為軸，順時針或逆時 針轉(zhuǎn)動。 一般情況下，上下轉(zhuǎn)動角度相同，方向相反，如圖2所示。
第四反射平板5的鏡框具有壓電控制機(jī)構(gòu)20和21，微動提供移相。第一反射平 板3、第二反射平板4、第三反射平板5和第四反射平板6，可以選任一塊反射平板 結(jié)構(gòu)是上下一分為二，作用相同。為說明方便，取反射平板4為例，如圖2所示。 另外三塊反射平板為整塊。
工作時放置如下首先利用自準(zhǔn)直平行光管12和反射鏡13，調(diào)整平板2與平板 3及6平行。利用自準(zhǔn)直平行光管12、反射鏡13、五棱鏡18調(diào)整平板5和平板6 垂直。利用自準(zhǔn)直平行光管12、反射鏡13、五棱鏡19調(diào)整平板6和平板4垂直。 此時為基準(zhǔn)方向。第二步微調(diào)使平板4的上下部分分別以垂直方向為軸，順時針和 逆時針方向轉(zhuǎn)動角度，以逆時針轉(zhuǎn)動為正。同樣利用自準(zhǔn)直平行光管12、反射鏡13、' 五棱鏡19調(diào)整上半塊與平板4的基準(zhǔn)方向成角度為a，下半塊與平板4基準(zhǔn)方向成 角度為一P， 一般取a二卩時為最佳值。
調(diào)整等光程初步確定位置時，如圖5所示，保證(113+(134+(124=(116+(156+ d25。利用激光準(zhǔn)直光源14，第二反射鏡16，調(diào)整第一導(dǎo)軌7，觀察到寬光譜干涉 條紋以至于白光干涉條紋，說明兩路相干光滿足光程相等.的要求。
8調(diào)整入射光基準(zhǔn)方向基準(zhǔn)透反射鏡15推入光路中，調(diào)整基準(zhǔn)透反射鏡15的 方向，與激光準(zhǔn)直光源14和第二反射鏡16的光垂直。然后將反射鏡16拉出光路。 調(diào)整入射光的方向與基準(zhǔn)透反射鏡15垂直，然后拉出基準(zhǔn)透反射鏡15進(jìn)行測量。 基準(zhǔn)透反射鏡15和第二反射鏡16作為系統(tǒng)的一部分，暫時放在平臺一側(cè)，在每次 測量時都將使用它們，如上述過程調(diào)整入射光基準(zhǔn)。 .
觀察干涉圖通過成像透鏡9、小孔10和CCD成像儀11在計算機(jī)22上采集處 理干涉條紋，得到波面信息。需要移相處理時，計算機(jī)應(yīng)用程序采用移相處理專用 軟件控制壓電元件和處理干涉圖，其它硬件系統(tǒng)不變。
實驗過程中根據(jù)需要調(diào)整剪切量。
一般地，調(diào)整不分割的平板。在這里第三
反射平板5和第四反射平板6 —起固定在第二導(dǎo)軌8上，沿移動方向調(diào)整改變剪切 量。這樣可以在待測波面以45度入射到入射平板l的情況下，調(diào)整過程中始終保持 光程一定。即恒等光程相干。
基本原理為待測波面斜入射于入射平板l， 一部分在其入射界面上反射(A)，' 另一部分折射入該平板并在第二個界面上透射出(B)。 A波面經(jīng)過第四反射平板6 和第三反射平板5反射，經(jīng)出射平板2透射到成像物鏡9。 B波面通過第一反射平板 3和第二反射平板4反射上下一分為二，上半波面的光軸和下半波面的光軸相對于 待測波面光軸偏離方向相反，并在出射平板2反射。在兩波面的重合部分產(chǎn)生干涉 圖。
入射波面經(jīng)過入射平板1反射和第四反射平板6和第三反射平板5反射后，由 于角士a的關(guān)系上下產(chǎn)生不同的出射方向。由設(shè)計的口徑內(nèi)觀察條紋數(shù)N和希望剪切 量S可以確定角a。 a與口徑內(nèi)觀察條紋數(shù)N，入射波長X，入射光束孔徑半徑R的 關(guān)系為
(iV —l)義 (2i - S)
待測波面W與入射波長X、剪切量S、入射光束孔徑半徑R、干涉圖的上部分條 紋間距1和干涉圖的下部分條紋間距T2的關(guān)系為
7;r2 7;r2
式中Ti為干涉圖的上部分條紋間距，T2為干涉圖的下部分條紋間距，AT為上下條 紋數(shù)之差。
移相的處理基于剪切移相原理，可以采用商用軟件予'以解決。 本實施例裝置的具體參數(shù)是:待測波面孔徑直徑2R為260mm，波長X為633nm。 透射平板與反射平板(平板1、 2、 3、 4、 5、 6)通光口徑均為(D470mm，厚度為65mm。折射率n為1.50959，調(diào)整角a為5"。剪切量調(diào)整范圍為0 130mm。全口徑觀察條 紋數(shù)目N為11條紋，波面高度測量范圍是最小可達(dá)0.2、最大可達(dá)以上。第一 導(dǎo)軌7的行程為40mm，精度為500nm。第二導(dǎo)軌8的行程為200mm，精度為lmm。 成像透鏡9的口徑為0300mm，焦距為lm。小孔10的大小為lmm， CCD成像儀 11的型號為MT_1881。自準(zhǔn)直平行光管12的口徑為(D100mm，焦距為lm。第一 反射鏡13和第二反射鏡16的口徑為①200mm。激光準(zhǔn)直光管的口徑為0>150mm， 透反射鏡15的口徑為$150mm，入射光闌17的口徑為0300mm，五棱鏡的口徑為 50mm。
結(jié)構(gòu)請參閱圖1，圖2，圖3，圖4。
需要確定的間距是入射平板l、出射平板2、第一反射平板3、第二反射平板4、 第三反射平板5和第四反射平板6的相對位置，如圖5所示。dl3=dl6=1425mm， d34=d56=685mm， d24=d25=641mm。間距選擇滿足dl3+d34+d24=dl6+d56+d25
即可，上述是一種特例，在此情況下，系統(tǒng)整體結(jié)構(gòu)近似方形。其它調(diào)試設(shè)備的位 置可以根據(jù)需要調(diào)整。
權(quán)利要求1、一種馬赫—曾德爾型剪切波面測量系統(tǒng)，特征在于包括由入射平板(1)、出射平板(2)、固定底座(23)、第一反射平板(3)、第二反射平板(4)、第三反射平板(5)、第四反射平板(6)、第一導(dǎo)軌(7)、第二導(dǎo)軌(8)、成像透鏡(9)、小孔(10)和CCD成像儀(11)構(gòu)成的干涉系統(tǒng)；提供精度保證的調(diào)整設(shè)備包括自準(zhǔn)直平行光管(12)、第一反射鏡(13)、激光準(zhǔn)直光源(14)、基準(zhǔn)透反射鏡(15)、第二反射鏡(16)、光闌(17)、第一五棱鏡(18)和第二五棱鏡(19)；控制處理系統(tǒng)包括壓電控制器(20、21)和計算機(jī)(22)處理系統(tǒng)；上述部件的位置關(guān)系如下入射平板(1)和出射平板(2)為透射反射平板，該入射平板(1)和出射平板(2)的基準(zhǔn)面嚴(yán)格平行地順列地固定在同一個底座(23)上，該底座(23)斜置地固定在一基板的中間偏上位置，所述的第一反射平板(3)固定在第一導(dǎo)軌(7)上，該第一導(dǎo)軌(7)置于所述的基板的右上部位，第一反射平板(3)的方向與所述的入射平板(1)平行，間距為d13，所述的第一反射平板(3)通過第一導(dǎo)軌(7)的調(diào)整可沿水平方向移動，所述的第二反射平板(4)的方向與所述的第一反射平板(3)垂直，間距為d34，所述的第二反射平板(4)到所述的出射平板(2)的間距為d24，所述的第三反射平板(5)和第四反射平板(6)互相垂直，中心的間距為d56，共同固定在第二導(dǎo)軌(8)上，該第二導(dǎo)軌(8)置于所述的基板的中下部位，且第四反射平板(6)的方向與所述的入射平板(1)平行，間距為d16，所述的第三反射平板(5)到所述的出射平板(2)的間距為d25，所述的第四反射平板(6)、出射平板(2)和第一反射平板(3)的方向相互平行且中心在一條直線上；在所述的基板上的下邊自左至右設(shè)置第一反射鏡(13)和自準(zhǔn)直平行光管(12)，在所述的基板上的左側(cè)自下至上設(shè)置激光準(zhǔn)直光源(14)和第二反射鏡(16)，在所述的基板上的上側(cè)自左至右依次是光闌(17)、第二反射鏡(16)、基準(zhǔn)透反射鏡(15)、入射平板(1)和第一反射平板(3)，在所述的基板上的上側(cè)和所述的出射平板(2)的出射方向設(shè)置所述的成像透鏡(9)、小孔(10)和CCD成像儀(11)，該CCD成像儀(11)的輸出端與計算機(jī)(22)相連；所述的第三反射平板(5)裝有所述的壓電控制機(jī)構(gòu)(20、21)，微動提供移相；沿待測光束入射方向依次是光闌(17)、第二反射鏡(16)、基準(zhǔn)透反射鏡(15)、入射平板(1)和第一反射平板(3)，該入射平板(1)將光束分為透射光束和反射光束，該反射光束經(jīng)由第四反射平板(6)、第三反射平板(5)至所述的出射平板(2)構(gòu)成第一光路，所述的透射光束經(jīng)第一反射平板(3)、第二反射平板(4)反射達(dá)到所述的出射平板(2)構(gòu)成第二光路，所述的第一光路與第二光路等光程；所述的第一反射平板(3)、第二反射平板(4)、第三反射平板(5)和第四反射平板(6)中有一塊反射平板的結(jié)構(gòu)是上下兩部分構(gòu)成的，上下部分可分別以垂直方向為軸，順時針和逆時針方向轉(zhuǎn)動角度，其他那三塊反射平板為整塊。
專利摘要一種馬赫—曾德爾型剪切波面測量系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括由入射平板、出射平板、固定底座、第一反射平板、第二反射平板、第三反射平板、第四反射平板、第一導(dǎo)軌、第二導(dǎo)軌、成像透鏡、小孔和CCD成像儀構(gòu)成的干涉系統(tǒng)；提供精度保證的調(diào)整設(shè)備包括自準(zhǔn)直平行光管、第一反射鏡、激光準(zhǔn)直光源、基準(zhǔn)透反射鏡、第二反射鏡、光闌、第一五棱鏡和第二五棱鏡；控制處理系統(tǒng)包括壓電控制器和計算機(jī)處理系統(tǒng)。本實用新型是一種適用于測量大口徑，衍射極限下的波面，特別是適用于短相干長度的光源波面，可以進(jìn)行移相處理，配有實時調(diào)整和標(biāo)定的完整系統(tǒng)。
文檔編號G01J9/02GK201251486SQ200820059890
公開日2009年6月3日 申請日期2008年6月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月18日
發(fā)明者劉立人, 竹 欒, 王利娟 申請人:中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所