專利名稱：帶阻尼結(jié)構(gòu)的鐵礦石低溫還原粉化試驗(yàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于鐵礦石還原技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種帶阻尼結(jié)構(gòu)的鐵礦石低溫還原粉 化的試驗(yàn)裝置，可以同時(shí)進(jìn)行三種鐵礦石試樣的還原試驗(yàn)，在保證試驗(yàn)效率的基礎(chǔ)上， 提高了還原管內(nèi)還原氣體分布的均勻性，達(dá)到均勻還原鐵礦石的目的。
背景技術(shù)：
在冶金工業(yè)目前使用的鐵礦石低溫還原粉化裝置是國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)IS04696-1984所制定 的裝置。試驗(yàn)基本原理是將一定粒度范圍的試樣，放在還原管內(nèi)的多孔板上，用由C0、 C02和N2組成的還原氣體進(jìn)行靜態(tài)還原1小時(shí)。國(guó)標(biāo)所制定的裝置的還原管管壁為雙層， 還原氣體將從其中間通過(guò)，還原管內(nèi)直徑為75mm。但由于這種裝置一次只進(jìn)行一種試 樣的還原試驗(yàn)，若試樣多則耗時(shí)較長(zhǎng)，試驗(yàn)效率低，而且由于環(huán)境、儀器和人為因素 每次試驗(yàn)的試驗(yàn)條件總有一些變化，很難控制一致，對(duì)做對(duì)比試驗(yàn)有一定的影響。因 此，專利200520112533. 5中將還原管形狀進(jìn)行優(yōu)化，由圓形改成3個(gè)扇形，優(yōu)化后的 裝置可以同時(shí)進(jìn)行三個(gè)試樣的還原試驗(yàn)，提高了試驗(yàn)效率，并有利于控制三個(gè)試樣的 試驗(yàn)條件的一致性。但是，優(yōu)化后的還原管內(nèi)的氣體分布不均勻，中心處的氣體速度 大，邊緣氣體速度小，達(dá)不到均勻還原的條件。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種改善鐵礦石低溫還原均勻性的試驗(yàn)裝置，改善了還原 管內(nèi)多孔板處氣體分布的均勻性，即能保證試驗(yàn)效率，又能達(dá)到均勻還原的鐵礦石。
本發(fā)明包括多孔板、扇形還原管、阻尼板，在扇形還原管中加一層阻尼板，阻尼 板位于距氣體入口 40 60mm左右，阻尼板形狀和多孔板一樣，均為扇形；阻尼板上的 開(kāi)孔，開(kāi)孔應(yīng)按照中心疏松，邊緣密集的原則開(kāi)4 7排，孔的位置與多孔板的孔位置 盡可能錯(cuò)開(kāi)布置。由于氣體從氣體入口進(jìn)入還原管時(shí)，是中心速度大，邊緣速度小， 因此孔的布置以中心開(kāi)孔疏松，邊緣開(kāi)孔密集為原則。
本發(fā)明的有益效果改善多孔板處氣體分布均勻性，將多孔板各孔氣體流量的標(biāo)準(zhǔn)偏差由無(wú)阻尼板的0.03025，降至0.02673。均勻性較國(guó)標(biāo)裝置(氣體流量標(biāo)準(zhǔn)偏差 為O. 02928)好。從圖3也可看出，加上阻尼板后，多孔板中間排的各孔氣體流量的波 動(dòng)較無(wú)阻尼板時(shí)小。
以下結(jié)合附圖
和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。
圖l是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，多孔板l、扇形還原管2、阻尼板3、氣體入
□ 4。
圖2是阻尼板的布置圖。5、 6、 7、 8、 9為5排小孔。 圖3有無(wú)阻尼板下，多孔板中間排的氣體流量曲線圖。
具體實(shí)施方式

圖l、圖2、圖3為本發(fā)明的一種具體實(shí)施方式
。
如圖l、圖2所示，在氣體入口與多孔板之間，距氣體入口 50mm處增加一層阻尼 板。由于未加阻尼板時(shí)中心速度大，邊緣速度小，因此阻尼板上孔的布置以中心開(kāi)孔 疏松，邊緣開(kāi)孔密集為原則。阻尼板上開(kāi)5排，共87個(gè)孔，孔直徑為3mm。
阻尼板上孔具體布置方式為編號(hào)5， 6間距為5mra;編號(hào)6， 7間距為9. 25mrn;編 號(hào)7， 8間距為9.25mm;編號(hào)8， 9間距為5誦。
編號(hào)5與6孔布置相同，都為17個(gè)孔，從中心孔分別向兩側(cè)以12°， 10°， 8°， 7°， 6。， 5°， 5°， 5'開(kāi)孔;編號(hào)7布置15個(gè)孔，從中心孔分別向兩側(cè)以12°， 11°， 10°, 8°， 7°， 6°， 4°開(kāi)孔；8與9孔布置相同，布19個(gè)孔，從中心孔分別向兩邊以12°， 10°， 8°， 7°， 6°， 4°， 4°， 3°， 3°開(kāi)孔。
加上阻尼板后，多孔板處氣體流量較均勻，標(biāo)準(zhǔn)偏差小，能達(dá)到均勻還原試樣。
權(quán)利要求1、一種帶阻尼結(jié)構(gòu)的鐵礦石低溫還原粉化試驗(yàn)裝置，其特征在于包括多孔板(1)、扇形還原管(2)、阻尼板(3)，在扇形還原管(2)中加一層阻尼板(3)，阻尼板形狀和多孔板一樣，均為扇形。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于阻尼板應(yīng)加在靠近氣 體入口的位置，距氣體入口 40 60腿處。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于阻尼板上的開(kāi)孔， 開(kāi)孔應(yīng)按照中心疏松，邊緣密集布置。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于阻尼板上的開(kāi)孔位置 應(yīng)和多孔板的孔位置錯(cuò)開(kāi)布置。
5、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于阻尼板上開(kāi)孔4 7排。
專利摘要一種帶阻尼結(jié)構(gòu)的鐵礦石低溫還原粉化試驗(yàn)裝置，屬于鐵礦石還原技術(shù)領(lǐng)域。該試驗(yàn)裝置包括多孔板、還原管、阻尼板等，在扇形還原管中加一層多排孔的阻尼板，阻尼板位于距氣體入口40～60mm處，阻尼板形狀和多孔板一樣，均為扇形；阻尼板上的開(kāi)孔應(yīng)按照中心疏松，邊緣密集的原則。優(yōu)點(diǎn)在于，可解決多區(qū)帶來(lái)的還原均勻性問(wèn)題，改善多孔板處氣體分布均勻性，多孔板各孔氣體流量的標(biāo)準(zhǔn)偏差較無(wú)阻尼結(jié)構(gòu)時(shí)的流量標(biāo)準(zhǔn)偏差降低11％以上，說(shuō)明還原均勻性有明顯提高。
文檔編號(hào)G01N31/00GK201222057SQ20082010851
公開(kāi)日2009年4月15日 申請(qǐng)日期2008年6月12日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月12日
發(fā)明者張利君, 朱啟建, 王鳳琴, 王衛(wèi)華, 薄鳳華, 青格勒 申請(qǐng)人:首鋼總公司