專利名稱：光學(xué)式異物檢測裝置以及搭載它的處理液涂布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及 一 種以光學(xué)方式對在被處理基板上附著有塵 埃等異物的狀態(tài)進(jìn)行檢測的檢測裝置、以及搭載該檢測裝置來
對上述^皮處理基纟反涂布處理液的例如狹^t涂布(slit coat)式處理 液涂布裝置。
背景技術(shù)：
例如在LCD制造技術(shù)領(lǐng)域中，執(zhí)行將形成在LCD基板上的 半導(dǎo)體層、絕緣體層以及電極層等選擇性地蝕刻為規(guī)定圖案的 工序。在這種情況下應(yīng)用如下的所謂光刻(lithography)技術(shù)在 上述LCD基板上涂布光致抗蝕(photo resist)液來形成抗蝕膜，與 電路圖案相對應(yīng)地對抗蝕膜進(jìn)行曝光，并對其進(jìn)行顯影處理。
在上述LCD基板上涂布光致抗蝕液的情況下，已知如下涂 布方法采用帶狀地噴出抗蝕液的抗蝕劑供給噴嘴，使方形LCD 基板沿與利用上述噴嘴噴出抗蝕液的噴出方向正交的方向相對 地進(jìn)行平行移動來進(jìn)行涂布，其中，上述抗蝕液是將感光性樹 脂溶解在溶劑中而成。在這種情況下，上述抗蝕劑供給噴嘴中 具備沿L C D基板的寬度方向延伸的具有微小間隔的狹縫狀的噴 出開口 ，將從該狹縫狀的噴出開口帶狀地噴出的抗蝕液供給到
基板的整個表面，從而形成抗蝕層。
根據(jù)該方法，能夠從上述基板的一邊到另 一邊帶狀地噴出 (供給)抗蝕液，因此能夠在整個基板上均勻且有效地形成抗蝕 層。關(guān)于這種狹縫涂布式的處理液涂布裝置，在本發(fā)明申請人 以前申請的例如下面所示的專利文獻(xiàn)1中示出。日本特開平10-156255號^^報另外，在上述結(jié)構(gòu)的處理液涂布裝置中，為了通過一次涂 布動作而得到均勻的膜厚，在從狹縫狀噴出開口噴出上述抗蝕 液的情況下，伴有 一 邊拉伸該膜厚 一 邊將該膜厚形成為均勻的 層狀的動作。為此，與膜厚相對應(yīng)地將用于噴出上述抗蝕液的
噴嘴和上述基板之間的間隙(氣隙(air gap))設(shè)定為極小，兩者例 如具有10 0 |a m左右的間隙而相對移動。
當(dāng)對基板涂布以上述抗蝕液為代表的處理液時，噴嘴和基 板具有上述微小間隔而相對移動，因此例如在塵埃等異物附著 在基板上的情況下，在該涂布動作過程中發(fā)生上述異物接觸到 上述噴嘴前端部的問題。另外，在異物存在于上述基板與載置 并保持該基板的載物臺(stage)之間的情況下，基板的 一部分變 形為山狀，因此伴隨著噴嘴與基板的相對移動，發(fā)生基板被強 力地壓在噴嘴前端部上的問題。
特別是如后者那樣，在異物存在于上述基板與載物臺之間 的情況下，基板破損是顯然的，還對噴嘴前端部造成損傷，在 涂布的處理液上產(chǎn)生所謂的條痕(筋引含)。為此，需要進(jìn)行上 述噴嘴的更換以及伴隨此更換的調(diào)節(jié)作業(yè)等，還發(fā)展為基板的 制造線不得不長時間停止運行的問題。
因此，本發(fā)明申請人提出了采用如下光學(xué)檢測單元的狹縫 涂布式涂布裝置，并將其公開在專利文獻(xiàn)2中，該光學(xué)^r測單元 通過向上述處理液噴嘴的相對前進(jìn)方向的前方沿水平方向投射 光束，能夠檢測出被處理基板上的異物或者由于該異物而上述 基板從載物臺隆起的異常狀態(tài)。日本特開2007-85960號7>才艮

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題采用光透過型傳感器單元并使用檢測單元，該光透過型傳感器 單元包括沿著載置在載物臺上的被處理基板的上表面而投射例 如激光等光束的光投射部以及接收上述光束的受光部(照相 機)，該檢測單元判斷上述光束的受光輸出和上述受光輸出的單 位時間的變化量(微分值)是否大于等于規(guī)定值。
如上所述，特別是根據(jù)利用受光輸出的微分值來檢測異物 的結(jié)構(gòu)，能夠提高異物檢測精確度，因此通過將該結(jié)構(gòu)采用于 專利文獻(xiàn)2中公開的狹縫涂布式涂布裝置中，從而能夠有助于提 高涂布裝置的運轉(zhuǎn)率。
然而，如上所述，即使利用激光等光束，在向空間投射光 的情況下，無法忽略因空氣密度的變化而產(chǎn)生的光折射的影響， 另外，受到因載置基板的載物臺和處理液供給噴嘴等的相對移 動而產(chǎn)生的微振動的影響，在異物檢測判斷中在提高其精確度 上存在限度等，在異物檢測判斷單元中還存在改進(jìn)的余地。
因此，本發(fā)明的課題在于提供 一 種如下的光學(xué)式異物檢測
裝置以及搭載該光學(xué)式異物檢測裝置的處理液涂布裝置在異 物的相對移動方向、換句話說在光透過型傳感器單元的相對移 動方向上分為多個區(qū)域來以光學(xué)方式進(jìn)行異物檢測，通過追溯 歷史記錄來統(tǒng)計數(shù)據(jù)，由此能夠提高對異物的反應(yīng)靈敏度且在 是否存在異物的判斷中能夠確保更高精確度。 用于解決問題的方案
為了解決上述課題而完成的本發(fā)明所涉及的優(yōu)選光學(xué)式 異物檢測裝置具備光透過型傳感器單元，其包括沿著載置在
收上述光束的受光部；以及相對移動單元，其通過使上述傳感 器單元相對于被處理基板進(jìn)行相對移動而使上述光束的光軸沿著被處理基板的上表面平行地進(jìn)行掃描，該光學(xué)式異物檢測裝
置的特征在于，具備第一單元，在沿著由上述相對移動單元 進(jìn)行的上述傳感器單元的相對移動方向設(shè)定有多個斥企查區(qū)域， 該第 一 單元按預(yù)先確定的每個采樣定時(sample timing)測量各 個上述檢查區(qū)域中的每個上述檢查區(qū)域的上述光束的受光量， 從而得到各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述受光量的信 息；第二單元，其分別運算由上述第一單元得到的各個上述檢 查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的受光量的信息、與以上述采樣定時 為單位的過去的同 一檢查區(qū)域的受光量的信息之間的差分，得 到各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述差分值；第三單元， 其從由上述第二單元得到的各個檢查區(qū)域中的每個才企查區(qū)域的 上述差分值中分別取出按照與上述傳感器單元的相對移動歷史 記錄相對應(yīng)的才企查區(qū)域順序依次錯開l個采樣定時的上述差分 值，并對所取出的各差分值進(jìn)行乘法運算；以及第四單元，其 根據(jù)由上述第三單元得到的乘法運算輸出的絕對值，判斷是否 存在異物。
另外，為了解決上迷課題而完成的本發(fā)明所涉及的其它優(yōu) 選的光學(xué)式異物檢測裝置具備光透過型傳感器單元，其包括 沿著載置在載物臺上的被處理基板的上表面而投射光束的光投 射部及接收上述光束的受光部；以及相對移動單元，其通過使 上述傳感器單元相對于被處理基板進(jìn)行相對移動而使上述光束 的光軸沿著被處理基板的上表面平行地進(jìn)行掃描，該光學(xué)式異 物檢測裝置的特征在于，具備第一單元，在沿著由上述相對 移動單元進(jìn)行的上述傳感器單元的相對移動方向設(shè)定有多個檢 查區(qū)域，該第一單元按預(yù)先確定的每個采樣定時測量各個上述 檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述光束的受光量，得到各個檢 查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述受光量的信息；第二單元，其分別運算由上述第一單元得到的各個上述檢查區(qū)域中的每個檢 查區(qū)域的受光量的信息、與以上述采樣定時為單位的過去的同 一檢查區(qū)域的受光量的信息之間的差分，得到各個檢查區(qū)域中
的每個檢查區(qū)域的上述差分值；第三單元，其從由上述第二單 元得到的各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述差分值中分別 取出按照與上述傳感器單元的相對移動歷史記錄相對應(yīng)的檢查 區(qū)域順序依次錯開l個采樣定時的上述差分值，并對所取出的各 差分值進(jìn)行加法運算；以及第四單元，其根據(jù)由上述第三單元 得到的加法運算輸出的絕對值，判斷是否存在異物。
在這種情況下，在上述第一單元中得到的上述受光量的信 息優(yōu)選使用以通過按每個上述采樣定時得到的上述光束的受光 量與參考值(reference value)的比較而得到的比例來表示的值。
此外，在本發(fā)明所涉及的光學(xué)式異物檢測裝置的優(yōu)選實施 方式中構(gòu)成為沿著上述傳感器單元的相對移動方向，設(shè)定有3 個或者4個檢查區(qū)域，并且作為以上述采樣定時為單位的過去的 同一檢查區(qū)域的受光量的信息，利用5個采樣定時之前的受光量 的信息。
另一方面，在本發(fā)明所涉及的處理液涂布裝置中具有如下 特征該處理液涂布裝置具備處理液供給噴嘴，該處理液供給 噴嘴與載置在載物臺上的被處理基板相面對地進(jìn)行相對移動， 通過向上述被處理基板噴出處理液，將處理液涂布到上述基板 的表面，該處理液涂布裝置通過在相對于上述被處理基板進(jìn)行 相對移動的處理液供給噴嘴的移動方向的前方搭載上述光學(xué)式 異物檢測裝置，利用處理液供給噴嘴來作為上述相對移動單元。
在這種情況下，在上述處理液供給噴嘴中具備沿上述基板 的寬度方向延伸的狹縫狀噴出開口 ，并構(gòu)成為辨從處理液供給 噴嘴的上述狹縫狀噴出開口帶狀地噴出的處理液涂布到上述基板的表面上，并將上述傳感器單元配置成平行于上述狹縫狀噴 出開口的長度方向且沿著上述基板且緊貼著上述基板投射上述 光束。
并且，在優(yōu)選實施方式中，構(gòu)成為在由上述光學(xué)式異物 檢測裝置檢測到存在異物的情況下，停止處理液供給噴嘴相對 于上述基板的相對移動。
發(fā)明的效果
根據(jù)上述光學(xué)式異物檢測裝置，沿著光透過型傳感器單元 的相對移動方向設(shè)定有多個4全查區(qū)域，運算出由上述傳感器單 元得到的每個檢查區(qū)域中的受光量的信息與以采樣定時為單位 的過去的同 一 檢查區(qū)域的受光量的信息之間的差分，即運算出 與單位時間的受光量的變化相當(dāng)?shù)奈⒎种怠?br> 此外，從各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述差分值(微 分值)中，取出按照與上述傳感器單元的相對移動歷史記錄相對 應(yīng)的檢查區(qū)域順序依次錯開l個采樣定時的差分值。并且，在第 一優(yōu)選方式中，對上述的依次錯開一個采樣定時的差分值進(jìn)行 乘法運算。另外，在第二優(yōu)選方式中，對上述的依次錯開一個 采樣定時的差分值進(jìn)行加法運算。
由此，即使在一個檢查區(qū)域中的異物檢查中產(chǎn)生誤差，也 通過其它檢查區(qū)域中的檢查數(shù)據(jù)(微分值)的乘法運算或者加法 運算，能夠可靠地檢測出異物的存在。因而，能夠提供一種能 夠顯著提高對異物的反應(yīng)靈敏度且能夠確保高精確度地判斷是
否存在異物的異物檢測裝置。
并且，根據(jù)將上述異物檢測裝置搭載在處理液供給噴嘴上 的處理液涂布裝置，按照處理液供給噴嘴相對于處理基板的移 動，能夠高靈敏度地檢測該移動方向的前方的基板上的異物。 基于該檢測，進(jìn)行控制使得停止處理液供給噴嘴相對于上述基板的相對移動，由此能夠解決對基板以及處理液供給噴嘴造成 損傷的問題。


圖l是表示本發(fā)明所涉及的處理液涂布裝置的實施方式的 截面圖。
圖2是從圖l中的A-A觀察的狀態(tài)的截面圖。
圖3是說明搭載在圖1以及圖2所示的處理液涂布裝置上的
光透過型傳感器單元的作用的示意圖。
圖4是說明本發(fā)明所涉及的光學(xué)式異物檢測裝置的基本方
式的示意圖。
圖5是說明用于判斷是否存在異物的處理運算的表。
圖6是說明根據(jù)圖5所示表所得到的異物檢測狀況的曲線圖。
圖7是用于說明搭載異物檢測裝置的處理液涂布裝置的整 體結(jié)構(gòu)的框圖。
圖8是用于說明上述處理液涂布裝置的動作的流程圖。 附圖標(biāo)記說明
1:被處理基板(玻璃基板)；la:基板隆起部；2:載置臺(載 物臺)；3:異物；4:光軸(光束)；5:光投射部；6:受光部(照 相機)；11:處理液供給噴嘴；lla:處理液供給口； lib:處理 液噴出開口； R:處理液。
具體實施例方式
下面，對本發(fā)明所涉及的光學(xué)式異物檢測裝置和搭載它的 處理液涂布裝置進(jìn)行說明。首先對處理液涂布裝置的整體結(jié)構(gòu) 進(jìn)行說明，然后對搭載在上述涂布裝置上的光學(xué)式異物檢測裝置的詳細(xì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行i兌明。
圖l和圖2是相互以截面圖來示出處理液涂布裝置的主要
部分的圖。即，圖1是以從圖2中的B-B線向箭頭方向觀察的狀 態(tài)的截面圖來示出，另外，圖2是以從圖l中的A-A線向箭頭方 向觀察的狀態(tài)的截面圖來示出。
在圖l和圖2中，附圖標(biāo)記l表示作為被處理基板的例如方 形玻璃基板，附圖標(biāo)記2表示以水平狀態(tài)載置上述玻璃基板1并 例如通過負(fù)壓將該玻璃基板1吸著保持的載置臺(載物臺)。附圖 標(biāo)記ll表示處理液供給噴嘴，該噴嘴ll的外觀形成為大致長方 體狀，在該噴嘴ll的上端部形成有處理液供給口 lla,并且在其 下端部形成有狹縫狀的處理液噴出開口 llb。
在圖l和圖2所示的實施方式中構(gòu)成為處理液供給噴嘴ll 處于固定狀態(tài)，以水平狀態(tài)載置玻璃基板1的載物臺2向圖1中用 空心箭頭C表示的方向進(jìn)行移動。并且，在上述噴嘴ll的前端 部(圖中所示的下端部)和玻璃基板l之間保持大約100jLim左右 的間隔而載物臺2進(jìn)行移動，通過從噴嘴ll的狹縫狀開口 llb線 狀地噴出處理液R,,人而在玻璃基々反1上帶狀地涂布處理液R。
在上述處理液供給噴嘴11的相對移動方向的前方的側(cè)壁 上安裝有保持構(gòu)件12。該保持構(gòu)件12是由比上述噴嘴11中的狹 縫狀開口 Ub的長度方向尺寸還長的尺寸的例如柱狀構(gòu)件所形 成。并且，光投射部5和受光部6分別相向地安裝在保持構(gòu)件12 的兩端部上，由此構(gòu)成光透過型傳感器單元。
如圖2所示，上述光投射部5和受光部6以如下方式安裝在 上述保持構(gòu)件12上連接上述光投射部5和受光部6的直線、即 光軸(光束)4與處理液供給噴嘴1中的狹縫狀噴出開口 llb的長 度方向平行，并且上述光投射部5和受光部6位于上述噴嘴11的 相對移動方向的前方。作為由上迷光投射部5投射的光束4，例如使用具有670nm 左右波長的激光束。并且，上述光束4的光軸被設(shè)定成沿著基板 l的上表面平行，即在本實施方式中設(shè)定成通過離基板l的上表 面約50iam的位置，上述光束4伴隨著基板1的水平移動，沿著基 板l的上表面進(jìn)行掃描。
圖3是上述圖l以及圖2所示結(jié)構(gòu)中的特別是說明光學(xué)式異 物檢測裝置的基本作用的圖。即，圖3的(A)表示在以水平狀態(tài) 載置在載物臺2上的玻璃基板1上附著有異物3的狀態(tài)，另外圖3 的(B)示意性地表示在玻璃基板1與載物臺2之間存在異物3而基 板1的 一部分如附圖標(biāo)記la所示那樣處于隆起狀態(tài)的例子。
并且，上迷狹縫狀噴出開口 11b是其長度方向沿圖3所示的 紙面左右方向配置的狀態(tài)。在這種情況下，處理液供給噴嘴與 上述基玲反l之間的間隙如前所述那樣為100pm左右，上述光束4 被調(diào)節(jié)成沿著基板l的上表面，通過離該基板l的上表面約50fam 的位置。
在圖3的(A)所示的狀態(tài)下，從光投射部5投射的激光束受到 附著在基板1的上表面的異物3的影響而被遮斷或者由受光部6 接收的受光量下降。另外，在圖3的(B)所示的狀態(tài)下，從光投 射部5投射的激光束受到基板隆起部la的影響，同樣地，激光束 被遮斷或者由受光部6接收的受光量下降。利用該作用，對上述 受光量進(jìn)行在后面詳細(xì)說明的運算處理，從而能夠高精確度地 判斷是否存在異物3。
圖4是說明搭載在上述涂布裝置上的光學(xué)式異物檢測裝置 的基本方式的圖。在該異物檢測裝置中沿著由上述光投射部5 和受光部6構(gòu)成的光傳感器單元的相對移動方向，設(shè)定有多個檢 查區(qū)域。即，在圖4所示的例子中，設(shè)定有區(qū)域1 區(qū)域4的四個 檢查區(qū)域。并且，圖4中例示了在基板的一部分上附著有異物3的情況，伴隨著光傳感器單元的相對移動，上述異物3從區(qū)域1 向區(qū)域4移動。
在此，上述載物臺2和基板1以等速進(jìn)行水平移動，其速度 例如為100mm/sec左右。并且，上述光傳感器單元纟安預(yù)先確定 的每個釆樣定時(作為 一 個例子為100msec)對上述各檢查區(qū)域 的每個檢查區(qū)域的上述光束的受光量進(jìn)行測量，從而得到各個 檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述受光量的信息。
在這種情況下，構(gòu)成光傳感器單元的上述受光部6中，例 如使用由CCD構(gòu)成的光電轉(zhuǎn)換元件，由該光電轉(zhuǎn)換元件得到的 受光信號被設(shè)為以通過該受光信號與參考值的比較而得到的比 例、即"％，，(百分比)表示的值，其中，該參考值是在開始基板處 理時預(yù)先得到的受光信號。
圖5示出其一例，示出了摘錄出存在異物3的部分中的一部 分實際數(shù)據(jù)的例子。即，t0011 t0028表示所摘錄的采樣定時， 其作為一個例子，與上述的情況相同，設(shè)為10msec間隔。并且， 按每個采樣定時獲取檢查區(qū)域1 4中的受光量，如上所述，將 該受光量以通過與上述參考值的比較所得到的"％"值的形式寫 入到存儲器中(第一單元)。
例如，圖5所示的采樣定時"t0017"的區(qū)域1的數(shù)值S1表示為 "51.45114"，這表示是上述參考值的約一半的受光量。并且， 接著示出的采樣定時"t0018"的區(qū)域2的數(shù)值S2表示為 "56.13845",示出通過上述相對移動而異物3存在于區(qū)域2中。
上述狀況在下一個采樣定時"t0019，，的區(qū)域3的數(shù)值S3中也 出現(xiàn)，再下一個采樣定時"t0020"的區(qū)域4的數(shù)值S4中也同樣出 現(xiàn)。
上述每個采樣定時的各區(qū)域中的數(shù)值S1 S4可以說是表示 每個才全查區(qū)域中的受光量的信息。因此，在本實施方式中，分別運算出各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的受光量的信息與以 上述采樣定時為單位的同 一檢查區(qū)域的過去的受光量的信息之 間的差分。即，運算出與單位時間的受光量變化相當(dāng)?shù)奈⒎种怠?br> 為了得到上述微分值，在本實施方式中，利用5個采樣定
時前的同一檢查區(qū)域的受光量的信息。即，在上述采樣定時
"t0017"獲取了區(qū)域1的數(shù)值S1的情況下，計算與作為比該采樣 定時"t0017"提前5個采樣定時的"t0012"的同一#r查區(qū)域的區(qū)域 1的數(shù)值S1、即"75.81424"之間的差分，寫入該差分值"-24.3631" 來作為區(qū)域l的微分值。
通過同樣的步驟，依次得到區(qū)域2 4的各數(shù)值S2 S4，與此 同時依次進(jìn)行與各自的5個采樣定時前的同 一檢查區(qū)域的受光 量的信息之間的比較，并分別作為區(qū)域1 4的微分值來寫入(第 二單元)。
此外，在本實施方式中在得到上述各微分值時，進(jìn)行與5 個采樣定時前的同 一檢查區(qū)域的受光量的信息之間的比較(差 分檢測)，但是原理上也可以是1個采樣定時前或者2個采樣定時 前。但是，當(dāng)與很近的數(shù)據(jù)進(jìn)行比較時，存在因異物3的大小、 上述相對速度、采樣時間間隔等參數(shù)而難以將其變化率(微分值〕 取大的情況。因而，關(guān)于與幾個采樣定時前的受光量的信息之 間進(jìn)行比較，需要根據(jù)上述參數(shù)來進(jìn)行調(diào)節(jié)(t u n i n g)。
在本發(fā)明所涉及的光學(xué)式異物檢測裝置的優(yōu)選的第 一 實 施方式(記載在第一優(yōu)選方式)中，當(dāng)通過上述步驟得到區(qū)域1 4 的各微分值時，分別取出按照與上述傳感器單元的相對移動歷 史記錄相對應(yīng)的檢查區(qū)域順序依次錯開l個采樣定時的上述差 分值(微分值)，對所取出的四個差分值進(jìn)行乘法運算。例如， 在采樣定時"t0020"獲取了區(qū)域4的數(shù)值S4的情況下，作為區(qū)域4 的微分值能夠得到其微分值("-21.5195")。在得到該微分值的情況下，進(jìn)行"運算1 (乘法運算)=區(qū)域4
的微分值x區(qū)域3的1個采樣定時前的微分值x區(qū)域2的2個采樣 定時前的微分值x區(qū)域l的3個采樣定時前的微分值"的運算。即， 通過對圖5中用粗斜箭頭表示的四個微分值進(jìn)行乘法運算，作為 一個例子，在采樣定時"t0020"上作為其運算值能夠得到 "703962.4994，，(第三單元》
此外，圖6是使用基板上存在異物3的部分的圖5所示的實 際數(shù)據(jù)來描繪的曲線圖，a是基于該第一實施方式的特性曲線 圖。另外，c示出例如只使用區(qū)域l的微分值的特性，換言之是 上述的現(xiàn)有技術(shù)的特性，d示出受光量的單純變化特性。
根據(jù)圖6所示的曲線圖可知，參照通過上述"運算l(乘法運
算)"所得到的乘法運算輸出的絕對值，并將該絕對值與預(yù)先確 定的閾值進(jìn)行比較，由此能夠判斷是否存在異物(第四單元)。 即，在圖6所示出的特性曲線a所表示的例子中，在通過上述"運 算1 (乘法運算)"所得到的數(shù)值超過例如設(shè)定為±200左右的閾值 的情況下，能夠判斷為存在異物3。
根據(jù)本實施方式的光學(xué)式異物檢測裝置，例如沿著異物的 相對移動歷史記錄，對與各檢查區(qū)域相對應(yīng)的微分值進(jìn)行乘法 運算。因而，即使在一個檢查區(qū)域中異物的檢測產(chǎn)生誤差，也 能夠通過其它檢查區(qū)域中的檢查數(shù)據(jù)(微分值)的乘法運算來可 靠地檢測出異物的存在，從而能夠顯著提高對異物的反應(yīng)靈敏 度。
另外，在以上說明的光學(xué)式異物檢測裝置的第 一 實施方式 中，對按照與上述傳感器單元的相對移動歷史記錄相對應(yīng)的檢 查區(qū)域順序依次錯開 一 個采樣定時的差分值(微分值)進(jìn)行乘法 運算，但是通過對上述差分值分別進(jìn)行加法運算也能夠得到同 樣的作用效果。下面說明本發(fā)明所涉及的光學(xué)式異物檢測裝置的第二實 施方式(記載在第二優(yōu)選方式)。即，在第二實施方式中，當(dāng)通
過上述第二單元得到區(qū)域1 4的各微分值時，分別取出按照與 上述傳感器單元的相對移動歷史記錄相對應(yīng)的4企查區(qū)域順序依 次錯開 一個采樣定時的上述差分值(微分值)，進(jìn)行對該四個差 分值進(jìn)行加法運算的運算。
即，進(jìn)行"運算2(加法運算)=區(qū)域4的微分值+區(qū)域3的l個采 樣定時前的微分值+區(qū)域2的2個采樣定時前的微分值+區(qū)域1的 3個采樣定時前的微分值，，的運算。這點能夠通過對圖5中用粗斜 箭頭表示的四個微分值進(jìn)行加法運算來實現(xiàn)，作為 一個例子， 在采樣定時"t0020，，上作為其加法運算值得到"-120.456"(第三 單元)。
在圖6中，b表示基于通過執(zhí)行上述"運算2(加法運算)"所得 到的數(shù)據(jù)的特性曲線。根據(jù)圖6所示曲線b可知，參照通過上述 "運算2 (加法運算)"所得到的輸出的絕對值，并將該絕對值與預(yù) 先確定的閾值進(jìn)行比較，由此能夠判斷是否存在異物(第四單 元)。即，在圖6中以曲線b示出的例子中，在通過上述"運算2(加 法運算)"所得到的數(shù)值超過例如設(shè)定為±30 40左右的閾值的情 況下，能夠判斷為存在異物3。
在基于該第二實施方式的光學(xué)式異物檢測裝置中，也沿著 異物的相對移動歷史記錄，對與各檢查區(qū)域相對應(yīng)的微分值進(jìn) 行加法運算。因而，例如，即使在一個檢查區(qū)域中異物的檢測 產(chǎn)生誤差，也能夠通過其它檢查區(qū)域中的檢查數(shù)據(jù)(微分值)的 加法運算來可靠地檢測出異物的存在，與現(xiàn)有方法相比能夠顯 著提高對異物的反應(yīng)靈敏度。
圖7和圖8是說明搭載了上述第 一或者第二異物檢測裝置 的處理液涂布裝置的動作的框圖以及流程圖。在該處理液涂布裝置中，如圖7所示，例如具備作為控制單元而發(fā)揮功能的上位裝置21，該控制單元例如具備CPU。當(dāng)通過來自該上位裝置21的指令首先進(jìn)行參考值請求時，如圖8的步驟S11 S13所示，執(zhí)行獲取參考值的動作。
其中，如圖8的步驟S11所示，在載物臺上輸送基板，在步驟S12中判斷為存在獲取參考值的請求的情況下，如步驟S13所示，執(zhí)行獲取參考值的動作。
在該獲取參考值的動作中，由圖7所示的構(gòu)成傳感器單元的受光部6得到的圖像信號在圖像/受光量轉(zhuǎn)換單元2 2中被轉(zhuǎn)換為受光信號。該受光信號在各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的受光量運算單元23中被識別為各個區(qū)域中的每個區(qū)域的參考值，上述每個區(qū)域的參考值分別被寫入到實現(xiàn)數(shù)據(jù)管理功能的存儲器24中。
接著，如圖8的步驟S14所示，判斷是否存在檢查請求，當(dāng)判斷為存在檢查請求時，執(zhí)行步驟S15所示的檢查、即異物檢測動作。其中，如圖7所示，為了檢測異物，由受光部6得到的圖像信號在圖像/受光量轉(zhuǎn)換單元22中被轉(zhuǎn)換為受光信號，并提供給每個檢查區(qū)域的受光量運算單元23。
然后，在上述運算單元23中，由管理上述參考值的存儲器24接收參考值，得到通過與該參考值的比較而得到的比例、即以上述"Q/。"(百分比)表示的上述受光量的信息S1 S4，并且將該值寫入到存儲器24中。并且，上述值(S1 S4)提供給區(qū)域內(nèi)歷史記錄差分運算單元25。
上述差分運算單元25運算最新的上述值(S1 S4)、和同一檢查區(qū)域的過去(5個采樣定時前)的受光量的信息之間的差分，由此所得到的各個區(qū)域中的每個區(qū)域的差分(微分值Dt— 1 Dt一4)被寫入到存儲器26中。如根據(jù)圖5所說明的那樣，關(guān)于寫入到上述存儲器26中的數(shù)據(jù)(微分值Dt一l Dt—4),進(jìn)行對依次錯開l個采樣定時的四個差分值進(jìn)行乘法運算(第 一實施方式)或者加法運算(第二實施方式)的運算，該乘法運算或者加法運算值被提
供給比較器27。
對上述比較器27提供成為發(fā)出警報的基準(zhǔn)的來自閾值設(shè)定單元28的閾值，比較器27在得到大于上述閾值的乘法運算值或者加法運算值的情況下，對上述上位裝置21發(fā)出警報。
在圖8所示的上述檢查步驟S15的執(zhí)行過程中，如步驟S16所示，監(jiān)視警報的發(fā)生，如果未發(fā)生警報而如步驟S17所示那樣對基板整個面的異物檢測的檢查結(jié)束，則該異物檢測的例程結(jié)束。
另一方面，在繼續(xù)檢測的過程中，在步驟S16中判斷為有警報的情況下，圖7所示的上位裝置21接收該警報，如步驟S18所示那樣停止輸送基板，并且如步驟S19所示那樣停止從噴嘴ll噴出處理液R,執(zhí)行使噴嘴ll上升的動作。
此外，在以上所說明的實施方式中，載置了被處理基板l的載物臺2進(jìn)行水平移動，而處理液供給噴嘴11以及包括光投射部5和受光部6的傳感器單元處于固定狀態(tài)，但是與此相反，即
給噴嘴11以及包括光投射部5和受光部6的傳感器單元在被處理基板上進(jìn)行移動，也能夠得到同樣的作用效果。
另外，在以上所說明的光學(xué)式異物檢測裝置中，沿著上述傳感器單元的相對移動方向設(shè)定有四個檢查區(qū)域，但是該數(shù)量并不限定于四個，能夠適當(dāng)設(shè)定多個4企查區(qū)域。即，檢查區(qū)域數(shù)量越多，越能夠提高對異物的反應(yīng)靈敏度，但是運算中需要更多時間。因而，根據(jù)對異物的反應(yīng)靈敏度、允許的運算時間之間的關(guān)系來確定才企查區(qū)域的數(shù)量，根據(jù)上述理由，上述檢查區(qū)域的數(shù)量最好設(shè)定為3 ~ 4個。產(chǎn)業(yè)上的實用性
本發(fā)明所涉及的處理液涂布裝置，不限于上面所說明的對LCD基板例如涂布抗蝕液時的涂布裝置，還能夠適于在半導(dǎo)體晶片、印刷基板、其它電子設(shè)備的制造領(lǐng)域、或者在其它領(lǐng)域中所采用的狹縫涂布式涂布裝置等中采用。另外，本發(fā)明所涉及的光學(xué)式異物檢測裝置不僅能夠在上述處理液涂布裝置中采用，還能夠適于在特別是需要監(jiān)視平面狀基板面的自動機械等中采用。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)式異物檢測裝置，具備光透過型傳感器單元，其包括沿著載置在載物臺上的被處理基板的上表面而投射光束的光投射部以及接收上述光束的受光部；以及相對移動單元，其通過使上述傳感器單元相對于被處理基板進(jìn)行相對移動而使上述光束的光軸沿著被處理基板的上表面平行地進(jìn)行掃描，該光學(xué)式異物檢測裝置的特征在于，具備第一單元，在沿著由上述相對移動單元進(jìn)行的上述傳感器單元的相對移動方向設(shè)定有多個檢查區(qū)域，該第一單元按預(yù)先確定的每個采樣定時測量各個上述檢查區(qū)域中的每個上述檢查區(qū)域的上述光束的受光量，從而得到各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述受光量的信息；第二單元，其分別運算由上述第一單元得到的各個上述檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的受光量的信息、與以上述采樣定時為單位的過去的同一檢查區(qū)域的受光量的信息之間的差分，得到各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述差分值；第三單元，其從由上述第二單元得到的各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述差分值中分別取出按照與上述傳感器單元的相對移動歷史記錄相對應(yīng)的檢查區(qū)域順序依次錯開1個采樣定時的上述差分值，并對所取出的各差分值進(jìn)行乘法運算；以及第四單元，其根據(jù)由上述第三單元得到的乘法運算輸出的絕對值，判斷是否存在異物。
2. —種光學(xué)式異物檢測裝置，具備光透過型傳感器單元， 其包括沿著載置在載物臺上的被處理基板的上表面而投射光束 的光投射部及接收上述光束的受光部；以及相對移動單元，其 通過使上述傳感器單元相對于被處理基板進(jìn)行相對移動而使上 述光束的光軸沿著凈皮處理基板的上表面平行地進(jìn)行掃描，該光學(xué)式異物檢測裝置的特征在于，具備第一單元，在沿著由上述相對移動單元進(jìn)行的上述傳感器 單元的相對移動方向設(shè)定有多個檢查區(qū)域，該第 一單元按預(yù)先 確定的每個采樣定時測量各個上述檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域 的上述光束的受光量，得到各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述受光量的信息；第二單元，其分別運算由上述第一單元得到的各個上述檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的受光量的信息、與以上述采樣定時 為單位的過去的同 一檢查區(qū)域的受光量的信息之間的差分，得 到各個檢查區(qū)域中的每個檢查區(qū)域的上述差分值；第三單元，其從由上述第二單元得到的各個檢查區(qū)域中的 每個檢查區(qū)域的上述差分值中分別取出按照與上述傳感器單元 的相對移動歷史記錄相對應(yīng)的4全查區(qū)域順序依次錯開l個采樣 定時的上述差分值，并對所取出的各差分值進(jìn)行加法運算；以 及第四單元，其根據(jù)由上述第三單元得到的加法運算輸出的絕對值，判斷是否存在異物。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)式異物檢測裝置，其特征在于，在上述第一單元中得到的上述受光量的信息是以通過按每 個上述采樣定時得到的上述光束的受光量與參考值的比較而得 到的比例來表示的值。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)式異物檢測裝置，其特征 在于，沿著上述傳感器單元的相對移動方向，設(shè)定有3個或者4個 檢查區(qū)域。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)式異物檢測裝置，其特征在于，作為以上述采樣定時為單位的過去的同 一檢查區(qū)域的受光量的信息，利用5個采樣定時之前的受光量的信息。
6. —種處理液涂布裝置，其特征在于， 具備處理液供給噴嘴，該處理液供給噴嘴與載置在載物臺上的#皮處理基4反相面對地進(jìn)行相對移動，通過向上述纟皮處理基 板噴出處理液，將處理液涂布到上述基板的表面，該處理液涂布裝置通過在相對于上述被處理基板進(jìn)行相對 移動的處理液供給噴嘴的移動方向的前方搭載權(quán)利要求1或2所 述的光學(xué)式異物檢測裝置，利用上述處理液供給噴嘴來作為上 述相對移動單元。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的處理液涂布裝置，其特征在于， 在上述處理液供給噴嘴中具備沿上述基板的寬度方向延伸的狹縫狀噴出開口 ，并構(gòu)成為將從處理液供給噴嘴的上述狹縫 狀噴出開口帶狀地噴出的處理液涂布到上述基板的表面上，并 將上述傳感器單元配置成平行于上述狹縫狀噴出開口的長度方 向且沿著上述基板且緊貼著上述基板投射上述光束。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的處理液涂布裝置，其特征在于， 構(gòu)成為在由上述光學(xué)式異物檢測裝置檢測到存在異物的情況下，停止處理液供給噴嘴相對于上述基板的相對移動。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠高靈敏度地檢測異物的光學(xué)式異物檢測裝置以及搭載它的處理液涂布裝置。構(gòu)成為使以水平狀態(tài)載置在載物臺(2)上的被處理基板(1)和具有沿上述基板(1)的寬度方向延伸的狹縫狀噴出開口(11b)的處理液供給噴嘴(11)相對地移動，從而將從處理液供給噴嘴(11)帶狀地噴出的處理液涂布到基板(1)的表面。在上述處理液供給噴嘴(11)的相對移動方向的前方搭載有由光投射部(5)和受光部(6)構(gòu)成的光透過型傳感器單元。提供一種光學(xué)式異物檢測裝置，在沿著上述傳感器單元的相對移動方向設(shè)定有多個檢查區(qū)域，通過追溯異物的移動方向的歷史記錄而對由傳感器單元得到的受光數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計，來提高對異物的反應(yīng)靈敏度。
文檔編號G01N21/88GK101685070SQ200910176670
公開日2010年3月31日 申請日期2009年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月24日
發(fā)明者中滿孝志, 大塚慶崇, 高木貴生 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社