專利名稱：基板支撐臺(tái)和具有基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè) 備。更明確地說(shuō)，本發(fā)明涉及一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái) 的基板檢查設(shè)備，其可通過(guò)改進(jìn)檢查效率和減少生產(chǎn)時(shí)間(tact time)的 量來(lái)改進(jìn)生產(chǎn)率，且通過(guò)防止需要不必要的外圍裝置，并通過(guò)使用單個(gè)檢 查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕4企查(dent inspection)和裂縫檢查(crack inspect ion )來(lái)減小工作空間和各種損失。
背景技術(shù)：
基板是圖像顯示裝置的組件?；灏雽?dǎo)體基板和平板顯示器(Flat Panel Display, FPD )基板。FPD基板包含液晶顯示器(Liquid Crystal Display, LCD)基板、等離子顯示面板(Plasma Display Panel, PDP )基 板、有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode, 0LED)基板和類 似物。
LCD基板將被描述為FPD基板的實(shí)例。LCD的一般制造工藝分成TFT工 藝、單元工藝和模塊工藝。在所述工藝中，模塊工藝是將各種電子組件附 接到LCD基板以組裝產(chǎn)品且將用于驅(qū)動(dòng)LCD基板的驅(qū)動(dòng)器IC附接到所述LCD 基板的工藝。
為了執(zhí)行此工藝，已在相關(guān)技術(shù)中使用了直接將驅(qū)動(dòng)器IC的引線安裝 到LCD基板的技術(shù)。
然而，因?yàn)樽罱阎圃炝司哂懈叻直媛实腖CD產(chǎn)品，所以難以將具有 大量引線的驅(qū)動(dòng)器IC安裝到LCD基板，且因此通常使用TAB( Tape Automated Bonding,巻帶式自動(dòng)接合)作為一種安裝技術(shù)。
具體地說(shuō)，作為一種類型的帶載封裝(tape carrier package, TCP) 的TAB是通過(guò)中間形成有圖案的帶而不是引線框來(lái)將驅(qū)動(dòng)器IC接合(下文 用作"壓縮"和"附接")到LCD基板的封裝技術(shù)。然而，TAB還表示壓縮 地附接到LCD基板的對(duì)應(yīng)位置以便在LCD基板中形成信號(hào)線的帶或所述帶 的整個(gè)區(qū)域。在下文的描述中，后者被稱為"TAB"。
在將TAB附接到LCD基板之前，通常首先在LCD基板中使用各向異性 導(dǎo)電膜(anisotropic conductive film, ACF )。各向異性導(dǎo)電膜具有類似
4于雙面帶(two-sided tape)的結(jié)構(gòu)，其中將通過(guò)熱量而石更化的粘合劑與 微小的導(dǎo)電球彼此混合。此各向異性導(dǎo)電膜是通常在安裝工藝中使用的材料。
如果各向異性導(dǎo)電膜在對(duì)應(yīng)位置處接合到LCD基板，那么TAB會(huì)附接 到各向異性導(dǎo)電膜的表面。此時(shí)，TAB的電極圖案和LCD基板的電極圖案需 要準(zhǔn)確地彼此附接。用于使LCD基板和TAB具有導(dǎo)電性的導(dǎo)電球也需要準(zhǔn) 確地定位。
如果將各向異性導(dǎo)電膜和TAB附接到LCD基板，那么在高溫狀態(tài)下將 足夠的壓力施加到LCD基板和TAB,使得LCD基板和TAB的電路圖案的襯墊 彼此接觸。此時(shí)，當(dāng)各向異性導(dǎo)電膜中接觸部分處的導(dǎo)電球被毀壞時(shí)，電 流在兩個(gè)襯墊之間流動(dòng)，且剩余的粘合劑填充在不平坦的表面而不是兩個(gè) 襯墊中，并在其中硬化。以此方式，TAB附接工藝完成。
在TAB附接工藝完成之后，對(duì)LCD基板執(zhí)行各種檢查。舉例來(lái)說(shuō)，執(zhí) 行凹痕檢查以檢查TAB的電極圖案是否準(zhǔn)確地附接到LCD基板的電極圖案， 且導(dǎo)電球的形狀和位置是否為優(yōu)選，且執(zhí)行裂縫檢查以檢查在壓縮TAB時(shí)， LCD基板中是否出現(xiàn)裂縫。
按照慣例，凹痕檢查和裂縫檢查分別由凹痕檢查設(shè)備和裂縫檢查設(shè)備 執(zhí)行。凹痕纟企查和裂縫;險(xiǎn)查具有類似的結(jié)構(gòu)，在于凹痕和裂縫均在TAB區(qū) i或中被沖企查。
首先，將描述常規(guī)的凹痕檢查設(shè)備。
圖1是說(shuō)明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備的示意性透視圖。
參看圖1,根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1包含面陣相機(jī)(area camera) 10，其對(duì)凹痕才企查區(qū)域進(jìn)行照相；和臺(tái)20，上面安裝有FPD基板 5。在FPD基板5中，TAB 7a和7b附接到短邊7a和長(zhǎng)邊7b。
面陣相機(jī)10固定到凹痕檢查設(shè)備1中的相機(jī)固定件(camera fixing die ) 50，并對(duì)附接有TAB 7a和7b的FPD基板5的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。 面陣相機(jī)10具有自動(dòng)對(duì)焦功能，且每當(dāng)臺(tái)20在TAB 7a與7b的間隔處移 動(dòng)時(shí)，可通過(guò)自動(dòng)對(duì)焦對(duì)凹痕檢查區(qū)域的凹痕圖像進(jìn)行精密的照相和檢查。 出于此目的，面陣相機(jī)19相對(duì)于FPD基板5的板表面方向(如由箭頭Z所 示)而垂直上升和下降。
在面陣相機(jī)10上方提供臺(tái)20，且成為凹痕;f全查目標(biāo)的FPD基板5穩(wěn)定 地安裝在臺(tái)20的頂面上。穩(wěn)定地安裝有FPD基板5的臺(tái)20借助單獨(dú)的驅(qū) 動(dòng)單元(未圖示)而在如箭頭所示的二維方向(X和Y方向)上移動(dòng)，且將 FPD基^反5定位在固定面陣相才幾10上方。
具有上文所述的結(jié)構(gòu)的凹痕檢查設(shè)備1對(duì)成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基 板5執(zhí)行凹痕檢查。 一般來(lái)說(shuō)，凹痕檢查設(shè)備1針對(duì)附接到FPD基板5的短邊的TAB 7a的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查，且接著針對(duì)附接到長(zhǎng)邊的TAB 7b的 區(qū)域才丸4亍凹痕纟企查。
首先，為了^r查附接到短邊的TAB 7a的區(qū)域，臺(tái)20在由箭頭X所示 的方向上線性地移動(dòng)，使得面陣相機(jī)IO循序地對(duì)凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相和 檢查。在檢查附接到短邊的TAB 7a的區(qū)域之后，凹痕檢查設(shè)備1檢查附接 到長(zhǎng)邊的TAB 7b的區(qū)域的;f企查表面。在此情況下，臺(tái)20在由箭頭9所示 的方向上旋轉(zhuǎn)，使得面陣相機(jī)10可對(duì)凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。
同時(shí)，當(dāng)面陣相機(jī)1G對(duì)成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板5的TAB 7a和 7b的區(qū)域進(jìn)行照相時(shí)，臺(tái)20重復(fù)移動(dòng)和停止。在此過(guò)程中，為了獲得凹痕 檢查區(qū)域的圖像，面陣相機(jī)IO還重復(fù)自動(dòng)對(duì)焦，其連同F(xiàn)PD基板5—起調(diào) 節(jié)焦點(diǎn)。
如上文所述，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1具有下述結(jié)構(gòu)其中臺(tái) 20相對(duì)于固定面陣相機(jī)10而移動(dòng)FPD基板5，且執(zhí)行凹痕才企查。臺(tái)20不 得不移動(dòng)的原因在于，盡管固定面陣相機(jī)10的自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍在約0.2 rrnn到0. 8mm的范圍內(nèi)，但由于處理和組裝過(guò)程中的誤差的緣故而不可能維 持自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。
將描述根據(jù)相關(guān)技術(shù)的裂縫檢查設(shè)備。
盡管圖中未繪示，但與上文所述的凹痕檢查設(shè)備1相反，根據(jù)相關(guān)技 術(shù)的裂縫檢查設(shè)備具有下述結(jié)構(gòu)其中當(dāng)相機(jī)(未圖示)在臺(tái)(未圖示) 固定的狀態(tài)下移動(dòng)時(shí)，裂縫4企查設(shè)備4企查FPD基板5的對(duì)應(yīng)于TAB區(qū)域的 部分中是否出現(xiàn)裂縫。
然而，在相關(guān)技術(shù)中，盡管以類似的方式執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查， 但臺(tái)和相機(jī)以不同類型進(jìn)行移動(dòng)。出于此原因，不可能將凹痕檢查設(shè)備和 裂縫檢查設(shè)備集成為單個(gè)檢查設(shè)備，檢查效率降低，且生產(chǎn)時(shí)間的量增加， 這降低了生產(chǎn)率。另外，由于有必要通過(guò)使用兩個(gè)檢查設(shè)備來(lái)移動(dòng)基板， 所以需要額外提供不必要的外圍裝置以增加工作空間，從而導(dǎo)致各種損失。
在已參考圖l描述的根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備l中，由于臺(tái)20移 動(dòng)，所以設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間增加。在TAB 7a與7b的間隔處移動(dòng)和 停止臺(tái)20之后，再次執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，并執(zhí)行檢查，這增加了生產(chǎn)時(shí)間的量。 當(dāng)FPD基板5的平面度由于FPD基板5的下陷(由于尺寸增加的緣故)而 不規(guī)則時(shí)，由于FPD基板5的下陷量超過(guò)自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍，所以需要使 用搜索功能，這降低了檢查效率。
在已參考圖1描述的根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1中，由于面陣相 機(jī)10固定到相機(jī)固定件50,且較大尺寸的臺(tái)20移動(dòng)，所以設(shè)備比例和設(shè) 備安裝空間增加。另外，由于需要將面陣相機(jī)10提供成適合臺(tái)20的移動(dòng)， 所以同時(shí)僅能安裝兩個(gè)面陣相機(jī)IO。因此，難以減小生產(chǎn)時(shí)間的量。同時(shí)，在FPD基板5由對(duì)應(yīng)檢查設(shè)備的基板支撐臺(tái)支撐之后執(zhí)行檢查。
將參考圖2和3描述根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板支撐臺(tái)。除上文所述的檢查設(shè)備
之外，當(dāng)執(zhí)行上文所述的各種工藝時(shí)，可使用圖2和3中所示的基板支撐 臺(tái)
圖2和3是說(shuō)明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板支撐臺(tái)的結(jié)構(gòu)的示意圖。
如圖2中所示，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的實(shí)例的基板支撐臺(tái)中，固定地提供 支撐基板G1和G2的多個(gè)襯墊30和30a。當(dāng)然，所述多個(gè)襯墊30和30a設(shè) 置成以相同間隔H1彼此遠(yuǎn)離。在圖2中所示的基板支撐臺(tái)中，具有(例如) 30英寸的尺寸的小尺寸基板Gl和具有(例如)46英寸的尺寸的大尺寸基 板G2共同使用所述臺(tái)。
然而，當(dāng)將小尺寸基板G1安裝在圖2中所示的基板支撐臺(tái)上，且由基 板支撐臺(tái)支撐時(shí)，基板G1的邊可能與定位在兩邊處的襯墊30a碰撞，且基 板G1可能損壞。具體來(lái)說(shuō)，由于襯墊30和30a固定在圖2中所示的基板 支撐臺(tái)上，所以基板支撐臺(tái)難以穩(wěn)定地支撐具有除上文所述的30英寸和46 英寸之外的不同尺寸的基板(未圖示)。為了使用具有除30英寸和46英寸 之外的不同尺寸的基板(未圖示)，需要單獨(dú)地提供對(duì)應(yīng)于不同尺寸的基板 支撐臺(tái)，這導(dǎo)致工藝中的損失。
同時(shí)，如圖3中所示，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的另一實(shí)例的基板支撐臺(tái)中， 提供支撐基板G3的多個(gè)襯墊40和40a。在襯墊40和40a中，中心襯墊40 固定，而定位在兩邊處的襯墊40a在由箭頭所示的方向上移動(dòng)。在圖3的 情況下，由于定位在兩邊處的襯墊40a可移動(dòng)，所以除圖2中所示的基板 Gl和G2之外，可有效地支撐比圖2中所示的基板G2大的基板G3。
然而，當(dāng)定位在兩邊處的襯墊40a從由虛線所示的位置移動(dòng)到由實(shí)線 所示的位置并支撐基板G3時(shí)，襯墊40與40a之間的間隔Hl和H2中產(chǎn)生 差異。具體來(lái)說(shuō)，由于在定位到兩邊且移動(dòng)其位置的襯墊40a的附近產(chǎn)生 較大間隔H2，所以基板G3可能在對(duì)應(yīng)區(qū)域中嚴(yán)重下陷。如果基板G3嚴(yán)重 下陷，那么在檢查FPD基板5 (參看圖1)的檢查設(shè)備(參看圖1)中所使 用的臺(tái)的情況下，可能出現(xiàn)檢查誤差。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái)的基 板檢查設(shè)備，其可通過(guò)改進(jìn)檢查效率和減小生產(chǎn)時(shí)間的量來(lái)改進(jìn)生產(chǎn)率， 并通過(guò)防止需要不必要的外圍裝置，且通過(guò)使用單個(gè)檢查設(shè)備共同地執(zhí)行 凹痕4企查和裂縫才企查來(lái)減小工作空間和各種損失。
根據(jù)本發(fā)明的另 一 目的，提供一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支 撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備，其可減小執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時(shí)間的總量，并增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍，甚至在基板的平面度由于基板的下陷(由于尺寸 增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)也可執(zhí)行有效檢查，且減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝 空間。
根據(jù)本發(fā)明的又一 目標(biāo)，提供一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支 撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備，其可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間，且相對(duì)于基板 的個(gè)別表面安裝相機(jī)，從而減小了執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時(shí)間的總量。
根據(jù)本發(fā)明的又一目標(biāo)，提供一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支 撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備，其可穩(wěn)定地支撐具有各種尺寸的基板，同時(shí)防止基 板損壞和被支撐的基板下陷。
本發(fā)明的額外優(yōu)勢(shì)、目的和特征將部分地在以下的描述內(nèi)容中陳述， 且部分地將對(duì)研究過(guò)下文后的所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)變得明顯，且可通 過(guò)實(shí)踐本發(fā)明而學(xué)習(xí)到。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種基板檢查設(shè)備，其包括上面穩(wěn)定 地安裝有基板的臺(tái)，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述基板一邊 的TAB的區(qū)域扭j于凹痕4企查和裂縫;險(xiǎn)查；至少一個(gè)凹痕4金查相沖幾，其對(duì)TAB 區(qū)域進(jìn)行照相，以便纟企查所述TAB中是否出現(xiàn)凹痕；至少一個(gè)裂縫檢查相 機(jī)，其對(duì)TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查基板的TAB區(qū)域中是否出現(xiàn)裂縫； 和光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元，其支撐所述凹痕4企查相才幾和所述裂縫4僉查相^i，以 ^i目對(duì)于所述臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種基板檢查設(shè)備，其包括上面穩(wěn)定 地安裝有基板的臺(tái)，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述基板一邊 的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個(gè)相機(jī)，其對(duì)基板的凹痕 檢查區(qū)域進(jìn)行照相；光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元，其耦合到所述相機(jī)并相對(duì)于所述 臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)所述相機(jī)；至少一個(gè)位移傳感器，其測(cè)量基板的位移；和 控制單元，其在由位移傳感器獲得的信息的基礎(chǔ)上控制相機(jī)的移動(dòng)。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種基板檢查設(shè)備，其包括上面穩(wěn)定 地安裝有基板的固定臺(tái)，所述基板成為凹痕檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述 基板一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查，所述固定臺(tái)固定地安裝在預(yù)定位置； 至少一個(gè)相機(jī)，其對(duì)基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；和光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元， 其耦合到所述相^L，并相對(duì)于固定臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)所述相^L， ^使得相^/L對(duì) 固定臺(tái)上的基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。
根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供一種基板支撐臺(tái)，其包括多個(gè)襯墊， 其支撐基板；和移動(dòng)支撐部分，其可移動(dòng)地支撐所述多個(gè)襯墊，使得所述 多個(gè)襯墊彼此接近并以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離。
通過(guò)結(jié)合附圖閱讀以下詳細(xì)描述內(nèi)容，本發(fā)明的上述和其它目的、特
征和優(yōu)勢(shì)將更明顯，其中
圖1是說(shuō)明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的實(shí)例的凹痕檢查設(shè)備的示意性透視圖。 圖2和3是說(shuō)明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板支撐臺(tái)的結(jié)構(gòu)的示意圖。 圖4是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第一示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的透視圖。 圖5是說(shuō)明基板穩(wěn)定地安裝在圖4中所示的基板檢查設(shè)備的臺(tái)上的狀
態(tài)的透視圖。
圖6是圖5的平面圖。
圖7是圖6的部分放大圖。
圖8是圖7的示意性側(cè)面圖。
圖9是圖4中所示的支撐檢查設(shè)備的控制方框圖。
圖10是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第二示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的示意性方框圖。
圖ll是說(shuō)明圖IO所示的基板檢查設(shè)備的示意性透視圖。 圖12是說(shuō)明圖11中所示的基板檢查設(shè)備的主要元件的放大透視圖。 圖13是說(shuō)明圖10中所示的基板檢查設(shè)備的操作的圖。 圖14是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第三示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的示意性透 視圖。
圖15和16是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第四示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的透視圖。
圖17和18是圖15和16中所示的基板檢查設(shè)備的平面圖。
圖19是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第五示范性實(shí)施例的基板檢查臺(tái)的透視圖。
圖20和21是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第六示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的透視圖。
圖2 2和2 3是根據(jù)本發(fā)明第七示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的平面圖。
具體實(shí)施例方式
在下文中，將參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。通過(guò)參照待參 看附圖詳細(xì)描述的實(shí)施例，本發(fā)明的方面和特征以及用于實(shí)現(xiàn)所述方面和 特征的方法將變得明顯。然而，本發(fā)明并非限于下文所揭示的實(shí)施例，而 是可以不同形式來(lái)實(shí)施。描述內(nèi)容中所界定的內(nèi)容(例如詳細(xì)構(gòu)造和元件) 只是被提供以輔助所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員全面理解本發(fā)明的特定細(xì)節(jié)，且本 發(fā)明僅界定在所附權(quán)利要求書的范圍內(nèi)。在本發(fā)明的整個(gè)描述內(nèi)容中，在各 個(gè)圖中，相同的附圖參考標(biāo)號(hào)始終用于相同的元件。
為參考起見(jiàn)，下文將描述的基板意味著LCD (液晶顯示器)基板、PDP (等離子顯示面板)基板和0LED (有機(jī)發(fā)光二極管)基板。然而，為了便于
9闡釋，上文所述的基板被稱為FPD (平板顯示器)基板。
另外，為了便于闡釋，TAB和光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元的每一者在每一位置處 由不同的參考標(biāo)號(hào)表示，且相機(jī)由同一參考標(biāo)號(hào)表示。
圖4是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第一示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的透視圖，圖 5是說(shuō)明基板穩(wěn)定地安裝在圖4中所示的基板檢查設(shè)備的臺(tái)上的狀態(tài)的透視 圖，圖6是圖5的平面圖，圖7是圖5的部分放大圖，圖8是圖7的示意 性側(cè)面圖，且圖9是圖4中所示的基板檢查設(shè)備的控制方框圖。
如圖中所示，根據(jù)本發(fā)明第一示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備101包含 檢查設(shè)備主體110;臺(tái)120，其提供在檢查設(shè)備主體110中且上面穩(wěn)定地安 裝有FDP基板105 (待檢查)；光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130，其耦合到檢查設(shè)備 主體110的上部，并支撐下文將描述的凹痕4僉查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī) 150，使得凹痕^r查相沖幾140和裂縫4企查相才幾150在水平方向上移動(dòng)，且上 升和下降；凹痕檢查相機(jī)140，其在沿光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130移動(dòng)時(shí)，檢查 提供在FPD基板105中的TAB 107a到107c是否有凹痕；裂縫檢查相機(jī)105， 其檢查FPD基板105的對(duì)應(yīng)于TAB 107a到107c的區(qū)域的部分中是否出現(xiàn) 裂縫；位移傳感器160,其測(cè)量凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150與 FDP基板105之間的位移；和控制單元170,其在位移傳感器160獲得的信 息的基礎(chǔ)上控制凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150的移動(dòng)。
檢查設(shè)備主體110是形成根據(jù)本發(fā)明第一示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè) 備101的外部的一部分。在一些情況下，檢查設(shè)備主體110可稱為檢查工 作臺(tái)。參看附圖，僅為了便于闡釋而將檢查設(shè)備主體IIO繪示成盒狀形狀。
因此，可在檢查設(shè)備主體110下方提供輪子(未圖示)以移動(dòng)檢查設(shè) 備主體110，且可在檢查設(shè)備主體110中提供用于操作光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元 130的一連串機(jī)械裝置。然而，將省略對(duì)以上裝置的詳細(xì)描述。另外，可在 檢查設(shè)備主體110 —邊上提供用于顯示一連串檢查過(guò)程的監(jiān)視器(未圖示)。
臺(tái)120耦合到檢查設(shè)備主體110的上部，并支撐FPD基板105，使得待 檢查的FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上。如圖中所示，臺(tái)120 可形成為具有預(yù)定厚度的矩形板的形狀，且通常被制造成具有比FPD基板 105小的面積。
因此，如果FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上，那么待檢查 的TAB 107a到107c的區(qū)域可能會(huì)暴露在臺(tái)120外部。因此，可通過(guò)設(shè)置 在臺(tái)120下方的凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150的照相來(lái)執(zhí)行對(duì)TAB 107a到107c的區(qū)域的凹痕和裂縫4企查。
為參考起見(jiàn)，在附圖中，F(xiàn)PD基板105直接安裝在臺(tái)120上，但通常在 臺(tái)的頂面上提供多個(gè)頂升銷(未圖示)。因此，當(dāng)FPD基板105由單獨(dú)傳送 機(jī)械臂裝載在臺(tái)120上時(shí)，頂升銷上升并支撐FPD基板105的底面。接著，如果頂升銷下降，那么FPD基板105可裝載在臺(tái)120的頂面上。在抽取FPD 基板105時(shí)，在頂升銷上升的狀態(tài)下抽取FPD基板105。
如果將臺(tái)120制造成具有比FPD基板105大的面積，且FPD基板105 裝載在臺(tái)120的頂面上，那么臺(tái)120需要由透明材料形成，以便對(duì)臺(tái)120 的底面上的FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相。然而，當(dāng)臺(tái) 120由透明材料形成時(shí)，可在某種程度上執(zhí)行裂縫檢查，且可能難以準(zhǔn)確地 執(zhí)行凹痕才企查。因此，如上文所述，優(yōu)選將臺(tái)120制造成具有比FPD基板 105小的面積。
然而，當(dāng)將臺(tái)120制造成具有比FPD基板105大的面積時(shí)，F(xiàn)PD基板 105穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上，使得TAB107a到107c的區(qū)域暴露在臺(tái) 120外部。以此方式，凹痕4全查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150可安全地對(duì) FPD基板10 5進(jìn)行照相。
當(dāng)然，臺(tái)120可具有柱形形狀、矩形塊形狀和多邊形塊形狀。然而，在 此情況下，在昂貴的FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上之后，F(xiàn)PD 基板105不應(yīng)在檢查過(guò)程期間與臺(tái)120分離或從臺(tái)120上落下。因此，優(yōu)選 臺(tái)120以真空吸附方法或類似方法支撐FPD基板105。
在此實(shí)施例中，基板檢查設(shè)備101具有下述結(jié)構(gòu)其中當(dāng)凹痕檢查相 機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150相對(duì)于固定臺(tái)120而移動(dòng)時(shí)，對(duì)穩(wěn)定地安裝在 臺(tái)120上的FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域4丸行凹痕和裂縫檢查。 因此，臺(tái)120耦合并固定到檢查設(shè)備主體110的上部。
然而，在此情況下，單獨(dú)的基板傳送機(jī)械臂(未圖示)需要將待檢查 的FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面的預(yù)定位置處，否則，沿光學(xué) 系統(tǒng)移動(dòng)單元130移動(dòng)的凹痕檢查相機(jī)140和裂縫4企查相機(jī)150不能準(zhǔn)確 地對(duì)TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相。也就是說(shuō)，如果FPD基板105不 是安裝在臺(tái)120的頂面的預(yù)定位置處，那么凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查 相機(jī)150不能準(zhǔn)確地對(duì)TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相。
因此，將臺(tái)120制造成實(shí)質(zhì)上固定，且臺(tái)120需要在預(yù)定角范圍內(nèi)被 可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng)，使得穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上的FPD基板105在預(yù)定 位置處對(duì)準(zhǔn)，這由提供在臺(tái)120下方的臺(tái)旋轉(zhuǎn)單元122來(lái)執(zhí)行。當(dāng)然，在設(shè) 計(jì)時(shí)可省略臺(tái)旋轉(zhuǎn)單元122。
由此，由于臺(tái)120實(shí)質(zhì)上固定，所以有可能減小在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹 痕檢查設(shè)備中移動(dòng)所述臺(tái)(未圖示)所需的較大設(shè)備比例和較大設(shè)備安裝 空間。另外，當(dāng)相對(duì)較大的臺(tái)移動(dòng)時(shí)發(fā)生的微粒污染或施加到FPD基板105 的物理沖擊可預(yù)先防止，這促進(jìn)了產(chǎn)率的改進(jìn)。然而，本發(fā)明并非局限于 此，且臺(tái)120可移動(dòng)。當(dāng)使用可移動(dòng)臺(tái)120時(shí)，可應(yīng)用稍后將描述的根據(jù) 本發(fā)明第四到第七示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)(未圖示)。光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130是凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以及 位移傳感器160借以支撐和移動(dòng)的部分。光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130支撐凹痕 才企查相機(jī)140和裂縫;險(xiǎn)查相機(jī)150，使得凹痕檢查相機(jī)140和裂縫;險(xiǎn)查相機(jī) 150可相對(duì)于臺(tái)120而相對(duì)地移動(dòng)。
如上文所述，在根據(jù)此實(shí)施例的基板檢查設(shè)備101中，隨著凹痕檢查 相機(jī)140和裂縫;險(xiǎn)查相機(jī)150移動(dòng)而進(jìn)行凹痕和裂縫沖企查。光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng) 單元130負(fù)責(zé)移動(dòng)凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150。
光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130包含多個(gè)水平部分131a到131c;第一垂直部 分132a到132c,其耦合到所述水平部分131a到131c,且可移動(dòng)地支撐凹 痕4企查相才幾140和位移傳感器160;和第二垂直部分133a到133c，其可移 動(dòng)地支撐裂縫檢查相機(jī)150，同時(shí)獨(dú)立于第一垂直部分132a到132c而移動(dòng)。
為參考起見(jiàn)，由于由根據(jù)此實(shí)施例的基板檢查設(shè)備101檢查的FPD基 板105的尺寸較大，所以TAB 107a和107b附接(壓縮并接合)到FPD基 板105的兩個(gè)短邊，且一連串TAB 107c附接到FPD基板105的一長(zhǎng)邊。也 就是說(shuō)，TAB 107a到107c附接到FPD基板105的除另 一長(zhǎng)邊之外的三個(gè)邊。 因此，提供光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130、位移傳感器160以及凹痕檢查相機(jī)140 和裂縫;險(xiǎn)查相才幾150以對(duì)應(yīng)于TAB 107a到107c。
水平部分131a到131c耦合到一企查設(shè)備主體110的上部，且提供在三 個(gè)部分中，以便對(duì)應(yīng)于形成于FPD基板105中的TAB 107a到107c。也就是 說(shuō)，提供兩個(gè)水平部分131a和131b以對(duì)應(yīng)于FPD基板105的兩個(gè)短邊，且 提供一個(gè)水平部分131c以對(duì)應(yīng)于FPD基板105的一個(gè)長(zhǎng)邊。如圖中所示， 水平部分131a到131c可彼此分離，且可彼此集成為"U"形狀。
第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c分別耦合到水平部 分131a到131c。第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c的一邊 可沿水平部分131a到131c移動(dòng)，且其另邊支撐對(duì)應(yīng)的凹痕檢查相機(jī)140 和裂縫^r查相才幾150以及對(duì)應(yīng)的位移傳感器160。
在第一垂直部分132a到132c與第二垂直部分133a到133c之間，支撐 凹痕4企查相機(jī)140和位移傳感器160的第一垂直部分132a到132c可在對(duì) 應(yīng)位置處上升和下降。即，第一垂直部分132a到132c上升和下降，使得 凹痕檢查相機(jī)140可接近和遠(yuǎn)離FPD基板105。當(dāng)然，上升和下降操作由控 制單元170控制。參看圖4和5，由參考標(biāo)號(hào)132a表示的第一垂直部分處 于上升狀態(tài)，且由參考標(biāo)號(hào)132b和132c表示的第一垂直部分處于下降狀 態(tài)。第一垂直部分132a到132c可以共同線性運(yùn)動(dòng)或伸縮套管結(jié)構(gòu)上升和 下降。
與第一垂直部分132a到132c不同，第二垂直部分133a到133c并不 上升和下降。如下文所述，由于凹痕檢查相機(jī)140僅需要對(duì)TAB 107a到107c
12的局部區(qū)域進(jìn)行照相，以便精密地檢查是否存在凹痕，所以由于自動(dòng)對(duì)焦
或類似情況的緣故，凹痕檢查相機(jī)140需要相對(duì)于FPD基板105而上升和 下降。然而，由于裂縫檢查相機(jī)150需要對(duì)TAB 107a到107c的較大區(qū)域 進(jìn)行照相，以便檢查是否存在裂縫，所以裂縫檢查相機(jī)150不需要相對(duì)于 FPD基板105而上升和下降。
另外，在水平部分131a到131c上，上面安裝有裂縫檢查相機(jī)150的 第二垂直部分133a到133c的移動(dòng)速度VI (見(jiàn)圖7)相對(duì)快于上面安裝有 凹痕才企查相才幾140和位移傳感器160的第一垂直部分132a到132c的移動(dòng) 速度V2 (見(jiàn)圖7)。因此，第二垂直部分133a到133c設(shè)置在第一垂直部分 132a到132c的前面，并比第一垂直部分132a到132c更快地移動(dòng)。
因此，在一個(gè)FPD基板105中，在TAB 107a到107c所有區(qū)域中執(zhí)行 裂縫檢查。也就是說(shuō)，借助安裝于設(shè)置在第一垂直部分132a到132c前面 并比第一垂直部分132a到132c更快地移動(dòng)的第二垂直部分133a到133c 上的裂縫檢查相機(jī)150，在TAB 107a到107c的所有區(qū)域中執(zhí)行裂縫檢查。
然而，與裂縫檢查不同，需精密且緩慢地執(zhí)行凹痕檢查。出于此原因， 考慮到執(zhí)行凹痕檢查所需的時(shí)間的量，不在TAB 107a到107c的所有區(qū)域 中執(zhí)行凹痕檢查。也就是說(shuō)，借助安裝于設(shè)置在第二垂直部分133a到133c 后面且比第二垂直部分133a到133c相對(duì)較慢地移動(dòng)的第一垂直部分13h 到132c上的凹痕檢查相機(jī)140，在從TAB 107a到107c的區(qū)域中選擇的部 分區(qū)域中執(zhí)行凹痕檢查。
在第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c不是彼此分離而 是彼此集成之后，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫才全查相機(jī)150以及位移傳感器 160可一起移動(dòng)。然而，在此情況下，^r查時(shí)間的量增加，這減小了產(chǎn)率。
凹痕檢查相機(jī)140耦合到第一垂直部分132a到132c的上部的一邊。 凹痕檢查相機(jī)140對(duì)FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，以 便執(zhí)行凹痕檢查，所述凹痕檢查檢查TAB 107a到107c的電極圖案是否準(zhǔn) 確地附接到FPD基板105的電極圖案，以及導(dǎo)電球的形狀和位置是否準(zhǔn)確。 如上文所述，凹痕纟企查相機(jī)140 <又對(duì)TAB 107a到107c的局部區(qū)域進(jìn)行照 相，以便精密地檢查是否出現(xiàn)凹痕。參看圖7，由凹痕檢查相機(jī)140進(jìn)行照 相的照相范圍較窄。
裂縫;險(xiǎn)查相機(jī)150耦合到第二垂直部分133a到133c的上部的一邊，且 當(dāng)沿對(duì)應(yīng)的水平部分131a到133c移動(dòng)時(shí)，檢查FPD基板105的對(duì)應(yīng)于TAB 107a到107c的區(qū)域的部分中是否出現(xiàn)裂縫。
此時(shí)，與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的相機(jī)不同，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相 才幾150可用作線掃描相才幾。
如上文所述，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕和裂縫檢查設(shè)備中，當(dāng)臺(tái)(未圖示)重復(fù)地移動(dòng)和停止時(shí)，出于自動(dòng)對(duì)焦的目的而需要使用面陣相機(jī)。然
而，在此實(shí)施例中，凹痕^r查相才幾140和裂縫;險(xiǎn)查相才幾150可由光學(xué)系統(tǒng) 移動(dòng)單元130移動(dòng)，且凹痕才企查相機(jī)140和裂縫才企查相機(jī)150的移動(dòng)速度 可由控制單元170個(gè)別地控制。在凹痕檢查相機(jī)140的情況下，由于可執(zhí) 行用于自動(dòng)對(duì)焦的上升和下降操作，所以可使用線掃描相機(jī)。
由此，在使用線掃描相機(jī)的根據(jù)此實(shí)施例的基板檢查設(shè)備101中，由于 凹痕才企查相才幾140和裂縫;險(xiǎn)查相才幾150在移動(dòng)時(shí)可獲得移動(dòng)區(qū)域中存在的 圖像，所以可執(zhí)行連續(xù)和實(shí)時(shí)檢查。也就是說(shuō)，如果使用線掃描相機(jī)，那么 可獲得相對(duì)較高分辨率的圖像。因此，與使用根據(jù)相關(guān)技術(shù)的面陣相機(jī)的 凹痕和裂縫檢查設(shè)備相比，檢查精度可改進(jìn)且檢查面積可增加，其執(zhí)行連 續(xù)和實(shí)時(shí)的4全查。
為參考起見(jiàn)，為了使凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150執(zhí)行各自 的功能，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150需要具備一種結(jié)構(gòu)，例如 照明或反射板。然而，由于此結(jié)構(gòu)是一般的相機(jī)結(jié)構(gòu)，所以將省略對(duì)其的 詳細(xì)描述。
同時(shí)，由臺(tái)120支撐的FPD基板105的幾乎整個(gè)區(qū)域是平面的，但FPD 基板105的平面度可能是不規(guī)則的，如由圖8中的實(shí)線所示。
如圖8中所示，在FPD基板105的平面度不是規(guī)則的而是不規(guī)則的情 況下，如果凹痕才企查相機(jī)140和裂縫4企查相機(jī)150對(duì)TAB 107a到107c的 區(qū)域進(jìn)行照相，那么難以獲得清楚的圖像。在裂縫檢查相機(jī)150的情況下， 即使在FPD基板的平面度不規(guī)則時(shí)，獲得清楚的圖像并執(zhí)行裂縫檢查也不 是很難。然而，在凹痕檢查相機(jī)140的情況下，需要執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，以便 獲得對(duì)應(yīng)區(qū)域上的清楚圖像。此時(shí)，當(dāng)FPD基板105的平面度不是規(guī)則的 而是不規(guī)則的時(shí)，需花費(fèi)較大量的時(shí)間來(lái)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，且因此難以減少 生產(chǎn)時(shí)間。
因此，在此實(shí)施例中，在凹痕^^查相機(jī)140的前面提供位移傳感器160， 以便預(yù)先測(cè)量凹痕檢查相機(jī)140與FPD基板105之間的位移。接著，位移 傳感器160將關(guān)于測(cè)量到的位移的信息傳輸?shù)娇刂茊卧?70,且控制單元 170在關(guān)于測(cè)量到的位移的信息的基礎(chǔ)上，驅(qū)動(dòng)沿光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130移 動(dòng)的凹痕檢查相機(jī)140上升和下降(圖8中的距離H)，使得凹痕檢查相機(jī) 140可接近和遠(yuǎn)離FPD基板105,這會(huì)顯著減少執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦所需的時(shí)間的 量。
對(duì)生產(chǎn)類型給出詳細(xì)描述。在凹痕檢查相機(jī)140移動(dòng)之前或當(dāng)凹痕檢 查相糸U40移動(dòng)時(shí)，位移傳感器160將通過(guò)預(yù)先測(cè)量對(duì)應(yīng)的TAB 107a到107c 與凹痕檢查相機(jī)140之間的間隔而獲得的信息傳輸?shù)娇刂茊卧?70。在達(dá)到 實(shí)質(zhì)檢查點(diǎn)之前，凹痕檢查相機(jī)140可根據(jù)控制單元170的控制操作而預(yù)先上升和下降。因此，執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦所需的時(shí)間的量減少，這減少了生產(chǎn)
時(shí)間的總量。另外，有可能增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍，且即使在FPD基板105 的平面度由于FPD基板105的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)，也 有可能有效地執(zhí)行凹痕檢查。
另外，在基板下陷的量超過(guò)使用面陣相機(jī)的相關(guān)技術(shù)中的自動(dòng)對(duì)焦跟 蹤范圍的情況下，需要使用搜索功能，這增加了生產(chǎn)時(shí)間的量。然而，在 此實(shí)施例中，如果在由位移傳感器160獲得的信息的基礎(chǔ)上預(yù)先控制凹痕 檢查相機(jī)14G的移動(dòng)，那么與相關(guān)技術(shù)相比，有可能增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范 圍。因此，即使在FPD基板105的下陷由于FPD基板105的尺寸增加的緣 故而4交嚴(yán)重時(shí)，也可在寸丸行自動(dòng)對(duì)焦的同時(shí)實(shí)時(shí)地纟丸行4企查，而在預(yù)定范 圍內(nèi)無(wú)需單獨(dú)的搜索功能，這減少了生產(chǎn)時(shí)間的量。
當(dāng)然，不可能僅通過(guò)使用光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130來(lái)相對(duì)于凹痕檢查相 機(jī)140安全地實(shí)現(xiàn)自動(dòng)對(duì)焦。然而，在可進(jìn)行自動(dòng)對(duì)焦的自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范 圍內(nèi)預(yù)先上升和下降凹痕檢查相機(jī)140之后，凹痕檢查相機(jī)140對(duì)對(duì)應(yīng)區(qū) 域進(jìn)行照相。以此方式，有可能獲得清楚的圖像，且顯著減少生產(chǎn)時(shí)間的 量。為參考起見(jiàn)，當(dāng)在根據(jù)此實(shí)施例的結(jié)構(gòu)中操作時(shí)，已從實(shí)驗(yàn)證實(shí)，即使 自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍可能變成4 mm或更大，也不會(huì)存在任何問(wèn)題。
如上文重復(fù)描述的，位移傳感器160測(cè)量凹痕4企查相機(jī)HO與FPD基 板105之間的位移，并將測(cè)量到的結(jié)果傳輸?shù)娇刂茊卧?70。因此，位移傳 感器160優(yōu)選定位在凹痕斗企查相4幾140前面。因此，在此實(shí)施例中，在位 移傳感器160和凹痕4企查相機(jī)140安裝在第一垂直部分132a到132c中的 每一者上的狀態(tài)下，位移傳感器160和凹痕4企查相才幾140—起移動(dòng)。然而， 位移傳感器160不一定與凹痕4企查相纟幾140 —起移動(dòng)，且可個(gè)別地移動(dòng)和 操作。激光傳感器可用作位移傳感器160。
在凹痕檢查相才幾140到達(dá)待照相的TAB 107a到107c的區(qū)域之前，控制 單元170事先從位移傳感器160獲得關(guān)于FPD基板105的平面度的信息，且 通過(guò)水平部分131a到131c和第一垂直部分132a到132c來(lái)控制凹痕沖企查 相才幾140的移動(dòng)。
具體地說(shuō)，為了使凹痕檢查相機(jī)140可對(duì)TAB 107a到107c的區(qū)域?qū)?時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，控制單元170控制凹痕檢查相機(jī)140，使得凹痕檢查相機(jī) 140可在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130上接近和遠(yuǎn)離FPD基板105。另外，為了在 凹痕檢查相機(jī)140的照相操作期間，獲得來(lái)自凹痕檢查相機(jī)140的移動(dòng)路 徑的整個(gè)區(qū)域的圖像，控制單元170控制凹痕檢查相機(jī)140連續(xù)移動(dòng)。當(dāng) 然，控制單元170獨(dú)立地移動(dòng)裂縫檢查相機(jī)150。
下文將描述具有上述結(jié)構(gòu)的基板檢查設(shè)備101的操作和功能。
首先，待檢查的FPD基板105由單獨(dú)機(jī)械臂穩(wěn)定地安裝在臺(tái)上。也就
15是說(shuō)，當(dāng)單獨(dú)的機(jī)械臂將FPD基板105裝載在臺(tái)120上時(shí)，頂升銷上升并 支撐FPD基板105的底面。接著，當(dāng)頂升銷下降時(shí)，F(xiàn)PD基板105可裝載并 穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上。接著，F(xiàn)PD基板105可由臺(tái)旋轉(zhuǎn)單元122對(duì)準(zhǔn)。
接著，控制單元170控制光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130，使得凹痕檢查相機(jī) 140和裂縫檢查相機(jī)150以及位移傳感器160可移動(dòng)。也就是說(shuō)，耦合到第 一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c的凹痕4企查相才幾140和位 移傳感器160以及裂縫檢查相機(jī)150分別沿對(duì)應(yīng)的水平部分131a到131c 在由圖4中的箭頭A、 B和C所示的方向上移動(dòng)。如上文所述，在上面安裝 有裂縫檢查相機(jī)150的第二垂直部分133a到133c首先以較高速度移動(dòng)之 后，上面安裝有凹痕4企查相才幾140和位移傳感器160的第一垂直部分132a 到132c移動(dòng)。
由于裂縫檢查相機(jī)150不需要執(zhí)行單獨(dú)的自動(dòng)對(duì)焦操作，所以裂縫檢 查相機(jī)150可在以較高速度移動(dòng)時(shí)對(duì)TAB 107a到107c的整個(gè)區(qū)域執(zhí)行裂 縫;險(xiǎn)查。然而，在凹痕4企查相才幾140的情況下，首先，定位在凹痕^r查相 機(jī)140前面的位移傳感器160測(cè)量凹痕檢查相機(jī)140與FPD基板105之間 的位移，并將測(cè)量結(jié)果傳輸?shù)娇刂茊卧?70。在所傳輸?shù)奈灰菩畔⒌幕A(chǔ)上， 控制單元170控制第一垂直部分132a到132c上升和下降。因此，在凹痕 檢查相機(jī)140可執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦的情況下，凹痕檢查相機(jī)140在光學(xué)系統(tǒng)移 動(dòng)單元130上對(duì)FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，以便 才丸4亍凹痕4企查。
具體來(lái)說(shuō)，根據(jù)控制單元170的控制操作，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫 檢查相機(jī)150在連續(xù)地執(zhí)行水平移動(dòng)以及上升和下降運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)FPD 基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，而無(wú)需停止其移動(dòng)，這樣 便可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)的凹痕和裂縫4企查。
另外，由于凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150僅對(duì)FPD基板105 的每一側(cè)的對(duì)應(yīng)位置進(jìn)行照相，所以有可能顯著減少執(zhí)行凹痕檢查和裂縫 檢查所需的時(shí)間的量。為參考起見(jiàn)，由于需花費(fèi)約5秒鐘來(lái)對(duì)32英寸的FPD 基板105執(zhí)行凹痕和裂縫檢查，所以與相關(guān)技術(shù)相比，檢查時(shí)間顯著減少。 因此，可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，且可對(duì)所有產(chǎn)品執(zhí)行凹痕和裂縫檢查。另外， 有可能對(duì)下陷嚴(yán)重且平面度不規(guī)則的FPD基板執(zhí)行4企查。
由此，根據(jù)本發(fā)明，由于可通過(guò)使用單個(gè)檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢 查和裂縫;險(xiǎn)查兩者，所以可改進(jìn)^r查效率。另外，可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，這 增加了生產(chǎn)率。
另外，由于可防止需要不必要的外圍裝置，所以可減小工作空間。因 此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少各種損失。為參考起見(jiàn)，在此實(shí)施例中，由于單個(gè)基板檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕
檢查和裂縫檢查，所以有可能達(dá)到將基板檢查設(shè)備的體積減小50%或更多 的效果。以此方式，不僅可減小基板檢查設(shè)備的體積，而且可減小安裝基 板檢查設(shè)備的空間或工作空間。因此，還可顯著減小清洗制造成本。
圖10是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第二示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的示意性方 框圖，圖ll是說(shuō)明圖10中所示的基板檢查設(shè)備的示意性透視圖，圖12是 說(shuō)明圖11中所示的基板檢查設(shè)備的主要元件的放大透視圖，且圖13是說(shuō) 明圖10中所示的基板檢查設(shè)備的操作的圖。參看圖l和圖10到13來(lái)作出 描述。
如圖中所示，根據(jù)本發(fā)明第二示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備201包含 臺(tái)220, FPD基板205穩(wěn)定地安裝且支撐在臺(tái)220上；線掃描相機(jī)210，其 對(duì)TAB 207a附接到的FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；位移傳感器 230，其提供在線掃描相機(jī)210的前面；光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250，其將線掃 描相才幾210移動(dòng)到臺(tái)220 —側(cè)；和控制單元260，其控制線掃描相一幾210的 移動(dòng)，以便實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
如圖10中所示，在根據(jù)本發(fā)明第二示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備201 中，位移傳感器230事先獲得關(guān)于穩(wěn)定地安裝在固定在預(yù)定區(qū)域中的臺(tái)220 上的FPD基板205 (待檢查)的平面度的信息。在由位移傳感器230獲得的 信息的基礎(chǔ)上，控制單元260控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)，使得線掃描相 機(jī)210可實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
具有上述結(jié)構(gòu)且安裝在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250上的線掃描相機(jī)210可 在在凹痕檢查區(qū)域中連續(xù)移動(dòng)的同時(shí)執(zhí)行凹痕檢查。因此，根據(jù)此實(shí)施例， 與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的臺(tái)20移動(dòng)的基板檢查設(shè)備1 (參看圖1)相比，可減少 生產(chǎn)時(shí)間的量。另外，可減少設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。
對(duì)生產(chǎn)類型進(jìn)行詳細(xì)描迷。提供在線掃描相機(jī)210的前表面部分前面 的位移傳感器230傳輸通過(guò)預(yù)先測(cè)量TAB 207a與線掃描相機(jī)210之間的間 隔而獲得的信息，并在線掃描相機(jī)210移動(dòng)之前或在線掃描相機(jī)210移動(dòng) 時(shí)，將所述信息傳輸?shù)娇刂茊卧?60。線掃描相機(jī)210可在到達(dá)檢查點(diǎn)之前 上升和下降。因此，減少了執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦所需的時(shí)間的量，這減少了生產(chǎn)
時(shí)間的總量。
另外，由于線掃描相機(jī)210在到達(dá)檢查點(diǎn)之前可預(yù)先上升和下降，所以 有可能增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。即使在FPD基板235的平面度由于FPD基 板235的下陷(由于FPD基板235的尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)，也可 執(zhí)行有效檢查。
同時(shí)，F(xiàn)PD基板205的TAB 207a可以各種類型附接到FPD基板205的 各邊。然而，在此實(shí)施例中，首先，對(duì)TAB 207a僅附接到一邊(短邊)的FPD基板2G5進(jìn)4于描述。
在將TAB 207a附接到FPD基板205的過(guò)程中，基板檢查設(shè)備201檢查 各向異性導(dǎo)電膜(未圖示)中出現(xiàn)的凹痕。因此，基板檢查設(shè)備201提取 TAB 207a附接到的凹痕檢查區(qū)域上的圖像，并檢查所提取的凹痕圖像?；?板檢查設(shè)備2Q1重復(fù)這些過(guò)程。
基板檢查設(shè)備201的臺(tái)220穩(wěn)定地安裝FPD基板205,其中TAB 207a 附接到FPD基板205的一邊且成為凹痕檢查目標(biāo)。在此實(shí)施例中，如圖中 所示，將臺(tái)220形成為具有比FPD基板205小的尺寸，且FPD基板的底面 穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220的頂面上。此時(shí)，F(xiàn)PD基板205在TAB 207a的區(qū)域暴 露在臺(tái)220外部的狀態(tài)下，穩(wěn)定地安裝在臺(tái)2"的頂面上。具體地說(shuō)，在 提供在臺(tái)220中的頂升銷(未圖示)上升的狀態(tài)下，傳送機(jī)械臂('未圖示) 將FPD基板205從外部引導(dǎo)到臺(tái)220。此時(shí)，如果支撐所引導(dǎo)的FPD基板 205的頂升銷下降，那么FPD基板205便在TAB 207a的區(qū)域暴露在臺(tái)220 外部的狀態(tài)下，穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上。
因此，穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上使得TAB 207a的區(qū)域暴露在臺(tái)220外部 的FPD基板205設(shè)置在線掃描相機(jī)210可容易地執(zhí)行檢查的位置處。
由于臺(tái)220是支撐待檢查的FPD基板205的部分，所以臺(tái)220不一定 具有上述類型。因此，將臺(tái)220制造成具有柱形形狀、正方柱形形狀或矩 形板形狀，且在FPD基板205的TAB 207a的區(qū)域暴露在臺(tái)220外部的狀態(tài) 下穩(wěn)定地安裝FPD基板205。這樣，臺(tái)220可具有各種結(jié)構(gòu)，只要線掃描相 機(jī)210可檢查FPD基板205即可。
另外，臺(tái)220可經(jīng)構(gòu)造以移動(dòng)，但在此實(shí)施例中，將臺(tái)220提供為固 定到基板檢查設(shè)備201的預(yù)定位置。
由此，固定臺(tái)220可解決根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板檢查設(shè)備1 (參看圖1) 包含可在二維方向(X和Y方向)上移動(dòng)并旋轉(zhuǎn)(e)的臺(tái)20時(shí)發(fā)生的各種 問(wèn)題。
也就是說(shuō)，由于根據(jù)相關(guān)技術(shù)的臺(tái)20在基板檢查設(shè)備1中在二維方向 (X和Y方向)上移動(dòng)并旋轉(zhuǎn)(e)，所以由于臺(tái)20的移動(dòng)的緣故，設(shè)備比例 和設(shè)備安裝空間增加。同時(shí)，在此實(shí)施例中，由于臺(tái)220相對(duì)地固定，所
i裝i間r '' — 、
另外，由于FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上并以此種方式固定，所 ，J可能減少相關(guān)，術(shù)中移動(dòng)臺(tái)20所需的輔助設(shè)施,和功率:肖，毛。另^卜，有
基板205的物理沖擊，這促進(jìn)產(chǎn)率的改進(jìn)。
同時(shí)，根據(jù)本發(fā)明，線掃描相機(jī)210和面陣相機(jī)(未圖示)兩者均可
18用作相機(jī)。在此實(shí)施例中，將線掃描相機(jī)210用作相機(jī)。
一般來(lái)說(shuō)，線掃描相機(jī)210主要用于對(duì)局部區(qū)域進(jìn)行照相和掃描。在 此實(shí)施例中，將線掃描相機(jī)210提供為定位在上面穩(wěn)定地安裝有FPD基板 205 (TAB 207a附接到FPD基板205 )的臺(tái)220下方，且線掃描相才幾210 對(duì)凹痕檢查區(qū)i或進(jìn)4亍照相。
如上文所述，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板檢查設(shè)備1不得不使用面陣相機(jī)10 來(lái)在臺(tái)20重復(fù)移動(dòng)和停止時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦操作。然而，在此實(shí)施例中，線 掃描相才幾210可由稍后將描述的光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250移動(dòng)，且可由位移 傳感器230實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦操作。因此，有可能使用線掃描相機(jī)210。
因此，在根據(jù)此實(shí)施例的使用線掃描相機(jī)210的基板檢查設(shè)備201中， 由于線掃描相機(jī)210可在移動(dòng)時(shí)獲得整個(gè)凹痕檢查區(qū)域上的圖像，所以有 可能選擇性地對(duì)所獲得圖像的所需區(qū)域執(zhí)行檢查過(guò)程。
由此，如果使用線掃描相機(jī)210，那么可獲得相對(duì)較高分辨率的照相圖 像，這與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的使用面陣相機(jī)10的基板檢查設(shè)備1相比，改進(jìn)了 檢查精度且增加了檢查區(qū)域的寬度。
如上文所述，位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面的一側(cè)。
位移傳感器230測(cè)量FPD基板205的位移或線掃描相才幾210與成為凹 痕牙企查目標(biāo)的FPD基板205之間的位移。在此實(shí)施例中，盡管未詳細(xì)繪示 位移傳感器230，但位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部分的 一側(cè)，使得位移傳感器230實(shí)質(zhì)上在線掃描相機(jī)210的移動(dòng)方向上與線掃 描相4幾210集成。
如圖12和13中所示，位移傳感器230事先測(cè)量FPD基板205與線掃 描相機(jī)210之間的距離或FPD基板205的位移，使得線掃描相機(jī)210在前 進(jìn)了At的位置處連續(xù)移動(dòng)的同時(shí)，實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
根據(jù)相關(guān)技術(shù)的面陣相機(jī)10在臺(tái)20到達(dá)凹痕檢查區(qū)域之后執(zhí)行自動(dòng) 對(duì)焦，而根據(jù)此實(shí)施例的線掃描相機(jī)210可在連續(xù)移動(dòng)時(shí)實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì) 焦。
此原因如下。由于位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部 分的一側(cè)，所以位移傳感器230預(yù)先測(cè)量FPD基板205的平面度，并將關(guān) 于平面度的信息傳輸?shù)娇刂茊卧?60,且控制單元260控制線掃描相機(jī)210 的移動(dòng)，使得線掃描相機(jī)210可實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
另外，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的FPD基板5 (參看圖1)的下陷量超過(guò)面陣相 機(jī)10的自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍的情況下，需要使用搜索功能，且因此增加生產(chǎn) 時(shí)間的量。然而，在此實(shí)施例中，控制單元260在由位移傳感器230獲得 的信息的基礎(chǔ)上，預(yù)先控制線掃描相機(jī)10的移動(dòng)，這與相關(guān)技術(shù)相比，增 加了自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。因此，即使在下陷由于FPD基板205的尺寸增加的緣故而嚴(yán)重時(shí)，也可 在實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦時(shí)執(zhí)行^r查，而在預(yù)定范圍內(nèi)無(wú)需單獨(dú)的搜索功能，這 減少了生產(chǎn)時(shí)間的量。
也就是說(shuō)，由于線掃描相機(jī)210可通過(guò)使用位移傳感器230實(shí)時(shí)執(zhí)行 自動(dòng)對(duì)焦，所以與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的重復(fù)執(zhí)行移動(dòng)和停止且在自動(dòng)對(duì)焦之后 執(zhí)行檢查的基板檢查設(shè)備1相比，有可能以較高速度連續(xù)執(zhí)行凹痕檢查。 因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，可防止產(chǎn)品中由于產(chǎn)品尺 寸增加而出現(xiàn)下陷，且可改進(jìn)凹痕4企查效率。
位移傳感器2 30耦合到的線掃描相機(jī)210安裝在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250 上，以便實(shí)質(zhì)上移動(dòng)。
盡管未詳細(xì)繪示，但在此實(shí)施例中，光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250提供在臺(tái) 220下方且與TAB 207a附接到的FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域平行設(shè)置， 以便允許線性運(yùn)動(dòng)。因此，使用光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250，線掃描相機(jī)210可 在連續(xù)移動(dòng)時(shí)對(duì)TAB 207a附接到FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域執(zhí)行凹痕檢 查。
另外，光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250允許線掃描相機(jī)210根據(jù)圖11到13中 的箭頭Z所示的方向垂直地上升和下降。因此，在由位移傳感器230獲得 的信息的基礎(chǔ)上，線掃描相機(jī)210可移動(dòng)到一位置，所述位置可事先在垂 直上升和下降時(shí)預(yù)先執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
提供控制單元260，其控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)，使得線掃描相機(jī) 210可通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250而移動(dòng)。
控制單元260在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上控制線掃描相 機(jī)210的移動(dòng)。也就是說(shuō)，在線掃描相機(jī)210到達(dá)FPD基板205的凹痕檢 查區(qū)域之前，控制單元260事先從位移傳感器230獲得關(guān)于FPD基板205 的凹痕檢查區(qū)域的平面度的信息，并控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)。
因此，控制單元260可控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)，使得線掃描相機(jī) 210可實(shí)時(shí)對(duì)FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。另外，控制單元 260連續(xù)地移動(dòng)線掃描相沖幾210，以便在由線掃描相機(jī)210進(jìn)行照相時(shí)，獲 得線掃描相機(jī)210的移動(dòng)路徑的整個(gè)區(qū)域上的圖像。
由此，根據(jù)控制單元260的控制操作，線掃描相機(jī)210在圖11和12 中的箭頭X所示的方向上線性地移動(dòng)，且連續(xù)地移動(dòng)到成為凹痕^r查目標(biāo) 的TAB 207a的區(qū)域。此時(shí)，根據(jù)控制單元260的控制操作，線掃描相機(jī)210 在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上，在由箭頭Z所示的方向上上升 和下降，并預(yù)先移動(dòng)到檢查位置，從而實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
因此，線掃描相才幾210在連續(xù)移動(dòng)時(shí)實(shí)時(shí)4丸行自動(dòng)對(duì)焦，并寸丸4亍凹痕 檢查。因此，與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的重復(fù)停止和移動(dòng)且執(zhí)行檢查的方法相比，可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，且可改進(jìn)檢查效率。
現(xiàn)將描述具有上述結(jié)構(gòu)的基板檢查設(shè)備的操作。
在下文中，將參看圖10到13，尤其是圖13,來(lái)描述基板檢查設(shè)備的 操作。
首先，成為凹痕^r查目標(biāo)的FPD基板205穩(wěn)定地安裝在基板一企查設(shè)備 201的臺(tái)220上。此時(shí)，附接有TAB 207a的FPD基板的區(qū)域向上設(shè)置。因 此，當(dāng)線掃描相4幾210定位在臺(tái)220下方時(shí)，有可能對(duì)具有凹痕的TAB 207a 進(jìn)行照相并提取其凹痕圖像。
在本發(fā)明中，如果FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上并以此種方式 固定在其上，那么與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的包含移動(dòng)臺(tái)20 (參看圖1)的基板檢 查設(shè)備l (參看圖1)相比，可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。另外，如上 文所述，有可能預(yù)先防止微粒污染或施加到FPD基板205的物理沖擊，這改 進(jìn)了產(chǎn)率。
由此，如果FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上，那么線掃描相機(jī)210 移動(dòng)，以Y更對(duì)成為凹痕纟企查目標(biāo)的FPD基板205的TAB 207a的區(qū)域進(jìn)行照 相。也就是說(shuō)，線掃描相機(jī)210通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250而移動(dòng)，使得線 掃描相機(jī)210定位在臺(tái)220下方，其中臺(tái)220安裝FPD基板205，且凹痕檢 查區(qū)域的TAB 207a附接到FPD基板205。
設(shè)置在待首先檢查的TAB 207a的區(qū)域中的線掃描相機(jī)210在預(yù)先由位 移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上移動(dòng)到凹痕檢查區(qū)域，且在實(shí)時(shí)執(zhí)行自 動(dòng)對(duì)焦時(shí)對(duì)第一凹痕圖像進(jìn)行照相和掃描。此時(shí)，位移傳感器230耦合到 線掃描相機(jī)210的前表面部分的一側(cè)，以在前進(jìn)了At的位置處測(cè)量線掃描 相機(jī)210與待檢查的FPD基板205之間的位移。也就是說(shuō)，位移傳感器230 事先測(cè)量成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板205的平面度，使得在線掃描相機(jī) 210到達(dá)凹痕檢查區(qū)域之前，線掃描相機(jī)210可準(zhǔn)確地執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
一般來(lái)說(shuō)，尺寸較小的FPD基板205是平面的，如由圖13中的虛線所 示。然而，在尺寸較大的FPD基板205的情況下，即使在FPD基板205穩(wěn) 定地安裝在臺(tái)220上時(shí)，F(xiàn)PD基板205的一部分還是會(huì)下陷，如在由實(shí)線所 示的FPD基板205S中。
由此，當(dāng)FPD基板205的平面度由于FPD基板205的下陷(由于尺寸 增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板檢查設(shè)備(參看圖1)中， FPD基板205的下陷量可能超過(guò)自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍，且因此可能需要執(zhí)行搜 索功能。因此，可能增加生產(chǎn)時(shí)間的量。
因此，為了解決根據(jù)相關(guān)技術(shù)的上述問(wèn)題，在本發(fā)明中，即使在FPD 基板205S由于基板檢查設(shè)備201的尺寸增加的緣故而下陷時(shí)，位移傳感器 230也預(yù)先測(cè)量關(guān)于FPD基板205S的平面度的信息，并將其傳輸?shù)娇刂茊?br>
21元260。接著，控制單元260可預(yù)先移動(dòng)線掃描相機(jī)210,以便增加自動(dòng)對(duì) 焦跟蹤范圍。當(dāng)線掃描相機(jī)210移動(dòng)時(shí)，線掃描相機(jī)210可在實(shí)時(shí)執(zhí)行自 動(dòng)對(duì)焦的同時(shí)對(duì)凹痕圖像進(jìn)4亍照相和^r查。
具體地說(shuō)，圖13的(A)中所示的線掃描相機(jī)210接收關(guān)于從位移傳 感器230前進(jìn)了At的位置處的FPD基板的平面度的信息，并在光學(xué)系統(tǒng)移 動(dòng)單元250的參考位置處執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。圖13的(B)中所示的線掃描相 機(jī)210接收指示從位移傳感器2 30前進(jìn)了 At的位置處的FPD基板205S向上 彎曲的狀態(tài)的信息，并在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250上升之后執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。 圖13的(C)中所示的線掃描相機(jī)210接收指示從位移傳感器230前進(jìn)了 At的位置處的FPD基板205S向下彎曲的狀態(tài)的信息，并在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單 元250下降之后4丸行自動(dòng)對(duì)焦。
由此，耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部分的一側(cè)的位移傳感器230 定位在移動(dòng)的線掃描相機(jī)210前面，并預(yù)先獲得關(guān)于FPD基板205和205S 的平面度的信息，并將其傳輸?shù)娇刂茊卧?60。線掃描相機(jī)210可在移動(dòng)的 同時(shí)實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
由此，使用根據(jù)本發(fā)明的基板檢查設(shè)備201，有可能在線掃描相機(jī)210 移動(dòng)時(shí)，對(duì)FPD基板205的TAB 207a的區(qū)域^丸行凹痕才企查，且因此臺(tái)220 不需要執(zhí)行復(fù)雜的操作，例如移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)。因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減 少設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間，這減少了制造成本。
另外，線掃描相機(jī)210可在連續(xù)移動(dòng)時(shí)執(zhí)行照相操作，使得線掃描相 機(jī)210可通過(guò)預(yù)先從位移傳感器230獲得關(guān)于FPD基板205的平面度的信 息來(lái)實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。因此，有可能減少執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時(shí)間 的總量，并增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。即使在FPD基板205的平面度由于FPD 基板205的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)，也可通過(guò)實(shí)時(shí)執(zhí)行 自動(dòng)對(duì)焦來(lái)進(jìn)行檢查，而無(wú)需在預(yù)定范圍內(nèi)使用搜索功能，這總體上改進(jìn) 了檢查效率。
圖14是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第三示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的示意性透 視圖。
將在關(guān)注與第二示范性實(shí)施例的部分不同的部分的同時(shí)，描述第三示 范性實(shí)施例。在第三示范性實(shí)施例中，與第二示范性實(shí)施例相同的組成元 件由相同的參考標(biāo)號(hào)表示，且不同的組成元件由添加了字符"a"的參考標(biāo) 號(hào)表示。
如圖14中所示，根據(jù)本發(fā)明第三示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備201a 包含光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元(未圖示)，其構(gòu)造成允許交叉方向上的線性運(yùn)動(dòng)； 兩個(gè)線掃描相才幾210和210a，其沿光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元移動(dòng)，即在X和Y方 向上移動(dòng)；和兩個(gè)位移傳感器230和230a。因此，與根據(jù)第二示范性實(shí)施例的可檢查具有一個(gè)檢查表面(短邊)
的FPD基板205的基板檢查設(shè)備201不同，根據(jù)第三示范性實(shí)施例的基板 檢查設(shè)備201a將FPD基板205a (待檢查)穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上，其中 TAB 207a和207b附接到FPD基板205a的待檢查的兩個(gè)邊(短邊和長(zhǎng)邊)； 并檢查FPD基板205a。
在此結(jié)構(gòu)中，基板檢查設(shè)備201a可將FPD基板205a (待檢查)穩(wěn)定地 安裝在臺(tái)220上，其中TAB 207a和207b附接到FPD基板205a的待4企查的 兩個(gè)邊(短邊和長(zhǎng)邊)，且可沖企查FPD基板205a。
另外，基板4全查設(shè)備201a包含兩個(gè)線掃描相機(jī)210和210a以及兩個(gè) 位移傳感器230和230a，且可同時(shí)4企查附接到短邊的TAB 207a的區(qū)域和附 接到長(zhǎng)邊的TAB 207b的區(qū)域兩者。
因此，除根據(jù)上文所述的第二示范性實(shí)施例的效果之外，可同時(shí)檢查 兩個(gè)4企查表面，從而提高4全查速度。因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少生產(chǎn) 時(shí)間的量，且可改進(jìn)^r查效率。
圖15和16是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第四示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的透視 圖，且圖17和18是圖15和16中所示的基板支撐臺(tái)的平面圖。
圖15到18中所示的基板支撐臺(tái)可在上述基板檢查設(shè)備中使用，或可在 除所述基板檢查設(shè)備之外的各種設(shè)備中使用，以便支撐基板G。
如圖15到18中所示，根據(jù)此實(shí)施例的基板支撐臺(tái)包含設(shè)備主體301; 多個(gè)襯墊310,其支撐基板G;移動(dòng)支撐單元320,其可移動(dòng)地支撐所述多 個(gè)襯墊310，使得所述多個(gè)襯墊31(M皮此接近(參看圖16和18)或以規(guī)則 間隔彼此遠(yuǎn)離(參看圖15和17);以及第一和第二導(dǎo)軌331和332。
設(shè)備主體301是形成根據(jù)本實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的外部的部分。在本 實(shí)施例中，由于圖中僅繪示多個(gè)襯墊310、移動(dòng)支撐單元以及第一和第 二導(dǎo)軌331和332，所以設(shè)備主體301是局部繪示的。
然而，實(shí)際上，除圖中所示的組件之外，設(shè)備主體301還系統(tǒng)地耦合 到外圍裝置。舉例來(lái)說(shuō)，當(dāng)根據(jù)本發(fā)明的基板支撐臺(tái)在檢查系統(tǒng)中使用時(shí)， 可進(jìn)一步將上/下單元或左/右移動(dòng)單元耦合到設(shè)備主體301。
多個(gè)襯墊310通過(guò)支撐基板G的底面而支撐基板G。因此，實(shí)質(zhì)上接觸 基板G的襯墊310的每一者均優(yōu)選由不會(huì)對(duì)由玻璃制成的基板G施加損壞 (例如劃痕)的材料形成。舉例來(lái)說(shuō)，可通過(guò)在后處理期間對(duì)鋁材料進(jìn)行陽(yáng) 極氧化來(lái)制造襯墊310。這樣，當(dāng)通過(guò)陽(yáng)極氧化工藝來(lái)制造襯墊310時(shí)，襯 墊不會(huì)對(duì)由玻璃制成的基板G施加例如劃痕的損壞。
為參考起見(jiàn)，也稱為陽(yáng)極氧化涂覆工藝的陽(yáng)極氧化方法是指在金屬表 面上形成氧化物膜以便通過(guò)氧化膜來(lái)防止在空氣中不斷進(jìn)行氧化的工藝。 陽(yáng)極氧化方法在各種領(lǐng)域中使用，但在鋁材料中廣泛使用，因?yàn)殇X材料具有在氧化時(shí)因脆弱材料的緣故而容易破裂的特性。且在此實(shí)施例中，在襯
墊310的材料中使用陽(yáng)極氧化方法。
圖中所示的村墊310以"U"形狀或階梯狀形成，但本發(fā)明并非局限于 此。也就是說(shuō)，襯墊310不一定具有圖中所示的結(jié)構(gòu)。襯墊310中并非每 一者均由參考標(biāo)號(hào)來(lái)表示。當(dāng)襯墊310形成為具有圖中所示的形狀時(shí)，有可 能防止襯墊310在支撐相對(duì)較重的基板G的過(guò)程中變形。
在此實(shí)施例中，襯墊310的數(shù)目為12。然而，本發(fā)明并非局限于此， 且襯墊310的數(shù)目可大于或小于12。為了便于闡釋，假設(shè)如圖中所示提供 12個(gè)襯墊310來(lái)進(jìn)4于描述。
可將12個(gè)襯墊310分成一對(duì)固定襯墊310a (即兩個(gè)襯墊)、兩對(duì)驅(qū)動(dòng) 襯墊310b (四個(gè)驅(qū)動(dòng)襯墊)和多對(duì)從動(dòng)襯墊310c (即，六個(gè)從動(dòng)襯墊)。 在此情況下，將所述對(duì)固定襯墊310a提供成定位并固定在中心區(qū)域中，且 將所述兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b兩個(gè)接兩個(gè)地提供在12個(gè)襯墊310的兩端。將 所述多對(duì)從動(dòng)襯墊310c ^是供在所述對(duì)固定襯墊310a與所述兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊 310b之間。
出于以下原因，可以上述方法來(lái)劃分12個(gè)襯墊310。固定村墊310a固 定在對(duì)應(yīng)位置處，且從動(dòng)襯墊310c在從動(dòng)襯墊310c與驅(qū)動(dòng)襯墊310b互鎖 的狀態(tài)下移動(dòng)。
為參考起見(jiàn)，在圖中，將固定襯墊310a繪示為面積大于驅(qū)動(dòng)襯墊310b 和從動(dòng)襯墊310c。另外，將固定襯墊310a中的每一者設(shè)置在從連接驅(qū)動(dòng)襯 墊310b與/人動(dòng)襯墊310c的虛擬線向一側(cè)偏離的位置處。然而，由于此結(jié) 構(gòu)僅為一個(gè)示范性實(shí)施例，所以本發(fā)明并非局限于此。也就是說(shuō)，固定村 墊310a設(shè)置在連接驅(qū)動(dòng)村墊310b與從動(dòng)襯墊310c的虛擬線上，且與驅(qū)動(dòng) 襯墊310b和從動(dòng)村墊310c具有相同面積。
所述對(duì)固定襯墊310a通過(guò)固定襯墊連接部分312a彼此連接，所述兩 對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b通過(guò)對(duì)應(yīng)的驅(qū)動(dòng)襯墊連接部分312b彼此連接，且所述多 對(duì),人動(dòng)襯墊310c通過(guò)對(duì)應(yīng)的/人動(dòng)襯墊連接部分312c -波此連接。因此，驅(qū)動(dòng) 襯墊連接部分312b和從動(dòng)襯墊連接部分312c (固定襯墊連接部分312a除 外)與兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b和多對(duì)從動(dòng)襯墊310c —起移動(dòng)。
同時(shí)，12個(gè)襯墊310在彼此接近(參看圖16和18 )和彼此以規(guī)則間 隔遠(yuǎn)離(參看圖15和17)時(shí)支撐具有不同尺寸的基板(未圖示)。由此， 提供移動(dòng)支撐部分320以及第一和第二導(dǎo)軌331和332，使得12個(gè)襯墊310 彼此接近和以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離。
移動(dòng)支撐部分320與上述襯墊連接部分312a到312c部分地鏈接。移 動(dòng)支撐部分320包含多個(gè)鏈接部分323a和323b，所述多個(gè)鏈接部分經(jīng)設(shè)置 以彼此交叉并彼此接近和彼此遠(yuǎn)離；和多個(gè)鉸接銷部分325a和325b,其在
24多個(gè)鏈接部分323a和323b的相交點(diǎn)處，整體地4交接耦合到多個(gè)鏈接部分 323a和323b以及襯墊連接部分312a到312c。
在此實(shí)施例中，將形成移動(dòng)支撐部分320的多個(gè)鏈接部分323a和323b 分成多個(gè)單元鏈接群組320a和320b，其以固定襯墊連接部分312a為基礎(chǔ)， 在左側(cè)和右側(cè)處彼此獨(dú)立。如圖15到18中所示，兩個(gè)單元鏈接群組320a 和320b具有相同結(jié)構(gòu)，且對(duì)稱設(shè)置(主要參看圖16)。
形成兩個(gè)單元鏈接群組320a和320b的鏈接部分323a和323b具有相 同單元長(zhǎng)度。因此，當(dāng)兩個(gè)單元鏈接群組320a和320b操作時(shí)，多個(gè)襯墊 310可卩波此接近(參看圖16和18 )和以相同間隔H (參看圖17 );波此遠(yuǎn)離 (參看圖15和17)。
在固定到固定襯墊連接部分312a的多個(gè)鉸接銷部分325a和325b之間 的4交接銷部分325a'和325b'形成參考點(diǎn)，兩個(gè)獨(dú)立單元鏈接群組320a和 320b在所述參考點(diǎn)處移動(dòng)。在此實(shí)施例中，形成兩個(gè)獨(dú)立單元鏈接群組320a 和320b移動(dòng)的參考點(diǎn)的鉸接銷部分325a'和325b'在固定襯墊連接部分 312a上彼此遠(yuǎn)離的位置處形成(參看圖16)。
同時(shí)，在多個(gè)襯墊310根據(jù)移動(dòng)支撐部分320的操作而彼此接近和以 相同間隔H (參看圖17)彼此遠(yuǎn)離的情況下，提供第一和第二導(dǎo)軌331和 332以穩(wěn)定地引導(dǎo)襯墊310的移動(dòng)。
第一導(dǎo)軌331耦合到兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b，并引導(dǎo)所述兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊 310b的移動(dòng)，使得兩對(duì)驅(qū)動(dòng)村墊310b可在多個(gè)襯墊310彼此接近和彼此遠(yuǎn) 離的方向上移動(dòng)。也就是說(shuō)，如圖15和16中所示，兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b可 沿第一導(dǎo)軌331的縱向方向移動(dòng)。此時(shí)，第一導(dǎo)軌331可進(jìn)一步耦合到驅(qū) 動(dòng)單元(未圖示)，所述驅(qū)動(dòng)單元獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b,即驅(qū)動(dòng)兩 對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b，使得鏈接部分323a和323b彼此接近(參看圖16和18) 和彼此遠(yuǎn)離預(yù)定長(zhǎng)度(圖15和17 )。
另外，第二導(dǎo)軌332耦合到多對(duì)從動(dòng)襯墊310c,并引導(dǎo)所述多對(duì)從動(dòng) 襯墊310c的移動(dòng)。第一和第二導(dǎo)軌331和332可由線性運(yùn)動(dòng)或類似運(yùn)動(dòng)來(lái) 實(shí)施。
為了防止第一與第二導(dǎo)軌331與332之間發(fā)生相對(duì)干擾，在此實(shí)施例 中，在相對(duì)低于第二導(dǎo)軌332的位置處提供第一導(dǎo)軌331。由此，為了使第 一導(dǎo)軌331提供在相對(duì)低于第二導(dǎo)軌332的位置處，可將兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b 形成為長(zhǎng)度大于多對(duì)從動(dòng)襯墊310c的長(zhǎng)度，如圖中所示。
現(xiàn)將描述具有上述結(jié)構(gòu)的基板支撐臺(tái)的操作。
在鏈接部分323a和323b彼此接近且多個(gè)襯墊310彼此接近(如圖16 和18中所示)的初始位置處，包含在第一導(dǎo)軌331中的驅(qū)動(dòng)單元操作，以 便使鏈接部分323a和323b彼此遠(yuǎn)離，且使襯墊310以相同間隔H (參看圖17)彼此遠(yuǎn)離，如圖15和17中所示。
此時(shí)，根據(jù)單獨(dú)控制信號(hào)，驅(qū)動(dòng)單元獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b， 使得鏈接部分323a和323b變成彼此遠(yuǎn)離預(yù)定長(zhǎng)度(參看圖16和18 )。
由此，如果兩對(duì)驅(qū)動(dòng)村墊310b沿第一導(dǎo)軌331在相反方向上移動(dòng)，那 么多對(duì)從動(dòng)襯墊310c根據(jù)鏈接部分323a和323b的操作也彼此遠(yuǎn)離與兩對(duì) 驅(qū)動(dòng)4于墊310b的移動(dòng)距離相同的距離。
因此，最終，如圖15和17中所示，襯墊310可以相同間隔H (參看圖 17 )彼此遠(yuǎn)離。在此狀態(tài)下，基板G穩(wěn)定地安裝在襯墊310上并以此種方 式被支撐。此時(shí)，由于基板G不會(huì)損壞或由襯墊310支撐的基板中不會(huì)出 現(xiàn)下陷，所以有可能執(zhí)行穩(wěn)定的過(guò)程，例如纟企查工作。
為參看起見(jiàn)，如果不提供驅(qū)動(dòng)單元，那么操作者可在相反方向上拉動(dòng) 兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b，以便將兩對(duì)驅(qū)動(dòng)村墊310b設(shè)置在所需位置處。
如上文所述，根據(jù)此實(shí)施例，可穩(wěn)定地支撐具有不同尺寸的基板，同時(shí) 可防止基板G損壞或下陷。
圖19是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第五示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的透視圖。
在上述示范性實(shí)施例中，基板G直接安裝在多個(gè)襯墊310的頂面上并 以此種方式^t支撐。然而，如圖19中所示，可進(jìn)一步在多個(gè)襯墊310的頂 面上提供支撐基板G的輔助支撐襯墊340。
在此情況下，輔助支撐襯墊340中的每一者可具有寬條形狀，且可耦 合到一對(duì)襯墊310，即一對(duì)固定襯墊310a、兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b中的每一對(duì) 和多對(duì)從動(dòng)襯墊310c中的每一對(duì)。如圖19中所示，如果進(jìn)一步提供單獨(dú) 的輔助支撐襯墊340，那么有可能在較寬面積上支撐基板G，這穩(wěn)定地支撐 了基板G。
圖20和21是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第六示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的透視圖。
在上述第一和第二示范性實(shí)施例中，形成兩個(gè)獨(dú)立單元鏈接群組320a 和320b移動(dòng)的參考點(diǎn)的鉸接銷部分325a'和325b'被提供在固定襯墊連接 部分312a上彼此遠(yuǎn)離的位置處(參看圖16)。因此，在兩個(gè)單元鏈接群組 320a和320b不是彼此連接而是實(shí)質(zhì)上彼此遠(yuǎn)離的狀態(tài)下，在設(shè)備主體301 中提供兩個(gè)單元鏈接群組320a和320b。
然而，與第一和第二示范性實(shí)施例不同，形成兩個(gè)獨(dú)立單元鏈接群組 320a和320b移動(dòng)的參考點(diǎn)的鉸接銷部分325a'和325b'可提供在固定襯墊 連接部分312a上的同一位置處，如圖20和21中所示。
在此情況下，形成兩個(gè)單元鏈接群組320a和320b的鏈接部分323a和 323b可繪示為仿佛其彼此連接。此結(jié)構(gòu)可達(dá)到本發(fā)明的效果。
圖22和23是根據(jù)本發(fā)明第七示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的平面圖。
26在上述示范性實(shí)施例中，多個(gè)襯墊310彼此接近和以相同間隔H (參看 圖17)彼此遠(yuǎn)離。然而，如圖22和23中所示，當(dāng)鏈接部分323c和323d 構(gòu)造成具有不同單元長(zhǎng)度時(shí)，多個(gè)襯墊310可彼此接近且以規(guī)則間隔H3和 H4 (不是相同的間隔)彼此遠(yuǎn)離。在一些情況下，多個(gè)襯墊310可經(jīng)構(gòu)造 以使其彼此接近和以相同的間隔彼此遠(yuǎn)離。
在上述第一示范性實(shí)施例中，省略了描述，但在FPD基板中，TAB可附 接到一邊、兩個(gè)選定邊或所有的四個(gè)邊。在此情況下，光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元、 位移傳感器和相機(jī)被設(shè)計(jì)成根據(jù)所提供的TAB而提供在對(duì)應(yīng)位置處。
在上述第一示范性實(shí)施例中，凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)沿對(duì)應(yīng)的 光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元一起移動(dòng)。然而，凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)可獨(dú)立 于對(duì)應(yīng)的光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元而移動(dòng)。這可應(yīng)用于位移傳感器。在此情況下， 具有可個(gè)別地執(zhí)行在凹痕檢查與裂縫檢查之間選擇的一種檢查的優(yōu)勢(shì)。
一般來(lái)說(shuō)，在裂縫檢查的情況下，在整個(gè)間隔上以較高速度執(zhí)行裂縫 檢查，但在凹痕檢查的情況下，由于凹痕檢查的特性，所以可執(zhí)行部分檢 查且同時(shí)對(duì)對(duì)應(yīng)區(qū)域進(jìn)行緩慢的4企查。因此，凹痕檢查相機(jī)、裂縫4企查相 機(jī)和位移傳感器中的每一者的移動(dòng)速度可被控制為不同速度。具體來(lái)說(shuō)，當(dāng) 凹痕檢查相機(jī)與位移傳感器之間的組合相對(duì)較緩慢地被驅(qū)動(dòng)且裂縫檢查相 機(jī)以較高速度獨(dú)立地被驅(qū)動(dòng)時(shí)，可執(zhí)行檢查。
在上述第一示范性實(shí)施例中，可將線掃描相機(jī)用作相機(jī)。然而，由于 相機(jī)可如上文所述由位移傳感器和控制單元來(lái)控制，所以在一些情況下可 將面陣相機(jī)用作相機(jī)。
在上述第二和第三示范性實(shí)施例中，關(guān)于線掃描相機(jī)的移動(dòng)方向，在位 移傳感器耦合到線掃描相機(jī)的前表面部分的一側(cè)的狀態(tài)下，位移傳感器與 線掃描相^JL一起移動(dòng)。然而，可實(shí)施以下結(jié)構(gòu)。位移傳感器可遠(yuǎn)離線掃描 相機(jī)預(yù)定距離，而不與線掃描相機(jī)集成，且可以不同速度個(gè)別地移動(dòng)。
在上述第四到第七示范性實(shí)施例中，多個(gè)襯墊中的固定襯墊提供在中 心區(qū)域中，且驅(qū)動(dòng)襯墊設(shè)置在兩側(cè)。然而，固定襯墊可設(shè)置在多個(gè)襯墊的 一端上，驅(qū)動(dòng)襯墊可設(shè)置在多個(gè)村墊的另一端上，且從動(dòng)村墊可設(shè)置在固 定襯墊與驅(qū)動(dòng)襯墊之間。即使在此情況下，也可獲得相同效果。
如上文所述，根據(jù)本發(fā)明的基板檢查設(shè)備和基板支撐臺(tái)會(huì)產(chǎn)生以下效果。
第一，由于單個(gè)檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查，所以可改 進(jìn)^r查效率且可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，從而改進(jìn)生產(chǎn)率。另外，由于可防止 需要不必要的外圍裝置，所以可減小工作空間，從而與相關(guān)技術(shù)相比，減少 各種損失。
第二，有可能減少執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時(shí)間的總量，并增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。即使在基板的平面度由于基板的下陷(由于尺寸增加的緣 故)而不規(guī)則時(shí)，也可執(zhí)行有效檢查，且可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。
第三，與相關(guān)技術(shù)相比，可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間，且相機(jī)可 安裝在基板的每一表面上，從而減少執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時(shí)間的總量。
所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)了解，可在不脫離如由所附權(quán)利要求書所界定 的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，對(duì)其作出形式和細(xì)節(jié)上的各種替換、修 改和改變。因此，應(yīng)了解，上文所述的實(shí)施例僅是出于說(shuō)明的目的，且不 應(yīng)被解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。
權(quán)利要求
1.一種基板支撐臺(tái)，其包括多個(gè)襯墊，其支撐基板；以及移動(dòng)支撐部分，其可移動(dòng)地支撐所述多個(gè)襯墊，使得所述多個(gè)襯墊彼此接近和以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板支撐臺(tái)，其中所述多個(gè)襯墊包含 一對(duì)固定襯墊，其/人所述多個(gè)襯墊中選出；至少一對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊，其從所述多個(gè)襯墊中選出，并遠(yuǎn)離所述對(duì)固定襯 墊而定4立；以及多對(duì)從動(dòng)襯墊，其設(shè)置在所述對(duì)固定襯墊與所述對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊之間。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板支撐臺(tái)，其中所述對(duì)固定襯墊定位并 固定在所述多個(gè)襯墊的中心處，且至少所述對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊設(shè)置在所述多個(gè)襯 墊的兩側(cè)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板支撐臺(tái)，其進(jìn)一步包括 固定襯墊連接部分，其使所述對(duì)固定襯墊彼此連接； 驅(qū)動(dòng)襯墊連接部分，其使至少所述對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊彼此連接；以及 從動(dòng)襯墊連接部分，其中的每一者均使所述多對(duì)從動(dòng)襯墊中的每一對(duì)對(duì)應(yīng)的從動(dòng)襯墊4皮此連才妄，其中所述移動(dòng)支撐部分部分地鏈接到所述襯墊連接部分。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板支撐臺(tái)，其中所述移動(dòng)支撐部分包含 多個(gè)鏈接部分，其設(shè)置成彼此交叉，且彼此接近和彼此遠(yuǎn)離；以及 多個(gè)鉸接銷部分，其在所述多個(gè)鏈接部分的相交點(diǎn)處，整體地鉸接耦合到所述多個(gè)鏈接部分和所述多個(gè)襯墊連接部分。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板支撐臺(tái)，其中所述多個(gè)鏈接部分分成 兩個(gè)獨(dú)立的單元鏈接群組，且所述兩個(gè)單元鏈接群組中的每一者均從所述 固定襯墊連接部分朝向每一驅(qū)動(dòng)襯墊連接部分一側(cè)形成。
7. 才艮據(jù)權(quán)利要求6所述的基板支撐臺(tái)，其中在所述兩個(gè)單元鏈接群 組中所提供的所述多個(gè)鉸接銷部分中，將鉸接耦合到所述固定村墊連接部 分的鉸接銷部分提供為在所述固定襯墊連接部分上彼此遠(yuǎn)離。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板支撐臺(tái)，其中在所述兩個(gè)單元鏈接群 組中所提供的所述多個(gè)鉸接銷部分中，將鉸接耦合到所述固定村墊連接部 分的鉸接銷部分提供在所述固定襯墊連接部分上的同 一位置處。
9. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板支撐臺(tái)，其進(jìn)一步包括 第一導(dǎo)軌，其耦合到所述至少一對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊，并引導(dǎo)所述至少一對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊的移動(dòng)，使得所述至少一對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊在所述多個(gè)襯墊彼此接近和彼jt匕遠(yuǎn)離的方向上移動(dòng)；以及第二導(dǎo)軌，其耦合到所述多對(duì)從動(dòng)襯墊，并引導(dǎo)所述多對(duì)從動(dòng)襯墊的移動(dòng)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板支撐臺(tái)，其進(jìn)一步包括 設(shè)備主體，其支撐所述第一和第二導(dǎo)軌，其中，在所述設(shè)備主體中，將所述第一導(dǎo)軌提供在比所述第二導(dǎo)軌相 對(duì)較低的位置處。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板支撐臺(tái)，其中獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)所述至少一 對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊的驅(qū)動(dòng)單元進(jìn)一步耦合到所述第一導(dǎo)軌。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板支撐臺(tái)，其中所述多個(gè)襯墊借助所述 移動(dòng)支撐部分而彼此接近和以相等間隔彼此遠(yuǎn)離。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板支撐臺(tái)，其進(jìn)一步包括輔助支撐襯墊，其耦合到所述多個(gè)襯墊的頂面，并支撐所述基板。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板支撐臺(tái)，其中提供多個(gè)輔助支撐襯 墊，且所述多個(gè)輔助襯墊各自耦合到所述多對(duì)村墊中的每一對(duì)。
全文摘要
本發(fā)明揭示一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備。一種基板檢查設(shè)備包括臺(tái)，其上面穩(wěn)定地安裝有基板，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述基板的一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個(gè)凹痕檢查相機(jī)，其對(duì)所述TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述TAB中是否出現(xiàn)凹痕；至少一個(gè)裂縫檢查相機(jī)，其對(duì)所述TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述基板的TAB區(qū)域中是否出現(xiàn)裂縫；以及光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元，其支撐所述凹痕檢查相機(jī)和所述裂縫檢查相機(jī)，以便相對(duì)于所述臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)。
文檔編號(hào)G01N21/95GK101666760SQ20091017986
公開(kāi)日2010年3月10日 申請(qǐng)日期2007年6月12日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月13日
發(fā)明者崔裕燦, 樸珉鎬, 洪旋珠 申請(qǐng)人:Sfa工程股份有限公司