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      二維圖形圓度測量裝置的制作方法

      文檔序號:5854040閱讀:248來源:國知局
      專利名稱:二維圖形圓度測量裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及一種二維圖形的圓度測量裝置,尤為是一種二維圖形或 薄形零件的圓度的精確測量裝置。
      技術(shù)背景
      隨著集成電路制造技術(shù)的發(fā)展,對電路板,集成電路掩膜等的測量 需求不斷增加,使影像測量儀的應(yīng)用越來越廣泛。在進(jìn)行影像測量儀(影 像測頭的坐標(biāo)測量機(jī))校準(zhǔn)時,需要使用圓形標(biāo)準(zhǔn)圖形。因此,標(biāo)準(zhǔn)圓的高 精度形狀評價在影像測量儀的校準(zhǔn)體系中起著關(guān)鍵的作用。圓度誤差測量 方法是非常重要的形狀誤差評價技術(shù)之一,圓度誤差的測量方法主要分為 兩種接觸式測量和非接觸式測量。目前商業(yè)圓度儀均釆用接觸式測量技 術(shù),通過測量有一定高度的圓環(huán)、圓錐或圓球表面,評價三維回轉(zhuǎn)體側(cè)面 的圓度誤差,但這種方法無法測量平面上刻劃圖形的圓度。圓度誤差的非 接觸測量主要有兩種激光掃描法利用光學(xué)窗口與工件邊緣形成的狹縫, 對掃描光東的通過和遮斷而產(chǎn)生的光強(qiáng)調(diào)制作用來實現(xiàn)測量的,其亦是對 有一定高度的圓環(huán)、圓錐或圓球表面的圓度誤差評價,另一是基于計算機(jī) 視覺的圓度測量方法,實際上是影像測量儀,釆用CCD傳感器釆集零件的 圖像信息,然后通過數(shù)字圖像處理方法得到零件的外形尺寸,從而達(dá)到圓 度測量的目的,但該方法或裝置的分辨力降低,測量精度不高,無法適應(yīng) 現(xiàn)在技術(shù)的發(fā)展的要求。發(fā)明內(nèi)容
      本實用新型的發(fā)明目的是公開一種測量精度高的二維圖形圓度裝置。 實現(xiàn)本實用新型的技術(shù)解決方案如下包括底座,底座上設(shè)有可調(diào)位置 和傾斜功能的旋轉(zhuǎn)臺和調(diào)節(jié)支撐,特別是旋轉(zhuǎn)臺上設(shè)有載物臺,調(diào)節(jié)支撐 上設(shè)有可調(diào)節(jié)位置并位于載物臺下方的下照明光源,顯微成像裝置和圖象 傳感器設(shè)于載物臺上方,圖象傳感器接數(shù)據(jù)處理裝置。
      所述的顯微成像裝置為低倍物鏡。
      所述的顯微成像裝置為高倍物鏡。
      所述的載物臺上方設(shè)有上照明光源。
      所述的上照明光源與顯微成像裝置同軸設(shè)置。
      所述的下照明光源與上照明光源可同軸設(shè)置。
      本實用新型使用時,將待測的二維圖形或工件置于載物臺上,根據(jù)被測 材料不同選擇下照明光源或上照明光源,顯微成像裝置得到工件邊緣圖像, 旋轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)得到各局部區(qū)域的圖像,即獲得二維圖形或工件的半徑變化的 數(shù)據(jù),進(jìn)而通過標(biāo)準(zhǔn)的計算方法得到圖形的圓度評價。本實用新型結(jié)構(gòu)簡 單,將已有技術(shù)的各裝置進(jìn)行集成和組合為本裝置,旋轉(zhuǎn)臺的可調(diào)節(jié)和顯 微成像裝置的可調(diào)節(jié),使操作人員的操作相當(dāng)方便,測量工作快捷,效率 高且測量的精度高。


      圖1為本實用新型的實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
      具體實施方式
      請參見圖1,本實用新型的具體實施例如下包括底座1,底座1起平穩(wěn)作用并支撐整個裝置,底座1上設(shè)有旋轉(zhuǎn)臺2,旋轉(zhuǎn)臺2可作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動或
      擺動,底座1上還有調(diào)節(jié)支撐3,關(guān)鍵是旋轉(zhuǎn)臺2設(shè)有載物臺4,載物臺4 可隨旋轉(zhuǎn)臺2的運(yùn)動而相應(yīng)運(yùn)動,調(diào)節(jié)支撐3設(shè)有可調(diào)節(jié)位置并位于載物 臺4下方的下照明光源5,顯微成像裝置7和圖象傳感器8設(shè)于載物臺4的 上方,上述的顯微成像裝置7和圖象傳感器8設(shè)于可橫向調(diào)節(jié)位置的橫向 支撐11上,橫向支撐11可相對調(diào)節(jié)支撐3上下位移調(diào)整,該橫向支撐為 精密的機(jī)械構(gòu)成并為已有技術(shù),圖象傳感器8接數(shù)據(jù)處理裝置9,實際測量 中顯微成像裝置7可以是高、低倍物鏡以適應(yīng)各種不同階段或精度測量的 需要。
      實際測量時,將被測工件10置于在載物臺4上,根據(jù)被測工件10的材 質(zhì)不同,釆用下照明光源5或上照明光源6對工件10進(jìn)行照明,顯微成像 裝置7瞄準(zhǔn)被測工件10的圖形邊緣,調(diào)節(jié)顯微成像裝置7的高度,旋轉(zhuǎn)臺 2的傾斜和載物臺4的回轉(zhuǎn)中心位置,使被測工件10與旋轉(zhuǎn)臺2的旋轉(zhuǎn)軸 垂直,并與旋轉(zhuǎn)臺2回轉(zhuǎn)中心同心。
      在被測工件10的二維圖形中心與旋轉(zhuǎn)臺2回轉(zhuǎn)中心同心后,則使旋轉(zhuǎn) 臺2勻速旋轉(zhuǎn),同時采集圖像傳感器8階躍圖像的位置變化和旋轉(zhuǎn)臺2的 角位置數(shù)據(jù),按照標(biāo)準(zhǔn)方法計算上述數(shù)據(jù)以獲得被測工件10的圓度偏差; 由于被測工件10的材質(zhì)不同,可在載物臺4上方設(shè)有上照明光源6,上照 明光源6的位置可調(diào),當(dāng)有上、下照明光源時或當(dāng)被測工件10為透明材質(zhì) 時可更有利于測量;上照明光源6與顯微成像裝置7同軸設(shè)置,或下照明 光源5與上照明光源6同軸設(shè)置,可提高顯像的清晰度和提高測量精度。
      本實用新型利用顯微成像裝置和圖像傳感器測量平面二維圖形,避免接觸式探頭要求被測表面具有足夠?qū)捊佑|面的問題,利用上/下兩個照明裝置 以滿足不同材質(zhì)和圖形刻劃方式被測樣品的照明需要,并通過具有精密軸 系的旋轉(zhuǎn)臺將被測二維圖形勻速轉(zhuǎn)動,使用顯微成像裝置和圖像傳感器對 被測二維圖形進(jìn)行局部釆樣,并進(jìn)行數(shù)字圖像處理,獲得到二維圖形半徑 變化數(shù)據(jù),進(jìn)而通過標(biāo)準(zhǔn)的計算方法得到圖形的圓度評價。
      權(quán)利要求1.一種二維圖形圓度測量裝置,包括底座(1)、底座(1)上有可調(diào)節(jié)位置和傾斜功能的設(shè)旋轉(zhuǎn)臺(2)和調(diào)節(jié)支撐(3),其特征在于旋轉(zhuǎn)臺(2)上設(shè)有載物臺(4),調(diào)節(jié)支撐(3)上設(shè)有可調(diào)節(jié)位置并位于載物臺(4)下方的下照明光源(5),顯微成像裝置(7)和圖象傳感器(8)設(shè)于載物臺(4)上方,圖象傳感器(8)接數(shù)據(jù)處理裝置(9)。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的二維圖形圓度測量裝置,其特征在于所述的顯微成 像裝置(7)為低倍物鏡。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的二維圖形圓度測量裝置,其特征在于所述的顯微成 像裝置(7)為高倍物鏡。
      4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的二維圖形圓度測量裝置,其特征在于所 述的載物臺(4)上方設(shè)有上照明光源(6)。
      5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的二維圖形圓度測量裝置,其特征在于所述的上照明光源(6)與顯微成像裝置(7)同軸設(shè)置。
      6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的二維圖形圓度測量裝置,其特征在于所述的下照明光源(5)與上照明光源(6)可同軸設(shè)置。
      專利摘要本實用新型公開了一種測量精度高的二維圖形圓度裝置。包括底座(1),底座(1)上設(shè)有可調(diào)節(jié)位置和傾斜功能的旋轉(zhuǎn)臺(2)和調(diào)節(jié)支撐(3),特別是旋轉(zhuǎn)臺(2)上設(shè)有載物臺(4),調(diào)節(jié)支撐(3)上設(shè)有可調(diào)節(jié)位置并位于載物臺(4)下方的下照明光源(5),顯微成像裝置(7)和圖象傳感器(8)設(shè)于載物臺(4)上方,圖象傳感器(8)接數(shù)據(jù)處理裝置(9)。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單,旋轉(zhuǎn)臺的可調(diào)節(jié)和顯微成像裝置的可調(diào)節(jié),使操作人員的操作相當(dāng)方便,測量工作快捷,效率高且測量的精度高。
      文檔編號G01B11/24GK201387316SQ20092014779
      公開日2010年1月20日 申請日期2009年4月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月14日
      發(fā)明者任國營, 位恒政, 王為農(nóng), 王自軍, 蘇永昌, 裴麗梅, 鄭慶國 申請人:中國計量科學(xué)研究院
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