專利名稱：一種檢漏儀真空系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及分析儀器技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種檢漏儀真空系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
檢漏儀是一種用氦氣、氫氣等作為示漏氣體，以氣體分析儀(即質(zhì)譜計(jì))檢測示漏 氣體來進(jìn)行檢漏的質(zhì)譜儀。以氦質(zhì)譜檢漏儀為例，其基本工作原理是先將氦氣噴到置于 檢漏口上的被檢件上，檢漏口與質(zhì)譜室連通，質(zhì)譜室內(nèi)設(shè)有質(zhì)譜計(jì)，如果被檢件有漏隙，氦 氣將通過該漏隙進(jìn)入質(zhì)譜室，質(zhì)譜室內(nèi)的燈絲發(fā)射出來的電子在電離室內(nèi)來回振蕩，電子 與電離室內(nèi)氣體和經(jīng)被檢件漏隙進(jìn)入電離室的氦氣相互碰撞使其電離成正離子，這些離子 在加速電場作用下進(jìn)入磁場，受洛倫茲力作用而產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)，形成圓弧形軌道，改變加速電壓 可使不同質(zhì)量的離子通過磁場和接收縫到達(dá)接收極而被檢測，并可由此檢測出漏氣量的大 小，以及漏隙所在位置?，F(xiàn)有的檢漏儀主要分為兩種即正擴(kuò)散檢漏儀和逆擴(kuò)散檢漏儀。其中，正擴(kuò)散檢漏 儀是將被檢件所在的檢漏口和質(zhì)譜室連接在高真空泵(擴(kuò)散泵或分子泵)的高真空側(cè)進(jìn)行 檢漏操作。這種檢漏儀的缺點(diǎn)是由于高真空泵既要為檢漏口抽真空，又要為質(zhì)譜計(jì)的正常 工作提供3X 的高真空環(huán)境，導(dǎo)致這種檢漏儀的預(yù)抽時間很長，檢漏效率低，而且當(dāng) 被檢件大漏時，由于檢漏口與質(zhì)譜室連通，質(zhì)譜室內(nèi)壓強(qiáng)高，容易燒壞質(zhì)譜室中的燈絲。而 逆擴(kuò)散檢漏儀是將檢漏口和質(zhì)譜室隔離開，將質(zhì)譜室安裝在高真空泵的高真空側(cè)，而將檢 漏口連接到高真空泵的前級低真空泵真空側(cè)。之所以將這類檢漏儀稱為逆擴(kuò)散檢漏儀，是 因?yàn)閺谋粰z件漏隙進(jìn)入的示漏氣體，雖然大部分被前級低真空泵抽走，但仍然會有一部分 能逆著高真空泵抽除氣體的方向運(yùn)動，并在質(zhì)譜室中建立一個穩(wěn)定的示漏氣體壓強(qiáng)。雖然 這種檢漏儀的被檢件可以在高壓強(qiáng)下檢漏，預(yù)抽時間短、檢漏效率較高，但是由于大部分示 漏氣體被前級低真空泵抽走，當(dāng)需要對被檢件進(jìn)行精檢時，其靈敏度低和準(zhǔn)確度都比較差。為此，《成都儀器廠氦質(zhì)譜檢漏儀發(fā)展概況》(鞠世春，成都儀器廠)中介紹到“…… 推出了全新的ZLS-26D型分子泵檢漏儀?！瓋x器可以在測試口壓強(qiáng)近似大氣時采用逆擴(kuò) 散方式進(jìn)行檢漏，也可以在測試口壓強(qiáng)為50 以下時采用常規(guī)方式進(jìn)行檢漏?！鄙鲜鑫墨I(xiàn) 中給出了一種在檢漏口不同壓強(qiáng)下使用不同檢漏方式(正擴(kuò)散、逆擴(kuò)散)的檢漏儀，但是研 究人員發(fā)現(xiàn)，在一個檢測過程中，在不同檢測時段往往會需要不同檢漏方式，如果能結(jié)合這 兩種檢漏方式并根據(jù)需要進(jìn)行切換，那么將大大提高檢漏儀的檢漏效率，并能確保檢漏精 度。中國專利文獻(xiàn)CN1142605A中公開了一種氦檢漏儀，包括只檢測氦的質(zhì)量分析 部、對質(zhì)量分析部與被試驗(yàn)體均能進(jìn)行真空抽氣的主泵、起該主泵的初級抽氣泵作用的油 旋轉(zhuǎn)真空泵；在所述油旋轉(zhuǎn)真空泵上備有鎮(zhèn)氣口，在該鎮(zhèn)氣口上設(shè)置可有選擇地開關(guān)的電 磁閥，同時，設(shè)置當(dāng)用所述質(zhì)量分析部測定的氦測定值超過預(yù)定的門限值時，使所述電磁 閥保持一定時間開啟的控制手段。上述氦檢漏儀的氣路圖顯示，其可以根據(jù)需要選擇作為 正擴(kuò)散檢漏儀或逆擴(kuò)散檢漏儀使用，但是當(dāng)對被檢件進(jìn)行精檢時，需要打開檢測閥TV，對被檢測體EXP (被檢測件)進(jìn)一步抽真空，然而在打開TV后，質(zhì)量分析部ANAL (質(zhì)譜室)將與 被檢測體EXP直接連通，而被檢測體EXP處的空氣壓強(qiáng)比質(zhì)量分析部ANAL (質(zhì)譜室)高很 多，質(zhì)譜室內(nèi)空氣壓強(qiáng)會驟然升高，這樣很容易燒壞質(zhì)譜室中的燈絲。所以，當(dāng)這種氦質(zhì)譜 檢漏儀在轉(zhuǎn)換為正擴(kuò)散檢漏儀使用時，仍然存在質(zhì)譜室內(nèi)壓強(qiáng)高，燈絲容易燒壞的問題。
發(fā)明內(nèi)容為此，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于現(xiàn)有技術(shù)中的檢漏儀當(dāng)轉(zhuǎn)換為正擴(kuò)散 檢漏儀使用時，質(zhì)譜室內(nèi)壓強(qiáng)高，燈絲容易燒壞的技術(shù)問題，而提供一種將正擴(kuò)散檢漏儀和 逆擴(kuò)散檢漏儀結(jié)合起來，初檢時采用逆擴(kuò)散檢漏方式，檢漏效率高；精檢時采用正擴(kuò)散檢漏 方式，準(zhǔn)確度高、靈敏度高，而且在轉(zhuǎn)換為正擴(kuò)散檢漏方式時不會損壞質(zhì)譜室內(nèi)燈絲的檢漏 儀真空系統(tǒng)。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下一種檢漏儀真空系統(tǒng)，包括 檢漏口，放置被檢件； 質(zhì)譜室，檢測示漏氣體， 在所述質(zhì)譜室與所述檢漏口之間的氣路通道上設(shè)置有閥門； 真空泵機(jī)構(gòu)，用于對所述 檢漏口和所述質(zhì)譜室抽真空，在所述真空泵機(jī)構(gòu)與所述檢漏口之間的氣路通道上設(shè)置有閥 門； 所述質(zhì)譜室與所述檢漏口之間的氣路通道，和所述質(zhì)譜室與所述真空泵機(jī)構(gòu)之間 的氣路通道連接并形成節(jié)點(diǎn)，在所述節(jié)點(diǎn)與所述質(zhì)譜室之間的氣路通道上也設(shè)置有閥門。上述檢漏儀真空系統(tǒng)中，所述真空泵機(jī)構(gòu)包括前級低真空泵和高真空泵；在所述 前級低真空泵和所述高真空泵之間的氣路通道上設(shè)置有檢漏閥。上述檢漏儀真空系統(tǒng)中，所述節(jié)點(diǎn)與所述質(zhì)譜室之間氣路通道上的閥門為高真空 閥。上述檢漏儀真空系統(tǒng)中，所述質(zhì)譜室與所述檢漏口之間氣路通道上的閥門為精檢閥。上述檢漏儀真空系統(tǒng)中，所述前級低真空泵和所述檢漏口之間氣路通道設(shè)有預(yù)抽 閥。上述檢漏儀真空系統(tǒng)中，所述檢漏閥、所述高真空閥、所述預(yù)抽閥和所述精檢閥均 為電磁閥。上述檢漏儀真空系統(tǒng)中，所述高真空泵為分子泵，所述前級低真空泵為機(jī)械泵。本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案相比現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn)①本實(shí)用新型提供的檢漏儀真空系統(tǒng)，在質(zhì)譜室與檢漏口之間的氣路通道上設(shè)置 有閥門，質(zhì)譜室與檢漏口之間的氣路通道，和質(zhì)譜室與真空泵機(jī)構(gòu)之間的氣路通道連接并 形成節(jié)點(diǎn)，在節(jié)點(diǎn)與質(zhì)譜室之間的氣路通道上也設(shè)置有閥門，可以根據(jù)需要選擇閥門的開/ 關(guān)，從而將正擴(kuò)散檢漏方式和逆擴(kuò)散檢漏方式結(jié)合起來，并可根據(jù)需要選擇切換，在初檢時 采用逆擴(kuò)散檢漏方式，來對相對大漏的被檢件進(jìn)行排除，提高檢漏儀的檢漏效率，在微漏情 況下需要精檢時采用正擴(kuò)散檢漏方式，來減少示漏氣體的分流，從而達(dá)到提高檢漏靈敏度 和準(zhǔn)確度的目的，而且在由逆擴(kuò)散檢漏方式轉(zhuǎn)換為正擴(kuò)散檢漏方式后不會損壞質(zhì)譜室內(nèi)燈 絲；②本實(shí)用新型提供的檢漏儀真空系統(tǒng)，真空泵包括前級低真空泵和高真空泵，在 前級低真空泵和高真空泵之間的氣路通道上設(shè)置有檢漏閥，采用兩級真空泵系統(tǒng)，抽真空效率高；③本實(shí)用新型提供的檢漏儀真空系統(tǒng)，節(jié)點(diǎn)與質(zhì)譜室之間氣路通道上的閥門為高 真空閥，質(zhì)譜室與檢漏口之間氣路通道上的閥門為精檢閥，便于進(jìn)行氣路控制和正、逆擴(kuò)散 檢漏方式的轉(zhuǎn)換，實(shí)現(xiàn)在初檢時利用逆擴(kuò)散檢漏方式，提高檢漏效率，在微漏情況下需要精 檢時利用正擴(kuò)散檢漏方式，提高檢漏靈敏度和準(zhǔn)確度，并且在由逆擴(kuò)散檢漏方式轉(zhuǎn)換為正 擴(kuò)散檢漏方式后不會損壞質(zhì)譜室內(nèi)燈絲；④本實(shí)用新型提供的檢漏儀真空系統(tǒng)，前級低真空泵和所述檢漏口之間氣路通道 上的閥門為預(yù)抽閥，用于配合前級低真空泵對檢漏口和高真空泵進(jìn)行抽真空；⑤本實(shí)用新型提供的檢漏儀真空系統(tǒng)，其中檢漏閥、高真空閥、預(yù)抽閥和精檢閥均 為電磁閥，以通過電信號控制閥門的開/關(guān)。

為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚的理解，下面根據(jù)本實(shí)用新型的具體實(shí)施 例并結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，其中圖1是本實(shí)用新型檢漏儀真空系統(tǒng)的氣路圖；圖2是本實(shí)用新型另一實(shí)施例檢漏儀真空系統(tǒng)的氣路圖。圖中附圖標(biāo)記表示為1-前級低真空泵，2-預(yù)抽閥，3-檢漏口，4-精檢閥，5-質(zhì)譜 室，6-高真空閥，7-高真空泵，8-檢漏閥，9-節(jié)點(diǎn)。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，是本實(shí)用新型檢漏儀真空系統(tǒng)優(yōu)選實(shí)施例的氣路圖，所述檢漏儀真 空系統(tǒng)包括檢漏口 3，質(zhì)譜室5和真空泵機(jī)構(gòu)，所述檢漏口 3上放置被檢件；所述質(zhì)譜室5 用于檢測示漏氣體，在所述質(zhì)譜室5內(nèi)設(shè)置有質(zhì)譜計(jì)、燈絲等檢漏操作必備儀器設(shè)備，在所 述質(zhì)譜室5與所述檢漏口 3之間的氣路通道上設(shè)置有閥門，所述質(zhì)譜室5與所述檢漏口 3之 間氣路通道上的閥門為精檢閥4。所述質(zhì)譜室5與所述檢漏口 3之間的氣路通道，和所述質(zhì) 譜室5與所述真空泵機(jī)構(gòu)之間的氣路通道連接并形成節(jié)點(diǎn)9，在所述節(jié)點(diǎn)9與所述質(zhì)譜室5 之間的氣路通道上也設(shè)置有閥門，所述節(jié)點(diǎn)9與所述質(zhì)譜室5之間氣路通道上的閥門為高 真空閥6。所述真空泵機(jī)構(gòu)，用于對所述檢漏口 3和所述質(zhì)譜室5抽真空，在所述真空泵機(jī)構(gòu) 與所述檢漏口 3之間的氣路通道上設(shè)置有閥門。在本實(shí)施例中，所述真空泵機(jī)構(gòu)包括前級 低真空泵1和高真空泵7，并且在所述前級低真空泵1和所述高真空泵7之間的氣路通道上 設(shè)置有檢漏閥8，所述前級低真空泵1和所述檢漏口 3之間氣路通道設(shè)有預(yù)抽閥2。所述前 級低真空泵1選用機(jī)械泵，所述高真空泵7選用分子泵。在本實(shí)施例中，所述檢漏閥8、所述高真空閥6、所述預(yù)抽閥2和所述精檢閥4均為 電磁閥。本實(shí)用新型提供的所述檢漏儀真空系統(tǒng)的工作原理是先采用逆擴(kuò)散檢漏方式進(jìn) 行初檢，如果發(fā)現(xiàn)被檢件不是大漏而是微漏，則采用正擴(kuò)散檢漏方式進(jìn)行精檢，利用高真空 泵對檢漏口進(jìn)一步抽真空，直至檢漏口內(nèi)空氣壓強(qiáng)下降到與質(zhì)譜室內(nèi)壓強(qiáng)接近，檢漏口可 以直接與質(zhì)譜室接通時為止；此時，將質(zhì)譜室和檢漏口接通，檢漏口內(nèi)的示漏氣體將直接進(jìn)入質(zhì)譜室，而沒有示漏氣體分流，使質(zhì)譜室可以檢測到更小的漏率。下面詳細(xì)敘述本實(shí)用新型提供的所述檢漏儀真空系統(tǒng)進(jìn)行檢漏的工作過程第一步，首先進(jìn)行初檢，關(guān)閉所述精檢閥4，打開所述高真空閥6，開所述預(yù)抽閥2， 啟動所述前級低真空泵1對所述檢漏口 3進(jìn)行預(yù)抽，直到所述檢漏口 3內(nèi)的真空度達(dá)到 20Pa以后，打開所述檢漏閥8，啟動所述高真空泵7，進(jìn)行檢漏；第二步，如果所述質(zhì)譜室5內(nèi)的質(zhì)譜計(jì)未檢測到大漏，即當(dāng)被檢件為微漏時，需要 對被檢件進(jìn)行精檢，此時，先關(guān)閉所述高真空閥6和所述預(yù)抽閥2，打開所述精檢閥4，利用 所述高真空泵7對所述檢漏口 3進(jìn)一步抽真空，直到所述檢漏口 3內(nèi)的真空度達(dá)到10’a 后，打開所述高真空閥6，示漏氣體將通過所述高真空閥6進(jìn)入所述質(zhì)譜室5，從而進(jìn)行精檢。本實(shí)用新型的所述檢漏儀真空系統(tǒng)將正擴(kuò)散檢漏方式和逆擴(kuò)散檢漏方式結(jié)合起 來，在初檢時采用逆擴(kuò)散檢漏方式，檢漏效率高；在精檢時采用正擴(kuò)散檢漏方式，準(zhǔn)確度高、 靈敏度高，而且在由逆擴(kuò)散檢漏方式轉(zhuǎn)換為正擴(kuò)散檢漏方式后，由于質(zhì)譜室內(nèi)壓強(qiáng)與檢漏 口內(nèi)壓強(qiáng)已經(jīng)比較接近了，所以不會損壞質(zhì)譜室內(nèi)燈絲，保證其使用壽命。如圖2所示，是本實(shí)用新型另一實(shí)施例檢漏儀真空系統(tǒng)的氣路圖，本實(shí)施例與前 一實(shí)施例的區(qū)別在于在前一實(shí)施例中的所述檢漏口 3處連接一個檢漏盒，被檢件內(nèi)部充 滿示漏氣體放置在所述檢漏盒中；高真空泵7采用非油封式機(jī)械泵(如排氣口可通大氣的 干泵)，并取消了前一實(shí)施例中的所述前級低真空泵1和所述檢漏閥8，而改用通路代替。通 過所述預(yù)抽閥2、所述精檢閥4和所述高真空閥6的開/關(guān)切換，同樣能夠?qū)崿F(xiàn)在初檢時采 用逆擴(kuò)散檢漏方式，在精檢時采用正擴(kuò)散檢漏方式，能夠?qū)崿F(xiàn)本實(shí)用新型的目的。在其他實(shí)施例中，所述高真空泵7還可采用擴(kuò)散泵等本領(lǐng)域常用的其他高真空 泵，同樣所述前級低真空泵1也可以采用本領(lǐng)域常用的其他低真空泵。顯然，上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說明所作的舉例，而并非對實(shí)施方式的限定。對 于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或 變動。這里無需也無法對所有的實(shí)施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見的變化或 變動仍處于本實(shí)用新型創(chuàng)造的保護(hù)范圍之中。
權(quán)利要求1.一種檢漏儀真空系統(tǒng)，包括 檢漏口(3)，放置被檢件； 質(zhì)譜室(5)，檢測 示漏氣體，在所述質(zhì)譜室(5 )與所述檢漏口( 3 )之間的氣路通道上設(shè)置有閥門； 真空 泵機(jī)構(gòu)，用于對所述檢漏口(3)和所述質(zhì)譜室(5)抽真空，在所述真空泵機(jī)構(gòu)與所述檢漏口 (3)之間的氣路通道上設(shè)置有閥門； 其特征在于所述質(zhì)譜室(5)與所述檢漏口(3)之 間的氣路通道，和所述質(zhì)譜室(5)與所述真空泵機(jī)構(gòu)之間的氣路通道連接并形成節(jié)點(diǎn)(9)， 在所述節(jié)點(diǎn)(9)與所述質(zhì)譜室(5)之間的氣路通道上也設(shè)置有閥門。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢漏儀真空系統(tǒng)，其特征在于所述真空泵機(jī)構(gòu)包括前級低 真空泵(1)和高真空泵(7 )；在所述前級低真空泵(1)和所述高真空泵(7 )之間的氣路通道 上設(shè)置有檢漏閥(8)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢漏儀真空系統(tǒng)，其特征在于所述節(jié)點(diǎn)(9)與所述質(zhì)譜室 (5)之間氣路通道上的閥門為高真空閥(6)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的檢漏儀真空系統(tǒng)，其特征在于所述質(zhì)譜室(5)與所述檢漏口 (3)之間氣路通道上的閥門為精檢閥(4)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的檢漏儀真空系統(tǒng)，其特征在于所述前級低真空泵(1)和所述 檢漏口( 3 )之間氣路通道設(shè)有預(yù)抽閥(2 )。
6.根據(jù)權(quán)利要求2-5任一所述的檢漏儀真空系統(tǒng)，其特征在于所述檢漏閥(8)、所述 高真空閥(6 )、所述預(yù)抽閥(2 )和所述精檢閥(4)均為電磁閥。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢漏儀真空系統(tǒng)，其特征在于所述高真空泵(7)為分子泵， 所述前級低真空泵(1)為機(jī)械泵。
專利摘要一種檢漏儀真空系統(tǒng)，包括檢漏口、質(zhì)譜室和真空泵機(jī)構(gòu)，所述檢漏口放置被檢件；所述質(zhì)譜室檢測示漏氣體，在所述質(zhì)譜室與所述檢漏口之間的氣路通道上設(shè)置有閥門；所述真空泵機(jī)構(gòu)用于對所述檢漏口和所述質(zhì)譜室抽真空，在所述真空泵機(jī)構(gòu)與所述檢漏口之間的氣路通道上設(shè)置有閥門；所述質(zhì)譜室與所述檢漏口之間的氣路通道，和所述質(zhì)譜室與所述真空泵機(jī)構(gòu)之間的氣路通道連接并形成節(jié)點(diǎn)，在所述節(jié)點(diǎn)與所述質(zhì)譜室之間的氣路通道上也設(shè)置有閥門。本實(shí)用新型提供的檢漏儀真空系統(tǒng)，在初檢時采用逆擴(kuò)散檢漏方式，檢漏效率高，在精檢時采用正擴(kuò)散檢漏方式，準(zhǔn)確度高、靈敏度高，而且在轉(zhuǎn)換為正擴(kuò)散檢漏時不會損壞質(zhì)譜室內(nèi)燈絲。
文檔編號G01M3/02GK201903433SQ20102065818
公開日2011年7月20日 申請日期2010年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月14日
發(fā)明者劉林, 祖汪明 申請人:北京中科科儀技術(shù)發(fā)展有限責(zé)任公司