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      密度計測量板的制作方法

      文檔序號:5906082閱讀:402來源:國知局
      專利名稱:密度計測量板的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型屬于印刷品質(zhì)量檢測裝置技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種密度計測量板。
      背景技術(shù)
      目前印刷色彩密度的測量都是選擇在實驗平臺上放置被測量色塊,然后利用密度計的測量頭對準(zhǔn)被測色塊,然后進行測量,讀取數(shù)據(jù)。光源通過透鏡聚焦而照射到測試色塊表面,其中一部分光線被吸收,吸收情況取決于油墨層厚度和色料密度,未被吸收的光線由印刷紙張表面反射,透鏡把與照射光線成 45°角的反射光線,傳送到接收器;接收器將接收到的光量轉(zhuǎn)變?yōu)殡娏?,通過數(shù)據(jù)處理系統(tǒng),根據(jù)此處理并計算出油墨的吸收特性,測量結(jié)果以密度值顯示于屏幕上。測孔的大小為3. 4mm,因此,為了使測量頭能夠測量來自被測色塊表面的反射來的全部光,被測色塊一般而言其面積設(shè)定為5 X 5mm。由于被測色塊周邊顏色(在印刷中,檢驗色塊往往是按照一定的色序排成一行)或周圍測量環(huán)境光源的影響,而使同一色塊在不同條件下的測量結(jié)果會出現(xiàn)一定的誤差。
      發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種密度計測量板,解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的由于被測色塊周圍的顏色和測量環(huán)境光源的影響而引起的密度計測量誤差問題。本實用新型所采用的技術(shù)方案是,一種密度計測量板,包括底板,底板的表面放置有黑色聚酯薄膜,黑色聚酯薄膜的中間開有5X5mm的方形孔。本實用新型的特點還在于,其中的底板采用白度值大于90%的銅版紙。其中的黑色聚酯薄膜的透射密度值不低于3. 0。本實用新型的有益效果是,利用該平板進行顏色的測量,可以大幅度減小由于測量條件的變化引起的色度計測量誤差,保證了密度計在不同測量條件下測量結(jié)果的一致性。

      圖1是本實用新型密度計測量板的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是現(xiàn)有反射密度計測量原理圖。圖中,1.底板,2.黑色聚酯薄膜,3.方形孔,4.測試樣本。
      具體實施方式
      以下結(jié)合附圖和具體實施方式
      對本實用新型進行詳細說明?,F(xiàn)有反射密度計的測量原理,如圖2所示,入射光由光源發(fā)出,投射到測試樣張油墨層表面,并穿過透明墨層達到紙張表面,接收器接受經(jīng)紙張表面和墨層表面的45°角的反射光,經(jīng)計算,轉(zhuǎn)化為被測試樣的密度值。在測量過程中,由于被測試樣周邊色塊或測量光源的影響,而使密度計的反射光通量受到一定影響,從而使測量出現(xiàn)一定的偏差。本實用新型密度計測量板的結(jié)構(gòu),如圖1所示,包括底板1,底板1采用白度值大于 90%的銅版紙,底板1的表面放置有一黑色聚酯薄膜2,黑色聚酯薄膜2兩端固定,黑色聚酯薄膜2的中間開有一 5X5mm的方形孔3,黑色聚酯薄膜2的透射密度值大于3. 0。本實用新型密度計測量板的工作過程為測量時,將測試樣本4裁成長條狀,從黑色聚酯薄膜2和底板1之間穿過,將測試色塊置于黑色聚酯薄膜2中央,使其可以填充黑色聚酯薄膜2中央的方形孔3,固定黑色聚酯薄膜2。用測量頭對準(zhǔn)測試板的方形孔3,進行測量,讀取讀數(shù),可以有效減少由于測試色塊周邊色彩和周圍測量光源對測量結(jié)果的影響,從而有效保證測量結(jié)果的穩(wěn)定性。
      權(quán)利要求1.一種密度計測量板,其特征在于,包括底板(1),底板(1)的表面放置有黑色聚酯薄膜(2),黑色聚酯薄膜(2)的中間開有5X5mm的方形孔(3)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密度計測量板,其特征在于,所述的底板(1)采用白度值大于90%的銅版紙。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密度計測量板,其特征在于,所述的黑色聚酯薄膜(2)的透射密度值不低于3.0。
      專利摘要本實用新型公開的一種密度計測量板,包括底板,底板的表面放置有黑色聚酯薄膜,黑色聚酯薄膜的中間開有5×5mm的方形孔。底板采用白度值大于90%的銅版紙。黑色聚酯薄膜的透射密度值不低于3.0。本實用新型密度計測量板,可以大幅度減小由于測量條件的變化引起的色度計測量誤差,保證了密度計在不同測量條件下測量結(jié)果的一致性。
      文檔編號G01N9/24GK201984004SQ20112001635
      公開日2011年9月21日 申請日期2011年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月19日
      發(fā)明者張美云, 智川, 楊保宏, 郭凌華 申請人:陜西科技大學(xué)
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