專利名稱：流動池及用于分析樣品的射流器件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的實(shí)施方式一般涉及用于生物或化學(xué)分析的測定系統(tǒng)中的部件。
背景技術(shù)：
用于生物或化學(xué)研究的各種測定方案涉及進(jìn)行大量的受控反應(yīng)。在某些情況下，所述受控反應(yīng)在支撐表面上進(jìn)行。然后可以觀測并分析所述所需的反應(yīng)，以幫助確定所述所需的反應(yīng)中所涉及的化學(xué)品的屬性或特征。例如，在一些方案中，在受控條件下，包含可識別的標(biāo)記(例如熒光標(biāo)記)的化學(xué)組成部分可以選擇性地結(jié)合至另一化學(xué)組成部分。通過輻射激發(fā)所述標(biāo)記并檢測來自所述標(biāo)記的光發(fā)射可以觀測到這些化學(xué)反應(yīng)。也可以通過其他方式(如化學(xué)發(fā)光)提供所述光發(fā)射。這類方案的例子包括DNA測序。在一個邊合成邊測序(SBS)方案中，通過橋式PCR 在流動通道的表面上形成克隆擴(kuò)增子簇。在生成所述克隆擴(kuò)增子簇后，可以將所述擴(kuò)增子“線性化”，以產(chǎn)生單鏈DNA(sstDNA)。將一系列的試劑流入流動池，以完成測序循環(huán)。每個測序循環(huán)通過具有獨(dú)特的熒光標(biāo)記的單核苷酸(例如A、T、G、C)延伸所述sstDNA。每個核苷酸具有只允許一個循環(huán)內(nèi)發(fā)生單堿基摻入的可逆終止子。核苷酸被添加到所述sstDNA簇后，在四個通道內(nèi)成像(即，每個熒光標(biāo)記一個)。成像后，所述熒光標(biāo)記和所述終止子被從所述sstDNA化學(xué)裂解，而不斷增長的DNA鏈準(zhǔn)備用于另一循環(huán)。可以重復(fù)幾個循環(huán)的試劑輸送和光學(xué)檢測，以確定所述克隆擴(kuò)增子的序列。然而，被配置以執(zhí)行這些方案的系統(tǒng)可能能力有限以及可能不符合成本效益。因此，一般需要能夠以具有成本效益的、更簡易的或者以其他方式改進(jìn)的方式執(zhí)行測定方案(如上文所述的SBS方案)或能夠用于所述測定方案過程的改進(jìn)的系統(tǒng)、方法和裝置。

實(shí)用新型內(nèi)容按照一個實(shí)施方式，提供用于分析樣品的射流器件。所述射流器件包括具有入口和出口的流動池以及在其間延伸的流動通道。所述流動池被配置以容納相關(guān)的樣品。所述射流器件還包括外殼，所述外殼具有被配置以容納所述流動池的容納空間。所述容納空間按允許所述流動池相對于所述外殼浮動的尺寸制作并成型。所述射流器件還包括耦合至所述外殼的墊圈。所述墊圈具有入口和出口通道并包含可壓縮材料。所述墊圈相對于所述容納空間設(shè)置，以便所述流動池的所述入口和出口分別與所述墊圈的所述入口和出口通道大致對準(zhǔn)。在另一實(shí)施方式中，提供一種被配置以容納并便于設(shè)置流動池進(jìn)行成像的可拆卸的卡盤(cartridge)。所述卡盤包括可拆卸的外殼，所述可拆卸的外殼具有被配置以將所述流動池大體上保持在對象平面內(nèi)的容納空間。所述外殼包括一對面向相反方向的外殼面。所述容納空間沿所述外殼面的至少一個延伸，以便所述流動池通過所述外殼面的至少一個暴露于所述外殼的外部。所述卡盤還包括耦合至所述外殼的蓋構(gòu)件并包括墊圈。所述墊圈具有入口和出口通道并包含可壓縮材料。所述墊圈配置為當(dāng)所述流動池由所述外殼支承時，所述墊圈被安裝于所述流動池的暴露部分的上方。在仍然另一實(shí)施方式中，提供一種設(shè)置用于樣品分析的射流器件的方法。所述方法包括在成像系統(tǒng)的支撐表面上設(shè)置可拆卸的射流器件。所述器件包括容納空間、位于所述容納空間內(nèi)的流動池以及墊圈。所述流動池沿所述容納空間內(nèi)的對象平面延伸并相對于所述對象平面內(nèi)部的所述墊圈可浮動。所述方法還包括在所述容納空間內(nèi)但在所述支撐表面上移動所述流動池，以便所述流動池的入口和出口與所述墊圈的入口和出口通道大致對準(zhǔn)。在另一實(shí)施方式中，提供一種設(shè)置用于樣品分析的射流器件的方法。所述方法包括提供具有外殼的射流器件，所述外殼包括容納空間和位于所述容納空間內(nèi)的可浮動的流動池。所述外殼具有與所述容納空間緊密相鄰的凹槽。所述方法還包括將所述射流器件設(shè)置在具有對準(zhǔn)構(gòu)件的支撐結(jié)構(gòu)上。所述對準(zhǔn)構(gòu)件通過相應(yīng)的凹槽被插入。所述方法還包括移動所述容納空間內(nèi)的所述流動池。當(dāng)所述流動池在所述容納空間內(nèi)移動時，所述對準(zhǔn)構(gòu)件嚙合所述流動池的邊緣。在另一實(shí)施方式中，提供一種射流器件支架，所述射流器件支架被配置以相對于相互垂直的X、Y和Z軸定位樣品區(qū)域。所述器件支架包括被配置以容納射流器件的支撐結(jié)構(gòu)。所述支撐結(jié)構(gòu)包括面向沿所述Z軸方向的基面并被配置以將所述器件固定于其上。所述器件支架還包括多個沿XY平面各自方向的基準(zhǔn)面以及包括致動器和可操作地耦合至所述致動器的可移動的定位臂的對準(zhǔn)組件。所述定位臂具有嚙合端。所述致動器將所述定位臂在縮回和偏置位置之間移動，以朝向和遠(yuǎn)離所述基準(zhǔn)面移動所述嚙合端。當(dāng)所述定位臂處于所述偏置位置時，所述定位臂被配置以支承所述器件抵靠所述基準(zhǔn)面。在另一實(shí)施方式中，提供一種射流器件支架，所述射流器件支架包括具有用于容納射流器件的載入?yún)^(qū)域的支撐結(jié)構(gòu)。所述支撐結(jié)構(gòu)包括部分地限定所述載入?yún)^(qū)域的基面并被配置以將所述器件設(shè)置于其上。所述器件支架包括耦合至所述支撐結(jié)構(gòu)的蓋組件并被配置為可拆卸地安裝于所述器件的上方。所述蓋組件包括蓋殼，所述蓋殼具有殼腿和連接所述殼腿的橋接部分。所述殼腿以共同的方向延伸并具有位于其間的觀看空間。所述觀看空間位于所述載入?yún)^(qū)域之上。在另一實(shí)施方式中，提供一種用于相對于相互垂直的X、Y和Z軸定位樣品區(qū)域的方法。所述方法包括提供對準(zhǔn)組件，所述對準(zhǔn)組件包含具有嚙合端的可移動的定位臂。所述定位臂是在縮回和偏置位置之間可移動的。所述方法還包括在面向沿所述Z軸的方向的基面上以及在多個面向沿XY平面的各自方向的基準(zhǔn)面之間設(shè)置射流器件。所述器件具有樣品區(qū)域。所述方法還包括移動所述定位臂至所述偏置位置。所述定位臂將所述器件壓在所述基準(zhǔn)面上，以便所述器件被保持在固定位置。在仍然另一實(shí)施方式中，提供一種光學(xué)組件，所述光學(xué)組件包括底板，所述底板具有支撐面和沿所述支撐面的部件容納空間。所述部件容納空間至少部分地由基準(zhǔn)面限定。所述光學(xué)組件還包括光學(xué)部件，所述光學(xué)部件具有被配置以反射光或傳輸光穿過其中的光學(xué)表面。所述光學(xué)組件還包括安裝器件，所述安裝器件具有部件保持器和可操作地耦合至所述保持器的偏置元件。所述保持器保持所述光學(xué)部件，以便所述光學(xué)表面的空間部分面向所述基準(zhǔn)面而所述光學(xué)表面的路徑部分延伸超過所述支撐面進(jìn)入光路。所述偏置元件提供將所述光學(xué)表面抵靠所述基準(zhǔn)面的對準(zhǔn)力。在具體的實(shí)施方式中，所述部件容納空間是從所述底板的所述支撐面深度延伸入所述底板的部件腔。所述光學(xué)表面和基準(zhǔn)面可以有預(yù)先確定的被配置以按預(yù)定方向設(shè)置所述光學(xué)表面的輪廓。在另一實(shí)施方式中，提供一種裝配光具組(optical train)的方法。所述方法包括提供具有支撐面和沿所述支撐面的部件容納空間的底板。所述部件容納空間至少部分地由基準(zhǔn)面限定。所述方法還包括將光學(xué)部件插入進(jìn)所述部件容納空間。所述光學(xué)部件還包括具有被配置以反射光或傳輸光穿過其中的光學(xué)表面。所述光學(xué)表面具有面向所述基準(zhǔn)面的空間部分以及延伸超過所述支撐面進(jìn)入光路的路徑部分。所述方法還包括提供將所述光學(xué)表面抵靠所述基準(zhǔn)面的對準(zhǔn)力。在具體的實(shí)施方式中，所述部件容納空間是從所述底板的所述支撐面深度延伸入所述底板的部件腔。所述光學(xué)表面和基準(zhǔn)面可以有預(yù)先確定的被配置以按預(yù)定方向設(shè)置所述光學(xué)表面的輪廓。在另一實(shí)施方式中，提供一種光學(xué)成像系統(tǒng)，所述光學(xué)成像系統(tǒng)包括固定和移動對象的對象支架以及檢測來自檢測器表面的對象的光信號的檢測器。所述成像系統(tǒng)還包括被配置以引導(dǎo)所述光信號到所述檢測器表面上的光具組。所述光具組具有臨近所述對象支 架的對象平面以及臨近所述檢測器表面的圖像平面。所述光具組包括在成像位置和聚焦位置之間可旋轉(zhuǎn)的鏡子。所述成像系統(tǒng)還包括圖像分析模塊，當(dāng)所述鏡子處于所述聚焦位置時，所述圖像分析模塊被配置以分析在所述檢測器表面檢測到的測試圖像。所述測試圖像在所述測試圖像的聚焦位置具有最佳的焦度(degree-of-focus)。在所述測試圖像的所述聚焦位置指示所述對象相對于所述對象平面的位置。所述對象支架被配置以基于所述聚焦位置朝向所述對象平面移動所述對象。在另一實(shí)施方式中，提供一種控制光學(xué)成像系統(tǒng)的焦點(diǎn)的方法。所述方法包括提供被配置以引導(dǎo)光信號到檢測器表面上的光具組。所述光具組具有臨近對象的對象平面以及臨近所述檢測器表面的圖像平面。所述光具組包括在成像位置和聚焦位置之間可旋轉(zhuǎn)的鏡子。所述方法還包括旋轉(zhuǎn)所述鏡子至所述聚焦位置，以及當(dāng)所述鏡子在所述聚焦位置時，獲取所述對象的測試圖像。所述測試圖像在所述測試圖像的聚焦位置具有最佳的焦度。所述聚焦位置指示所述對象相對于所述對象平面的位置。所述方法還包括基于所述聚焦位置朝向所述對象平面移動所述對象。在另一實(shí)施方式中，提供一種光學(xué)成像系統(tǒng)，所述光學(xué)成像系統(tǒng)包括被配置以支承流動池的樣品支架。所述流動池包括具有樣品區(qū)域的流動通道。所述成像系統(tǒng)還包括耦合至所述流動池并被配置以引導(dǎo)試劑通過所述流動通道至所述樣品區(qū)域的流動系統(tǒng)。所述成像系統(tǒng)還包括被配置以引導(dǎo)激發(fā)光到所述樣品區(qū)域之上的光具組以及第一和第二光源。所述第一和第二光源有相對于所述光具組的固定位置。所述第一和第二光源分別提供用于激發(fā)生物分子的第一和第二光信號。所述成像系統(tǒng)還包括通信地耦合至所述第一和第二光源以及所述流動系統(tǒng)的系統(tǒng)控制器。所述控制器被配置以啟動所述流動系統(tǒng)以使所述試劑流入所述樣品區(qū)域并被配置以在預(yù)定的合成時間段后，激活所述第一和第二光源。所述光源可以是，例如，激光或半導(dǎo)體光源(SLS)(如激光二極管或發(fā)光二極管(LED))在另一實(shí)施方式中，提供一種進(jìn)行生物測定的方法。所述方法包括使試劑流過具有樣品區(qū)域的流動通道。所述樣品區(qū)域包含被配置以與所述試劑發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的生物分子。所述方法還包括用第一和第二光源照射所述樣品區(qū)域。所述第一和第二光源分別提供第一和第二光信號。當(dāng)被所述第一或第二光源照射時，所述生物分子提供指示結(jié)合反應(yīng)的光發(fā)射。所述方法還包括檢測來自所述樣品區(qū)域的所述光發(fā)射。所述光源可以是，例如，激光或半導(dǎo)體光源(SLS)(如激光二極管或發(fā)光二極管(LED))。在另一實(shí)施方式中，提供一種流動池，所述流動池包括具有面向相反方向并在其間限定一厚度的安裝表面和外表面的第一層。所述流動池還包括具有面向相反方向并在其間限定一厚度的通道表面和外表面的第二層。所述第二層具有沿所述通道表面延伸的凹槽部分。所述第二層的所述通道表面被固定在所述安裝表面。所述流動池還包括由所述通道表面的所述凹槽部分和所述安裝表面的平面部分限定的流動通道。所述流動通道包括成像部分。所述第二層的所述厚度沿所述成像部分大體上均勻并被配置以傳輸光信號穿過其中。所述第一層的所述厚度沿所述成像部分大體上均勻并被配置以允許熱能均勻傳輸穿過其中。 在另一實(shí)施方式中，提供一種光源模塊，所述光源模塊包括具有光通道的模塊框架以及被固定至所述模塊框架并定向以引導(dǎo)光信號沿光路通過所述光通道的光源。所述光源模塊還包括被固定至所述模塊框架并具有相對于所述光源的固定位置與預(yù)定方向的光學(xué)部件。所述光學(xué)部件被置于所述光通道內(nèi)，以便所述光學(xué)部件在所述光路內(nèi)。在另一實(shí)施方式中，提供一種激發(fā)光模塊，所述激發(fā)光模塊包括模塊框架以及被固定至所述模塊框架的第一和第二半導(dǎo)體光源(SLS)。所述第一和第二 SLS具有相對于彼此的固定位置。所述第一和第二 SLS被配置以提供不同的激發(fā)光信號。所述激發(fā)光模塊還包括被固定至所述模塊框架并具有相對于所述第一和第二 SLS的固定位置與預(yù)定方向的光學(xué)部件。所述光學(xué)部件允許來自所述第一 SLS的光信號傳輸穿過其中并反射來自所述第二 SLS的光信號。所述反射和傳輸?shù)墓庑盘柋灰龑?dǎo)沿著一條共同的路徑離開所述模塊框架。在一個實(shí)施方式中，提供一種進(jìn)行生物或化學(xué)測定的方法。所述方法包括在具有樣品區(qū)域的射流器件和具有多個不同的用于進(jìn)行一種或多種測定的反應(yīng)成分的反應(yīng)成分存儲單元之間建立流體連接。所述反應(yīng)成分包括樣品生成成分和樣品分析成分。所述方法還包括在所述射流器件的所述樣品區(qū)域生成樣品。所述生成操作包括使不同的樣品生成成分流入所述樣品區(qū)域并控制所述樣品區(qū)域的反應(yīng)條件，以生成所述樣品。所述方法還包括分析所述樣品區(qū)域的所述樣品。所述分析操作包括使至少一種樣品分析成分流入所述樣品區(qū)域。所述至少一種樣品分析成分與所述樣品發(fā)生反應(yīng)，以提供指示相關(guān)事件的光學(xué)上可檢測的信號。所述生成和分析操作通過所述測定系統(tǒng)以自動方式進(jìn)行。在另一實(shí)施方式中，提供一種測定系統(tǒng)，所述測定系統(tǒng)包括被配置以支承射流器件并建立與所述射流器件的流體連接的射流器件支架。所述測定系統(tǒng)還包括被配置以將所述射流器件流體連接至反應(yīng)成分存儲單元的射流網(wǎng)絡(luò)。所述測定系統(tǒng)還包括被配置以選擇性地將流體從所述存儲單元流入通過所述射流器件的射流控制系統(tǒng)。此外，所述測定系統(tǒng)包括具有射流控制模塊的系統(tǒng)控制器。所述射流控制模塊被配置以命令所述射流控制系統(tǒng)(a)以使不同的樣品生成成分從所述存儲單元流入所述樣品區(qū)域并控制所述樣品區(qū)域的反應(yīng)條件以生成樣品；以及(b)以使至少一種樣品分析成分從所述存儲單元流入所述樣品區(qū)域。所述至少一種樣品分析成分被配置以與所述樣品發(fā)生反應(yīng)，以提供指示相關(guān)事件的光學(xué)上可檢測的信號。所述測定系統(tǒng)還包括被配置以檢測來自所述樣品的所述光學(xué)上可檢測的信號的成像系統(tǒng)。所述系統(tǒng)控制器被配置以通過選擇性地控制所述射流器件支架、所述射流控制系統(tǒng)和所述成像系統(tǒng)來自動生成所述樣品并分析所述樣品。在另一實(shí)施方式中，提供一種進(jìn)行生物或化學(xué)測定的方法。所述方法包括(a)提供具有樣品區(qū)域的射流器件和具有多個不同的用于進(jìn)行一種或多種檢測的反應(yīng)成分的反應(yīng)成分存儲單元，所述反應(yīng)成分包括樣品生成成分和樣品分析成分；(b)根據(jù)預(yù)定的方案使樣品生成成分流入，以在所述樣品區(qū)域生成樣品；(C)選擇性地控制所述樣品區(qū)域的反應(yīng)條件，以便于生成所述樣品；(d)使樣品分析成分流入所述樣品區(qū)域；以及(e)檢測從所述樣品區(qū)域發(fā)出的光信號，所述光信號指示所述樣品分析成分與所述樣品之間的相關(guān)事件；其中(b)_ (e)以自動方式進(jìn)行。在另一實(shí)施方式中，提供一種流動池。所述流動池包括具有固定在一起以在其間限定流動通道的第一層和第二層的基底，其中所述流動通道包括成像部分和非成像部分，其中所述成像部分和非成像部分通過彎曲部分被射流地連接，所述成像部分和非成像部分彼此平行延伸；延伸通過所述第一層并與所述流動通道的所述成像部分流體連通的入口 ； 以及延伸通過所述第一層并與所述流動通道的所述非成像部分流體連通的出口，其中所述入口和所述出口在所述流動池的一端彼此毗鄰設(shè)置，以及其中所述流動通道的所述成像部分的寬度大于所述流動通道的所述非成像部分的寬度。在其他實(shí)施方式中，還具有以下一個或多個特征。該基底的長度為30mm或更小，該基底的寬度為15mm或更小，該基底的高度為I. 5mm或更小。所述第一層具有面向相反的方向并在其間限定厚度的安裝表面和外部表面；以及所述第二層具有面向相反的方向并在其間限定厚度的通道表面和外部表面，所述第二層具有沿所述通道表面延伸的凹槽部分，所述第二層的所述通道表面被固定至所述安裝表面，其中所述流動通道由所述通道表面的所述凹槽部分和所述安裝表面的平面部分限定。所述第二層的所述厚度沿所述成像部分大體上是均勻的并被配置以傳輸光信號穿過其中而所述第一層的所述厚度沿所述成像部分大體上是均勻的并被配置以允許熱能均勻地傳遞穿過其中。所述流動通道的所述成像部分和非成像部分具有在所述通道表面和所述安裝表面之間測量的大體上相等的高度。所述流動通道的所述成像部分的表面被配置為用于在其上放置多個DNA簇。多個DNA簇在所述流動通道的所述成像部分的表面上。所述基底的長度為IOOmm或更小，所述基底的寬度為35mm或更小，所述基底的高度為IOmm或更小。所述流動通道的所述彎曲部分包括射流地連接所述流動通道的所述成像部分和所述流動通道的所述非成像部分的非連續(xù)的輪廓。所述流動通道的所述彎曲部分包括錐形部分和中間部分，其中所述錐形部分連接所述成像部分和所述中間部分，以及其中所述錐形部分的寬度尺寸從所述流動通道的所述成像部分到所述中間部分減少。進(jìn)一步包括條形碼。所述入口和所述出口之間的間隔為3mm或更小。在另一實(shí)施方式中，提供一種用于分析樣品的射流器件，所述射流器件包括具有上述特征的流動池；具有被配置以容納所述流動池的容納空間的外殼，所述容納空間按允許所述流動池相對于所述外殼浮動的尺寸制作并成型；以及被耦合至所述外殼的墊圈，所述墊圈具有入口和出口通道并包含可壓縮材料；所述墊圈相對于所述容納空間設(shè)置，以便所述流動池的所述入口和出口分別與所述墊圈的所述入口和出口通道大致對準(zhǔn)。在其他實(shí)施方式中，還具有以下一個或多個特征。進(jìn)一步包括包含所述墊圈和蓋材料的蓋構(gòu)件，其中所述蓋材料和所述墊圈被共同模制，所述墊圈的所述可壓縮材料比所述蓋材料更具可壓縮性質(zhì)。進(jìn)一步包括具有所述墊圈和蓋材料并且可旋轉(zhuǎn)地耦合至所述外殼的蓋構(gòu)件，從而所述蓋構(gòu)件是圍繞安裝位置和脫開位置之間的旋轉(zhuǎn)軸可旋轉(zhuǎn)的；當(dāng)所述蓋構(gòu)件處于所述安裝位置時，所述墊圈的入口和出口通道與所述入口和出口大致對準(zhǔn)。進(jìn)一步包括具有所述墊圈和蓋材料的蓋構(gòu)件，其中所述外殼進(jìn)一步包括鰭狀突出部分，且其中所述蓋構(gòu)件在所述鰭狀突出部分之間延伸。所述流動池具有多個沿池平面延伸并限定所述流動池的周邊的邊緣；所述墊圈被配置以當(dāng)所述入口和出口通道大致對準(zhǔn)時，壓在所述邊緣的一個上；所述墊圈限制所述流動池沿所述池平面在所述容納空間內(nèi)的移動。所述流動池具有面向相反方向的第一和第二池面，所述第一和第二池面沿所述池平面延伸，其中所述墊圈也壓在所述第一和第二池面的一個上，從而限制垂直于所述池平面的方向的移動。所述墊圈是相對于所述外殼和流動池可移動的；當(dāng)所述墊圈被安裝到所述流動池的上方時，所述入口和出口通道與所述入口和出口大致對準(zhǔn)。所述流動池具有多個沿池平面延伸并限定所述流動池的周邊的邊緣，其中所述外殼沿所述周邊夾持所述流動池。所述流動池具有面向相反方向的第一和第二池面，所述第一和第二池面大體上是平面的并在所述邊緣之間延伸。所述外殼包括緊鄰所述容納空間設(shè)置并按容納支撐結(jié)構(gòu)的對準(zhǔn)構(gòu)件的尺寸制作并成型的凹口 ；所述流動池的邊緣在各自的凹口內(nèi)延伸，以便所述對準(zhǔn)構(gòu)件直接嚙合所述流動池的所述邊緣。所述流動通道包括成像部分和非成像部分，其中成像部分和非成像部分通過彎曲部分被射流地連接，所述成像部分和非成像部分彼此平行延伸，其中所述入口與所述流動通道的所述成像部分流體連通，以及其中所述出口與所述流動通道的所述非成像部分流體連通。所 述入口和所述出口在所述流動池的一端彼此毗鄰設(shè)置。所述入口和所述出口之間的間隔為3mm或更小。所述流動通道的所述成像部分的寬度大于所述流動通道的所述非成像部分的寬度?；拙哂泄潭ㄔ谝黄鹨栽谄溟g限定所述流動通道的第一層和第二層。所述流動池包含包括如下的基底具有面向相反的方向并在其間限定厚度的安裝表面和外部表面的第一層；以及具有面向相反的方向并在其間限定厚度的通道表面和外部表面的第二層，所述第二層具有沿所述通道表面延伸的凹槽部分，所述第二層的所述通道表面被固定至所述安裝表面，其中所述流動通道由所述通道表面的所述凹槽部分和所述安裝表面的平面部分限定。所述第二層的所述厚度沿所述成像部分大體上是均勻的并被配置以傳輸光信號穿過其中而所述第一層的所述厚度沿所述成像部分大體上是均勻的并被配置以允許熱能均勻地傳遞穿過其中。所述流動通道的所述成像部分和非成像部分具有在所述通道表面和所述安裝表面之間測量的大體上相等的高度。所述流動通道的所述成像部分的表面被配置為用于在其上放置多個DNA簇。多個DNA簇在所述流動通道的所述成像部分的表面上。所述基底的長度為30mm或更小，所述基底的寬度為15mm或更小，所述基底的高度為I. 5mm或更小。所述流動通道的所述彎曲部分包括射流地連接所述流動通道的所述成像部分和所述流動通道的所述非成像部分的非連續(xù)的輪廓。所述流動通道的所述彎曲部分包括錐形部分和中間部分，其中所述錐形部分連接所述成像部分和所述中間部分，以及其中所述錐形部分的寬度尺寸從所述流動通道的所述成像部分到所述中間部分減少。所述流動池進(jìn)一步包括條形碼。進(jìn)一步包括覆蓋所述入口和所述出口的密封件。所述入口和所述出口位于所述流動池的表面，其中所述密封件包括沿所述流動池的所述表面延伸的一單片膠帶，其中所述單片膠帶具有延伸遠(yuǎn)離所述流動池表面邊緣的外伸部分。進(jìn)一步包括被置于所述外殼的腔內(nèi)的識別發(fā)射機(jī)。所述識別發(fā)射機(jī)包括RFID標(biāo)簽。
圖I是按照一個實(shí)施方式形成的用于進(jìn)行生物或化學(xué)測定的測定系統(tǒng)的框圖。圖2是按照一個實(shí)施方式被配置以進(jìn)行生物或化學(xué)測定的工作站的側(cè)視圖。圖3是圖2的所述工作站的前視圖。圖4是按照一個實(shí)施方式形成的射流網(wǎng)絡(luò)的圖。圖5是按照一個實(shí)施方式形成的流動池的透視圖。圖6是沿圖5中的線6-6所取的圖5所示的所述流動池的橫截面圖。圖7是圖5的所述流動池的平面圖。圖8是流動通道的彎曲段的放大圖。圖9是按照一個實(shí)施方式形成的射流器件的透視圖。圖10是圖9的所述射流器件的另一透視圖。圖11是沿圖9中的線11-11所取的圖9的所述射流器件的橫截面圖。圖12是按照另一實(shí)施方式形成的射流器件的透視圖。圖13是圖12的所述射流器件的透視圖。圖14是按照一個實(shí)施方式形成的射流器件的平面圖。圖15是圖14的所述射流器件的側(cè)面透視圖。圖16是按照一個實(shí)施方式形成的器件支架的部分分解圖。圖17是圖16的組裝支架的透視圖。圖18是可用于圖16的所述支架的支撐結(jié)構(gòu)的透視圖。圖19是圖16的所述支架的俯視平面圖。圖20是在開口位置具有蓋組件的圖16所述支架的透視圖。圖21是圖16的所述支架的擴(kuò)增平面圖。圖22是可用于圖16的所述支架的蓋組件的透視圖。圖23是沿圖22所示的線23_23所取的所述蓋組件的橫截面圖。圖24是可以與圖16的所述支架一起使用的流動系統(tǒng)的透視圖。圖25是一種按照一個實(shí)施方式設(shè)置用于樣品分析的射流器件的方法的框圖。圖26是說明一種按照一個實(shí)施方式設(shè)置用于樣品分析的射流器件的方法的框圖。圖27是說明一種按照一個實(shí)施方式用于定位樣品區(qū)域的方法的框圖。圖28是按照一個實(shí)施方式形成的流體存儲系統(tǒng)的透視圖。圖29是圖28的所述流體存儲系統(tǒng)的側(cè)面橫截面圖。圖30是可以與圖28的所述流體存儲系統(tǒng)一起使用的移取組件的透視圖。圖31是按照一個實(shí)施方式形成的反應(yīng)成分托盤的透視圖。圖32是圖31所示的所述托盤的俯視平面圖。圖33是圖31所示的所述托盤的側(cè)視圖。圖34是圖31所示的所述托盤的前視圖。圖35是可以與圖31的所述托盤一起使用的成分孔的側(cè)面橫截面圖。圖36是圖35的所述成分孔的底部透視圖。圖37是可以與圖31的所述托盤一起使用的成分孔的透視圖。[0063]圖38是按照一個實(shí)施方式的光學(xué)成像系統(tǒng)的圖。圖39是按照一個實(shí)施方式的移動控制系統(tǒng)的透視圖。圖40是可以與圖39的所述移動控制系統(tǒng)一起使用的部件的透視圖。圖41是可用于圖38的所述成像系統(tǒng)的光學(xué)底板的透視圖。圖42是圖41的所述底板的平面圖。圖43是按照一個實(shí)施方式形成的可用于圖38的所述成像系統(tǒng)的光學(xué)部件的透視圖。圖44是圖43的所述光學(xué)部件的剖開透視圖。圖45是圖43的所述光學(xué)部件的前視圖。 圖46是安裝操作過程中圖43的所述光學(xué)部件的側(cè)視圖。圖47是說明一種按照一個實(shí)施方式裝配光具組的方法的框圖。圖48是按照一個實(shí)施方式形成的光源模塊的透視圖。圖49是圖48的所述光源模塊的側(cè)視圖。圖50是圖48的所述光源模塊的平面圖。圖51是按照一個實(shí)施方式的圖像聚焦系統(tǒng)的平面圖。圖52是可用于圖51的所述圖像聚焦系統(tǒng)的可旋轉(zhuǎn)的鏡子組件的透視圖。圖53是可用于圖51的所述圖像聚焦系統(tǒng)的位于成像位置的可旋轉(zhuǎn)鏡子的示意圖。圖54和圖55示出可通過圖51的所述圖像聚焦系統(tǒng)獲得的樣品圖像。圖56是位于聚焦位置的圖53的所述可旋轉(zhuǎn)鏡子的示意圖。圖57和第58示出可通過圖51的所述圖像聚焦系統(tǒng)獲得的測試圖像。圖59是說明一種用于控制光學(xué)成像系統(tǒng)的焦點(diǎn)的方法的框圖。圖60說明一種用于進(jìn)行生物或化學(xué)分析測定的方法。圖61說明一種用于進(jìn)行生物或化學(xué)分析測定的方法。
具體實(shí)施方式
本文所述的實(shí)施方式包括各種用以檢測用于生物或化學(xué)分析的樣品中所需的反應(yīng)的系統(tǒng)、方法、組件以及裝置。在一些實(shí)施方式中，所述所需的反應(yīng)提供通過光學(xué)組件檢測的光信號。所述光信號可以是來自標(biāo)記的光發(fā)射或者可以是由所述樣品反射或折射的透射光。例如，實(shí)施方式可用于執(zhí)行或便于執(zhí)行其中sstDNA在流動池中測序的測序方案。在具體的實(shí)施方式中，本文所述的實(shí)施方式也可以執(zhí)行擴(kuò)增方案，以生成用于測序的相關(guān)樣品O如本文所用，“所需的反應(yīng)”包括對刺激做出響應(yīng)的物質(zhì)的化學(xué)、電學(xué)、物理和光學(xué)性質(zhì)或質(zhì)量的至少一個的變化。例如，所述所需的反應(yīng)可以是化學(xué)轉(zhuǎn)變、化學(xué)變化或化學(xué)作用。在具體的實(shí)施方式中，所述所需的反應(yīng)由成像系統(tǒng)檢測。所述成像系統(tǒng)可包括將光信號引導(dǎo)至傳感器(如CCD或CMOS)的光學(xué)組件。然而，在其他實(shí)施的方式中，所述成像系統(tǒng)可以直接檢測所述光信號。例如，流動池可被安裝到CMOS傳感器上。然而，所述所需的反應(yīng)也可以是在電學(xué)性能中的變化。例如，所述所需的反應(yīng)可以是溶液內(nèi)離子濃度的變化。示例性的反應(yīng)包括但不限于化學(xué)反應(yīng)(如還原、氧化、加成、消除、重排、酯化、酰胺化、醚化、環(huán)化或取代)；結(jié)合作用，其中第一化學(xué)品結(jié)合至第二化學(xué)品；解離反應(yīng)，其中兩種或兩種以上的化學(xué)品相互分離；熒光；發(fā)光；化學(xué)發(fā)光；以及生物反應(yīng)(如核酸復(fù)制、核酸擴(kuò)增、核酸雜交、核酸連接、磷酸化、酶促作用、受體結(jié)合或配體結(jié)合)。所述所需的反應(yīng)也可以是，例如，檢測為周圍溶液或環(huán)境的pH值的變化的質(zhì)子的加成或消除。所述 刺激可以是如下至少一個物理的、光學(xué)的、電學(xué)的、磁學(xué)的和化學(xué)的。例如，所述刺激可以是激發(fā)物質(zhì)中熒光團(tuán)的激發(fā)光。所述刺激也可以是周圍環(huán)境的變化，如溶液中的某些生物分子(如酶或離子)的濃度變化。所述刺激也可以是施加至預(yù)限定體積中溶液的電流。此外，所述刺激可通過晃動、振動或移動所述物質(zhì)所處的反應(yīng)室提供，以產(chǎn)生力(例如向心力)。如本文所用，短語“對刺激做出響應(yīng)”擬作廣義解釋并包括對刺激做出的更直接的反應(yīng)(例如，當(dāng)吸收入射激發(fā)光后，熒光團(tuán)發(fā)出特定波長的能量)以及由于所述刺激啟動最終導(dǎo)致所述響應(yīng)的一系列事件而對刺激做出更間接的反應(yīng)(例如，在焦磷酸測序中引入堿，最終導(dǎo)致化學(xué)發(fā)光)。所述刺激可以是立即的(例如，熒光團(tuán)上入射的激發(fā)光)或漸進(jìn)的(例如，周圍環(huán)境的溫度變化)。如本文所用，短語“指示所需的反應(yīng)的活動”及其變體包括可用以便于確定所需的反應(yīng)是否發(fā)生的任何可檢測到的事件、屬性、質(zhì)量或者特征。所述檢測到的活動可以是熒光或化學(xué)發(fā)光中生成的光信號。所述檢測到的活動也可以是預(yù)限定體積中或沿預(yù)限定區(qū)域的溶液的電學(xué)性能變化。所述檢測到的活動可以是溫度的變化。各種實(shí)施方式包括提供反應(yīng)成分至樣品。如本文所用，“反應(yīng)成分”或“反應(yīng)物”包括任何可以用來獲取所需的反應(yīng)的物質(zhì)。例如，反應(yīng)成分包括試劑、酶、樣品、其他生物分子和緩沖溶液。所述反應(yīng)成分通常被遞送到溶液中的反應(yīng)位點(diǎn)(例如，樣品所處的區(qū)域)或在反應(yīng)位點(diǎn)內(nèi)固定化。所述反應(yīng)成分可以與相關(guān)的物質(zhì)直接或間接反應(yīng)。在具體的實(shí)施方式中，通過光學(xué)組件光學(xué)檢測所述所需的反應(yīng)。所述光學(xué)組件可包括相互配合以將所述光信號引導(dǎo)至成像器件(例如(XD、CM0S或光電倍增管)的光學(xué)部件的光具組。然而，在替代性的實(shí)施方式中，所述樣品區(qū)域可被設(shè)置為緊鄰檢測所述所需的反應(yīng)而不使用光具組的活動檢測器。所述活動檢測器可有能力檢測預(yù)限定體積或區(qū)域內(nèi)預(yù)定的事件、屬性、質(zhì)量或特征。例如，活動檢測器可有能力捕捉所述預(yù)限定體積或區(qū)域的圖像?；顒訖z測器可有能力檢測預(yù)限定體積的溶液內(nèi)或沿預(yù)限定區(qū)域的離子濃度。示例性的活動檢測器包括電荷耦合器件(CCD)(例如CCD相機(jī))；光電倍增管(PMT);分子表征設(shè)備或檢測器(如那些與納米孔一起使用的所述分子表征設(shè)備或檢測器)；微電路裝置(例如美國專利號7，595，883描述的那些微電路裝置，所述專利的全部內(nèi)容以引用方式并入本文)；以及具有場效應(yīng)晶體管(FET)(包括化學(xué)敏感場效應(yīng)晶體管(chemFET)、離子敏感場效應(yīng)晶體管(ISFET)和/或金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET))的CMOS制傳感器。如本文所用，術(shù)語“光學(xué)部件”包括各種影響光信號傳播的元件。例如，所述光學(xué)部件可以具有如下至少一個功能重引導(dǎo)、過濾、成型、擴(kuò)增或集中所述光信號。可能受影響的所述光信號包括來自所述樣品上游的光信號和來自所述樣品下游的光信號。在熒光檢測系統(tǒng)中，上游部件包括那些引導(dǎo)激發(fā)輻射朝向所述樣品的部件而下游部件包括那些引導(dǎo)激發(fā)輻射遠(yuǎn)離所述樣品的部件。光學(xué)部件可以是，例如，反射器、二向色鏡、分束器、準(zhǔn)直器、透鏡、濾波器、楔子、棱鏡、鏡子、檢測器等等。光學(xué)部件還包括帶通濾波器、光楔以及與本文所述的那些器件類似的光學(xué)器件。[0093]如本文所用，術(shù)語“光信號”包括能夠被檢測到的電磁能量。所述術(shù)語包括來自標(biāo)記的生物或化學(xué)物質(zhì)的光發(fā)射且還包括由光學(xué)基片折射或反射的透射光。光信號包括入射至所述樣品上的激發(fā)輻射和由所述樣品提供的光發(fā)射，所述光信號可有一種或多種光譜特性曲線。例如，在成像階段，可以激發(fā)一種類型以上的標(biāo)記。在這種情況下，不同類型的標(biāo)記可以通過共同的激發(fā)光源激發(fā)，或者在不同的時間或在同一時間通過不同的激發(fā)光源激發(fā)。每種類型的標(biāo)記可以發(fā)出其光譜特性曲線不同于其他標(biāo)記的光信號。例如，所述光譜特性曲線可有不同的發(fā)射光譜。所述光發(fā)射可被濾波，以分別檢測來自其他發(fā)射光譜的光信號。如本文所用，術(shù)語“不同的”針對光發(fā)射(包括發(fā)射光譜或其他發(fā)射特征)使用，所述術(shù)語可以廣義地解釋為包括可辨別的或者可區(qū)分的光發(fā)射。例如，所述光發(fā)射的發(fā)射光譜可以具有至少部分重疊的波長范圍，只要一種發(fā)射光譜的至少一部分不完全與其他的發(fā)射光譜重疊。不同的發(fā)射光譜也可以具有相同或類似的波長范圍，但具有不同的可辨別的強(qiáng)度。基于產(chǎn)生所述光信號的激發(fā)光的不同特征可以辨別不同的光信號。例如，在熒光共振能量轉(zhuǎn)移(FRET)成像中，所述光發(fā)射可以相同，但所述光發(fā)射的成因(例如激發(fā)光信號)可能會有所不同。更具體地，第一激發(fā)波長可以用來激發(fā)供體-受體對的供體熒光團(tuán)，以便 FRET導(dǎo)致來自所述受體的發(fā)射而所述受體的激發(fā)也將直接導(dǎo)致來自所述受體的發(fā)射。就這點(diǎn)而言，所述光信號的辨別可以基于對發(fā)射信號的觀測，并結(jié)合對用以產(chǎn)生所述發(fā)射的所述發(fā)射波長的確認(rèn)。不同的光發(fā)射可具有其他不重疊的特征，如發(fā)射各向異性或熒光壽命。此外，當(dāng)所述光發(fā)射被濾波時，所述發(fā)射光譜的波長范圍可被縮小。所述光學(xué)部件在光學(xué)組件中可具有固定的位置，或可以是選擇性地可移動的。如本文所用，術(shù)語“選擇性地”與“移動”和類似的術(shù)語一起使用，所述短語指所述光學(xué)部件的位置可以所需的方式被改變。所述光學(xué)部件的位置和方向的至少一個可被改變。例如，在具體的實(shí)施方式中，可旋轉(zhuǎn)的鏡子被選擇性地移動，以便于聚焦光學(xué)成像系統(tǒng)。本文所述的不同的元件和部件可被可拆卸地耦合。如本文所用，當(dāng)兩個或兩個以上元件或部件被“可拆卸地耦合”(或“可拆卸地安裝”和其他類似的術(shù)語)時，所述元件可被容易地分離而不破壞所述耦合的部件。例如，當(dāng)元件可以容易地彼此分離而不用過度費(fèi)力、不使用工具(即用手)或沒有花費(fèi)大量的時間在所述部件的分離上，所述元件可以是容易地可分離的。舉例來說，在一些實(shí)施方式中，光學(xué)器件可被可拆卸地安裝至光學(xué)底板。此外，流動池和射流器件可被可拆卸地安裝至器件支架。成像階段包括其中所述樣品的至少部分被成像的時間段。一種樣品可以經(jīng)歷或經(jīng)受多個成像階段。例如，一種樣品可以經(jīng)受兩個不同的成像階段，其中每個成像階段試圖檢測來自一種或多種不同標(biāo)記的光信號。作為一個具體的例子，沿核酸樣品的至少部分的第一掃描可以檢測與核苷酸A和C相關(guān)的標(biāo)記而沿所述樣品的至少部分的第二掃描可以檢測與核苷酸G和T相關(guān)的標(biāo)記。在測序?qū)嵤┓绞街?，在測序方案的單獨(dú)循環(huán)中可發(fā)生單獨(dú)的階段。每個循環(huán)可以包括一個或多個成像階段。在其他實(shí)施方式中，在不同的成像階段檢測光信號可包括掃描不同的樣品。不同的樣品可以是相同的類型(例如兩個微陣列芯片)或不同的類型(例如流動池和微陣列芯片)。成像階段期間，觀測所述樣品提供的光信號。各種類型的成像可與本文所述的實(shí)施方式一起使用。例如，本文所述的實(shí)施方式可以利用“步進(jìn)掃描”方法，在所述方法中樣品區(qū)域的各部分被單獨(dú)成像。實(shí)施方式也可被配置以執(zhí)行落射熒光成像和全內(nèi)反射熒光(TIRF)成像的至少一個。在其他實(shí)施方式中，樣品成像器為掃描時間延遲集成(TDI)系統(tǒng)。此外，所述成像階段可包括“行掃描”一種或多種樣品，以便光的線性聚焦區(qū)掃描整個所述樣品。一些行掃描方法的描述見于，例如，美國專利號7，329，860和美國專利公布號2009/0272914，其中每個的完整主題以引用方式全部并入本文。成像階段還可包括以光柵模式移動光的點(diǎn)聚焦區(qū)跨越所述樣品。在替代性的實(shí)施方式中，成像階段可包括檢測無光照時以及完全基于所述樣品內(nèi)的標(biāo)記的發(fā)射性能(例如所述樣品中的放射性或化學(xué)發(fā)光成分)而生成的光發(fā)射。在替代性的實(shí)施方式中，流動池可被安裝到檢測所述所需的反應(yīng)的成像器(如CCD或CMOS)上。如本文所用，術(shù)語“樣品”或“相關(guān)樣品”包括經(jīng)歷成像階段的各種相關(guān)的材料或物質(zhì)，在所述成像階段中，觀測來自所述材料或物質(zhì)的光信號。在具體的實(shí)施方式中，樣品可包括相關(guān)的生物或化學(xué)物質(zhì)以及可選地，支撐所述生物或化學(xué)物質(zhì)的光學(xué)基底或支撐結(jié)構(gòu)。就這點(diǎn)而言，樣品可以包括或可以不包括光學(xué)基底或支撐結(jié)構(gòu)。如本文所用，術(shù)語“生物或化學(xué)物質(zhì)”可以包括各種適于用本文所述的光學(xué)系統(tǒng)成像或檢驗(yàn)的生物或化學(xué)物質(zhì)。例 如，生物或化學(xué)物質(zhì)包括生物分子，如核苷、核酸、多核苷酸、寡核苷酸、蛋白質(zhì)、酶、多肽、抗體、抗原、配體、受體、多糖、碳水化合物、多磷酸鹽、納米孔、細(xì)胞器、脂質(zhì)層、細(xì)胞、組織、生物體和生物活性化合物(如上述種類的類似物或擬態(tài)物)。其他化學(xué)物質(zhì)包括可以用于標(biāo)識的標(biāo)記，其例子包括熒光標(biāo)記和下文進(jìn)一步詳述的其他標(biāo)記。不同類型的樣品可包括以不同的方式影響入射光的不同光學(xué)基底或支撐結(jié)構(gòu)。在具體的實(shí)施方式中，待檢測的樣品可被連接到基底或支撐結(jié)構(gòu)的一個或多個表面。例如，流動池可包括一個或多個流動通道。在流動池中，所述流動通道可以通過所述流動池的頂層和底層與周圍環(huán)境分隔。因此，待檢測的光信號投射自所述支撐結(jié)構(gòu)的內(nèi)部并可以傳輸通過具有不同折射率的多個材料層。例如，當(dāng)檢測來自流動通道的內(nèi)底面的光信號以及當(dāng)檢測來自所述流動通道上面的光信號時，希望待檢測的所述光信號可傳播通過具有一種折射率的流體、通過所述流動池的具有不同的折射率的一個或多個層并通過具有一種不同折射率的周圍環(huán)境。如本文所用，“射流器件”是一種包括一個或多個以預(yù)定的方式引導(dǎo)流體的流動通道以進(jìn)行所需的反應(yīng)的裝置。所述射流器件配置為被射流地耦合至測定系統(tǒng)的射流網(wǎng)絡(luò)。舉例來說，射流器件可包括流動池或芯片實(shí)驗(yàn)室(lab-on-chip)設(shè)備。一般地,流動池沿表面支承樣品以通過外部成像系統(tǒng)成像。芯片實(shí)驗(yàn)室設(shè)備可支承樣品并執(zhí)行額外的功能，如利用集成檢測器檢測所述所需的反應(yīng)。射流器件還可以可選地包含其他被可操作地耦合至所述流動通道的部件，如外殼或成像器。在具體的實(shí)施方式中，所述通道可以具有設(shè)置有樣品的通道表面，而所述射流器件可以包含允許所述樣品在所需的反應(yīng)發(fā)生后成像的透明材料。在具體的實(shí)施方式中，所述流體器件具有微流體尺寸的通道。在這樣的通道中，流動穿過其中的液體的表面張力和內(nèi)聚力以及所述液體和所述通道的表面之間的粘合力至少對所述液體的流動有實(shí)質(zhì)影響。例如，微流體通道的橫截面面積(垂直于流動方向截取)可以是約10 μ Hi2或更小。在替代性的實(shí)施方式中，本文所述的光學(xué)成像系統(tǒng)可用于掃描具有微陣列的樣品。一個微陣列可包括連接到一個或多個基底的一組不同的探針分子，以便所述不同的探針分子可以根據(jù)相對位置彼此區(qū)分開來。一個陣列可以包括不同的探針分子，或不同組的探針分子，其中每個位于基底上不同的尋址位置。替代地，一個微陣列可包括單獨(dú)的光學(xué)基底(如珠)，每個承載一個不同的探針分子，或一組不同的探針分子，所述探針分子可以根據(jù)連接有所述光學(xué)基底的表面上所述基底的位置或者根據(jù)所述基底在液體中的位置來識別。其中單獨(dú)的基底被設(shè)置于表面上的示例性的陣列包括但不限于，來自Illumina*,Inc. (San Diego, CA)的BeadChip陣列或其他孔中包含珠的陣列，如那些描述于專利號為6，266，459,6, 355，431,6, 770，441,6, 859，570 和 7，622，294 的美國專利；以及 PCT 公布號為WO 00/63437的專利中的陣列，所述專利的每個以引用方式并入本文。其他在表面上具有顆粒的陣列包括那些在US 2005/0227252、WO 05/033681和WO 04/024328 (其中每個以引用方式并入本文)中闡述的陣列?？梢允褂帽绢I(lǐng)域已知的各種微陣列的任何一種。典型的微陣列包含位點(diǎn)(有時也被稱為功能部件)，每個具有一組探針。每個位點(diǎn)上的探針組通常具有單一品種的探針，是同質(zhì)的，但在一些實(shí)施方式中，所述組中每個可以是異質(zhì)的。陣列的位點(diǎn)或功能部件通常是離散的、被隔開的。單獨(dú)的位點(diǎn)可以是連續(xù)的，或者它們彼此之間可以有間隔。所述探針位 點(diǎn)的大小和/或所述位點(diǎn)之間的間距可以不同，以便陣列可以是高密度、中密度或較低密度。高密度陣列的特點(diǎn)是位點(diǎn)間隔小于約15 μ m。中密度陣列的位點(diǎn)間隔約15至30 μ m，而低密度陣列的位點(diǎn)間隔大于30 μ m。用于本發(fā)明的陣列可以具有間隔小于100 μ m、50 μ m、10 μ m、5 μ m、I μ m或0. 5 μ m的位點(diǎn)。本發(fā)明實(shí)施方式的裝置或方法可用來以足以辨別上述密度或密度范圍的位點(diǎn)的分辨率使陣列成像?？梢允褂玫氖惺畚㈥嚵械倪M(jìn)一步的例子包括，例如Affymetrix GeneChip*微陣列或其他按照有時被稱為VLSIPS (超大規(guī)模固定化聚合物合成)技術(shù)的方法合成的微陣列，如，例如專利號為 5，324，633 ;5，744，305 ;5，451，683 ;5，482，867 ;5，491，074 ；5，624，711 ;5，795，716 ;5，831，070 ;5，856，101 ;5，858，659 ;5，874，219 ;5，968，740 ；5，974，164 ;5，981，185 ;5，981，956 ;6，025，601 ;6，033，860 ;6，090，555 ;6，136，269 ；6，022，963 ;6，083，697 ;6，291，183 ;6，309，831 ;6，416，949 ;6，428，752 和 6，482，591 的美國專利(其中每個以引用方式并入本文)中所述。點(diǎn)狀微陣列也可用于根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的方法中。不例性的點(diǎn)狀微陣列是來自Amersham Biosciences的CodeLink 陣列。另一有用的微陣列是一種使用噴墨印刷方法(來自Agilent Technologies的SurePrint 技術(shù))制造的微陣列。本文闡述的所述系統(tǒng)和方法可以用來檢測所述微陣列接觸的樣品中具體靶分子的存在。這可以，例如基于標(biāo)記的靶分析物至所述微陣列的具體探針的結(jié)合或者由于具體探針的靶點(diǎn)依賴性修改來確定，以摻入、去除或改變所述探針位置的標(biāo)記。幾種檢測中的任何一種可以用來利用微陣列(如，例如公布號為2003/0108867、2003/0108900、2003/0170684、2003/0207295或2005/0181394的美國專利申請(其中每個以引用方式并入本文)中所述)識別或表征靶點(diǎn)。此外，本文所述的光學(xué)系統(tǒng)可被闡釋為包括如2007年3月30日提交的題為“System and Devices for Sequence by Synthesis Analysis，，的PCT 申請PCT/US07/07991中所述的各種部件和組件和/或包括如2008年9月26日提交的題為“FluorescenceExcitation and Detection System and Method”的國際公開號為 WO 2009/042862 的國際申請中所述的各種部件和組件(所述兩個申請的完整主題整體以引用方式并入本文)。在具體的實(shí)施方式中，光學(xué)系統(tǒng)可包括如美國專利號7，329，860和WO 2009/137435 (其完整主題整體以引用方式并入本文)中所述的各種部件和組件。光學(xué)系統(tǒng)還可包括如2009年12月15日提交的申請?zhí)枮?2/638，770的美國專利(其完整主題整體以引用方式并入本文)中所述的各種部件和組件。在具體的實(shí)施方式中，本文所述的方法和光學(xué)系統(tǒng)可用于核酸測序。例如，邊合成邊測序(SBS)方案尤為適用。在SBS中，多個突光標(biāo)記的改性核苷酸被用于對光學(xué)基底的表面(例如在流動池中至少部分地限定通道的表面)上存在的多個擴(kuò)增DNA簇(可能以百萬計(jì)的簇)測序。所述流動池可包含用于測序的核酸樣品，其中所述流動池被置于適當(dāng)?shù)牧鲃映刂Ъ軆?nèi)。所述用于測序的樣品可以呈現(xiàn)單一核酸分子的形式，所述單一核酸分子被彼此隔開，以便作為簇或其他特征形式的可單獨(dú)拆分、擴(kuò)增的核酸分子群，或者被連接至一個或多個核酸分子的珠。因此，可以在諸如那些上文闡述的陣列上進(jìn)行測序。核酸可以制備為其在與未知靶序列相鄰的位置包含寡核苷酸引物。要開始第一 SBS測序循環(huán)，一個或 多個不同標(biāo)記的核苷酸以及DNA聚合酶等可通過流體流動子系統(tǒng)(未顯示)流入/流經(jīng)所述流動池。單一類型的核苷酸可被一次加入，或者在測序過程中使用的核苷酸可被專門設(shè)計(jì)為具有可逆終止屬性，從而允許在幾種類型的標(biāo)記核苷酸(如A、C、T、G)的存在下同時發(fā)生每個循環(huán)的測序反應(yīng)。所述核苷酸可以包括可檢測的標(biāo)記部分，如熒光團(tuán)。當(dāng)所述四種核苷酸混合在一起時，所述聚合酶能夠選擇正確的堿以摻入，而每個序列通過單堿基被延伸。未摻入的核苷酸可以通過使洗液流過所述流動池被洗掉。一種或多種激光器可激發(fā)核酸并誘發(fā)熒光。所述核酸發(fā)出的熒光基于所摻入的堿的熒光團(tuán)，而不同的熒光團(tuán)可發(fā)出不同波長的發(fā)射光。解封閉試劑可被加至所述流動池，以從被延伸及檢測的DNA鏈去除可逆終止子基團(tuán)。然后，所述解封閉試劑可以通過使洗液流過所述流動池被洗掉。所述流動池然后備用于進(jìn)一步的始于如上所述的標(biāo)記核苷酸的引入的測序循環(huán)。射流和檢測步驟可被重復(fù)多次，以完成測序操作。示例性測序方法的描述見于，例如Bentley等人，Nature456:53-59(2008), WO 04/018497 ；US 7, 057, 026 ；W0 91/06678 ；W0 07/123744 ；US7, 329, 492 ；US 7, 211, 414 ；US 7, 315, 019 ；US 7，405，281 和 US 2008/0108082，其中每個以引用方式并入本文。在一些實(shí)施方式中，核酸可在測序之前或期間被附到表面并擴(kuò)增。例如，可以使用橋式擴(kuò)增進(jìn)行擴(kuò)增，以在表面上形成核酸簇。有用的橋式擴(kuò)增方法的描述見于，例如，美國專利號5，641，658、美國專利公開號2002/0055100、美國專利號7，115，400、美國專利公開號2004/0096853、美國專利公開號2004/0002090、美國專利公開號2007/0128624和美國專利公開號2008/0009420。另一有用的用于擴(kuò)增表面上的核酸的方法是滾環(huán)擴(kuò)增(RCA)，例如，如 Lizardi 等人，Nat. Genet. 19:225-232(1998)和 US 2007/0099208A1 (其中每個以引用方式并入本文)中所述。珠上乳液PCR也可以使用，例如,如Dressman等人，Proc. Natl.Acad. Sci. USA 100:8817-8822(2003)、WO 05/010145 或美國專利公開號 2005/0130173 或2005/0064460 (其中每個的全部內(nèi)容以引用方式并入本文)中所述。其他適用于本文闡述的所述方法和系統(tǒng)的用途的測序技術(shù)為焦磷酸測序、納米孔測序以及連接法測序。特別有用的示例性焦磷酸測序技術(shù)和樣品被描述于US 6，210，891、US 6, 258, 568, US 6，2了4，32O 和 Ronaghi, Genome Research 11:3-11(2001)(其中每個以引用方式并入本文)。也有用的示例性納米孔技術(shù)和樣品被描述于Deamer等人，Acc.Chem. Res. 35:817-825(2002) ；Li 等人，Nat. Mater. 2:611-615 (2003) ；Soni 等人,ClinChem. 53:1996-2001 (2007)、Healy 等人，Nanomed. 2:459-481 (2007)和 Cockroft 等人，J.am. Chem. Soc. 130:818-820 ;以及US 7，001，792(其中每個以引用方式并入本文)。具體地，這些方法利用重復(fù)的試劑遞送步驟。本文提出的儀器或方法可配置有貯器、閥門、射流線和其他射流部件以及用于那些部件的控制系統(tǒng)，以引入試劑并根據(jù)所需的方案(例如如上所述的參考文獻(xiàn)中提出的那些方案)檢測光信號。各種樣品中的任何一種可被用于這些系統(tǒng)，例如具有通過乳液PCR生成的珠的基底、具有零模式波導(dǎo)的基底、具有集成CMOS檢測器的基底、在脂質(zhì)雙層中具有生物納米孔的基底、具有合成納米孔的固態(tài)基底以及本領(lǐng)域已知的其他基底。這些樣品被描述于上文所述的參考文獻(xiàn)中的各種測序技術(shù)背景并進(jìn)一步被描述于 US 2005/0042648,US 2005/0079510,US 2005/0130173 和 WO 05/010145 (其中每個以引用方式并入本文)?？梢园凑詹煌膶?shí)施方式被檢測(例如，當(dāng)存在于支撐結(jié)構(gòu)上面或內(nèi)部時)的示例性標(biāo)記包括但不限于發(fā)色團(tuán)、發(fā)光團(tuán)、熒光團(tuán)、光學(xué)編碼的納米粒子、以衍射光柵編碼的顆粒、電化學(xué)發(fā)光的標(biāo)記(如Ru(bpy)32+)或可以基于光學(xué)特性被檢測到的部分。可以有用的熒光團(tuán)包括，例如熒光鑭系復(fù)合物(包括那些銪和鋱的復(fù)合物)、熒光素、羅丹明、四甲基羅丹明、曙紅、赤蘚紅、香豆素、甲基香豆素、芘、孔雀石綠、Cy3、Cy5、二苯乙烯、熒光黃(Lucifer Yellow)、Cascade Blue 、Texas Red、alexa 染料、藻紅蛋白、氟硼突和本領(lǐng)域已知的其他突光團(tuán)，如那些在 Haugland, Molecular Probes Handbook, (Eugene, OR)6thEdition ；The Synthegen catalog(Houston, TX. ), Lakowicz, Principles of FluorescenceSpectroscopy, 2nd Ed. , Plenum Press New York(1999)或 WO 98/59066 (其中每個以引用方式并入本文)中描述的熒光團(tuán)。在一些實(shí)施方式中，一對標(biāo)記可以是由第一激發(fā)波長可激發(fā)的而另一對標(biāo)記可以是由第二激發(fā)波長可激發(fā)的。雖然實(shí)施方式是關(guān)于包括由光學(xué)基底支撐的生物或化學(xué)物質(zhì)的樣品的檢測的示例，可以理解其他樣品可以通過本文所述的實(shí)施方式被成像。其他示例性的樣品包括但不限于生物標(biāo)本(如細(xì)胞或組織)、電子芯片(如計(jì)算機(jī)處理器中所使用的那些)等等。一些應(yīng)用的例子包括顯微鏡、衛(wèi)星掃描儀、高分辨率復(fù)印、熒光圖像采集、核酸分析和測序、DNA測序、邊合成邊測序、微陣列成像、全息編碼微粒成像等等。圖I是按照一個實(shí)施方式形成的用于進(jìn)行生物或化學(xué)分析的測定系統(tǒng)100的框圖。在一些實(shí)施方式中，所述測定系統(tǒng)100是可類似于臺式設(shè)備或臺式電腦的工作站。例如，至少大多數(shù)用于進(jìn)行所需的反應(yīng)的系統(tǒng)和部件可以共同處于所述測定系統(tǒng)100的外殼117內(nèi)。在其他實(shí)施方式中，所述測定系統(tǒng)100包括離所述測定系統(tǒng)100遠(yuǎn)程設(shè)置的一種或多種部件、組件或系統(tǒng)(例如遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)庫)。所述測定系統(tǒng)100可包括彼此相互作用以執(zhí)行一種或多種用于生物或化學(xué)分析的預(yù)定方法或測定方案的各種部件、組件和系統(tǒng)(或子系統(tǒng))。例如，所述測定系統(tǒng)100包括系統(tǒng)控制器102，所述系統(tǒng)控制器102可以與所述測定系統(tǒng)100的所述各種部件、組件和系統(tǒng)(或子系統(tǒng))連通。如圖所示，所述測定系統(tǒng)100具有光學(xué)組件104、激發(fā)源組件106、檢測器組件108和支撐一個或多個其上具有樣品的射流器件112的射流器件支架110。所述射流器件可以是流動池，如下文所述的流動池200，或者所述射流器件112可以是下文所述的射流器件300。在一些實(shí)施方式中，所述光學(xué)組件104被配置以引導(dǎo)來自所述激發(fā)源組件106的入射光到所述射流器件112之上。所述激發(fā)源組件106可包括一種或多種被配置以激發(fā)與所述樣品相關(guān)的標(biāo)記的激發(fā)光源。所述激發(fā)源組件106也可被配置以提供由所述樣品反射和/或折射的入射光。如圖所示，所述樣品可提供包括光發(fā)射116和/或透射光118的光信號。所述器件支架110和所述光學(xué)組件104可彼此相對移動。在一些實(shí)施方式中，所述器件支架110包括相對于所述光學(xué)組件104移動所述射流器件112的電機(jī)組件132。在其他實(shí)施方式中，所述光學(xué)組件104可被另外或者替代地移動至所述器件支架110。所述光學(xué)組件104也可被配置以引導(dǎo)所述光發(fā)射116和/或透射光118至所述檢測器組件108。所述檢測器組件108可包括一種或多種成像檢測器。所述成像檢測器可以是，只是作為舉例，CCD或CMOS攝像頭，或光電倍增管。仍如圖所示，所述測定系統(tǒng)100可包括控制整個射流網(wǎng)絡(luò)135 (實(shí)線表示)的流體 流動的射流控制系統(tǒng)134。所述射流控制系統(tǒng)134可于，例如測序方案期間遞送反應(yīng)成分(例如試劑)或其他流體至所述射流器件112。所述測定系統(tǒng)100還可包括被配置為存放所述測定系統(tǒng)100可用的流體的流體存儲系統(tǒng)136以及調(diào)節(jié)所述流體的溫度的溫度控制系統(tǒng)138。所述溫度控制系統(tǒng)138 —般地也可利用，例如散熱模塊、散熱器和鼓風(fēng)機(jī)來調(diào)節(jié)所述測定系統(tǒng)100的溫度。仍如圖所示，所述測定系統(tǒng)100可包括與用戶互動的用戶界面140。例如，所述用戶界面140可包括顯示或請求來自用戶的信息的顯示器142和接收用戶輸入的用戶輸入設(shè)備144。在一些實(shí)施方式中，所述顯示器142和所述用戶輸入設(shè)備144是相同的設(shè)備(如觸摸屏)。如將在下文作更詳細(xì)的討論，所述測定系統(tǒng)100可與各個部件連通以執(zhí)行所需的反應(yīng)。所述測定系統(tǒng)100也可被配置以分析檢測數(shù)據(jù)，以向用戶提供所需信息。所述射流控制系統(tǒng)134被配置以引導(dǎo)和調(diào)節(jié)一種或多種流體通過所述射流網(wǎng)絡(luò)135。所述射流控制系統(tǒng)134可包括，例如，選擇性地可操作用于控制流體流動的泵和閥門。所述射流網(wǎng)絡(luò)135可與所述射流器件112和所述流體存儲系統(tǒng)136流體連通。例如，選定的流體可被汲取自所述流體存儲系統(tǒng)136并以受控的方式被引導(dǎo)至所述射流器件112，或所述流體可被汲取自所述射流器件112并被引向，例如所述流體存儲系統(tǒng)136中的廢物貯器。雖未顯示，所述射流控制系統(tǒng)134還可包括檢測所述射流網(wǎng)絡(luò)內(nèi)所述流體的流速或壓力的流量傳感器。所述傳感器可與所述系統(tǒng)控制器102連通。所述溫度控制系統(tǒng)138被配置以調(diào)節(jié)所述射流網(wǎng)絡(luò)135、所述流體存儲系統(tǒng)136和/或所述射流器件112的不同區(qū)域的流體溫度。例如，所述溫度控制系統(tǒng)138可包括與所述射流器件112接合并控制沿所述射流器件112流動的流體的溫度的熱循環(huán)器113。雖未顯示，所述溫度控制系統(tǒng)138可包括檢測流體或其他部件的溫度的傳感器。所述傳感器可與所述系統(tǒng)控制器102連通。所述流體存儲系統(tǒng)136與所述射流器件112流體連通并可存儲本文中用來進(jìn)行所需的反應(yīng)的各種反應(yīng)成分或反應(yīng)物。所述流體存儲系統(tǒng)136可存儲用于清洗或清潔所述射流網(wǎng)絡(luò)135或所述射流器件112以及也用于稀釋所述反應(yīng)物的流體。例如，所述流體存儲系統(tǒng)136可包括各種用于存儲試劑、酶、其他生物分子、緩沖溶液、水和非極性溶液等等的貯器。此外，所述流體存儲系統(tǒng)136還可包括用于接收廢產(chǎn)物的廢物貯器。所述器件支架110被配置為例如，以機(jī)械、電氣和流體方式中的至少一個嚙合一個或多個所述射流器件112。所述器件支架110可以一個期望的方向支承所述射流器件112，以便于流體流過所述射流器件112和/或所述射流器件112成像。所述系統(tǒng)控制器102可包括任何基于處理器或基于微處理器的系統(tǒng)，包括使用微控制器、精簡指令組計(jì)算機(jī)(RISC)、專用集成電路(ASIC)、現(xiàn)場可編程門陣列(FPGA)、邏輯電路和任何其他能夠執(zhí)行本文所述的功能的電 路或處理器的系統(tǒng)。上面的例子僅僅是示例性的，并因此不一定旨在限制所述術(shù)語系統(tǒng)控制器 的定義和/或含義。在示例性的實(shí)施方式中，所述系統(tǒng)控制器102執(zhí)行存儲于一種或多種存儲單元、存儲器或模塊的指令組，以便實(shí)現(xiàn)檢測數(shù)據(jù)的獲取和分析的至少一個。存儲元件可以是信息源或所述測定系統(tǒng)100內(nèi)的物理存儲元件的形式。所述指令組可包括各種指示所述測定系統(tǒng)100執(zhí)行具體操作(如本文所述的各種實(shí)施方式的方法和過程)的命令。所述指令組可以是軟件程序的形式。如本文所用，術(shù)語“軟件”和“固件”是可以互換的，并包含存儲在存儲器中由計(jì)算機(jī)執(zhí)行的任何計(jì)算機(jī)程序，所述存儲器包括RAM存儲器、ROM存儲器、EPROM存儲器、EEPROM存儲器、非易失性RAM (NVRAM)存儲器。以上的存儲器類型僅僅是示例性的，因而不是對可用于存儲計(jì)算機(jī)程序的存儲器的類型的限制。所述軟件可以是各種形式，如系統(tǒng)軟件或應(yīng)用軟件。此外，所述軟件可以是單獨(dú)的程序的集合，或者較大程序內(nèi)部的程序模塊或程序模塊的一部分。所述軟件還可包括面向?qū)ο缶幊痰男问降哪K化編程。獲得檢測數(shù)據(jù)后，可通過所述測定系統(tǒng)100自動處理、響應(yīng)用戶輸入處理或響應(yīng)另一處理機(jī)作出的請求(例如通過通信鏈路的遠(yuǎn)程請求)處理所述檢測數(shù)據(jù)。所述系統(tǒng)控制器102可通過通信鏈路(虛線表示)連接至所述測定系統(tǒng)100的其他部件或子系統(tǒng)。所述系統(tǒng)控制器102也可被通信地連接至異地系統(tǒng)或服務(wù)器。所述通信鏈路可以是硬連線或無線的。所述系統(tǒng)控制器102可接收來自所述用戶界面140的用戶輸入或命令。所述用戶輸入設(shè)備144可包括鍵盤、鼠標(biāo)、觸摸屏面板和/或語音識別系統(tǒng)等等。替代地或另外地，所述用戶輸入設(shè)備144也可以是所述顯示器142。圖I也示出所述系統(tǒng)控制器102的框圖。在一個實(shí)施方式中，所述系統(tǒng)控制器102包括一個或多個可以彼此連通的處理器或模塊。所述系統(tǒng)控制器102在概念上被作為模塊的集合示出，但可以利用專用硬件板、DSP、處理器等的任意組合來實(shí)現(xiàn)。替代地，所述系統(tǒng)控制器102可利用帶有單處理器或多處理器的現(xiàn)成的個人電腦來實(shí)現(xiàn)，而功能操作分布在所述處理器之間。作為進(jìn)一步的選擇，下文所述的模塊可以利用混合配置來實(shí)現(xiàn)，其中某些模塊功能利用專用硬件來執(zhí)行，而其余的模塊功能利用現(xiàn)成的個人電腦等來執(zhí)行。所述模塊也可作為處理單元內(nèi)的軟件模塊來實(shí)現(xiàn)。所述系統(tǒng)控制器102可包括與系統(tǒng)控制模塊150連通的多個模塊151-158。所述系統(tǒng)控制模塊150可以與所述用戶界面140連通。雖然所述模塊151-158被顯示與所述系統(tǒng)控制模塊150直接連通，所述模塊151-158也可以彼此、與所述用戶界面140或者與其他系統(tǒng)直接連通。此外，所述模塊151-158可以通過其他模塊與所述系統(tǒng)控制模塊150連通。所述多個模塊151-158包括與所述子系統(tǒng)連通的系統(tǒng)模塊151-153。所述流體控制模塊151可以與所述射流控制系統(tǒng)134連通，以控制所述射流網(wǎng)絡(luò)135的閥門和流量傳感器，從而控制一種或多種流體流動通過所述射流網(wǎng)絡(luò)135。當(dāng)流體變低或當(dāng)所述廢物貯器必須更換時，所述流體存儲模塊152可通知用戶。所述流體存儲模塊152還可以與所述溫度控制模塊153連通，以便所述流體可以在理想的溫度下被存儲。所述多個模塊151-158還可包括接收并分析來自所述檢測器組件108的檢測數(shù)據(jù)(例如圖像數(shù)據(jù))的圖像分析模塊158。處理后的檢測數(shù)據(jù)可被存儲起來以供后續(xù)分析或可被傳送到所述用戶界面140以向用戶顯示所需的信息。方案模塊155-157與所述系統(tǒng)控制模塊150連通，以當(dāng)進(jìn)行預(yù)定的測定方案時控制所述子系統(tǒng)的運(yùn)作。所述方案模塊155-157可包括用于指示所述測定系統(tǒng)100根據(jù)預(yù)定方案執(zhí)行具體操作的指令組。所述方案模塊155可被配置以發(fā)出在所述射流器件112內(nèi)生成樣品的命令。例如，所述方案模塊155可以指示所述流體存儲系統(tǒng)136和所述溫度控制系統(tǒng)138在樣品區(qū)域中生成樣品。在一個具體的實(shí)施方式中，所述方案模塊155可發(fā)出執(zhí)行橋式PCR的命令,其中 克隆擴(kuò)增子簇形成于流動池通道(或通路)內(nèi)的局部區(qū)。所述方案模塊156可以是被配置以發(fā)出各種執(zhí)行邊合成邊測序過程的命令的邊合成邊測序(SBS)模塊。在一些實(shí)施方式中，所述SBS模塊156也可處理檢測數(shù)據(jù)。通過橋式PCR生成所述擴(kuò)增子后，所述SBS模塊156可提供進(jìn)行所述擴(kuò)增子線性化或變性的指令以產(chǎn)生sstDNA并添加測序引物，以便所述測序引物可以雜交成為位于有關(guān)區(qū)域側(cè)面的通用序列。每個測序循環(huán)通過單堿基延伸所述sstDNA并通過改性DNA聚合酶和四種核苷酸混合物(其遞送可以受所述SBS模塊156的指示)完成。不同類型的核苷酸具有獨(dú)特的熒光標(biāo)記，以及每個核苷酸具有只允許一個循環(huán)內(nèi)發(fā)生單堿基摻入的可逆終止子。單堿基被加入所述sstDNA后，所述SBS模塊156可以發(fā)出清洗步驟的指令，以通過使洗液流過所述流動池去除未摻入的核苷酸。所述SBS模塊156可進(jìn)一步指示所述激發(fā)源組件和檢測器組件執(zhí)行成像階段以在所述四個通道的一個中檢測熒光(即每個熒光標(biāo)記一個)。成像后，所述SBS模塊156可指示遞送解封閉試劑，以從所述sstDNA化學(xué)切割所述熒光標(biāo)記和所述終止子。所述SBS模塊156可以發(fā)出清洗步驟的指令，以去除所述解封閉試劑和所述解封閉試劑的產(chǎn)物。隨后可進(jìn)行另一類似的測序循環(huán)。在這種測序方案中，所述SBS模塊156可指示所述射流控制系統(tǒng)134引導(dǎo)試劑和酶溶液流動通過所述射流器件112。在一些實(shí)施方式中，所述SBS模塊157可被配置以發(fā)出各種執(zhí)行焦磷酸測序方案步驟的命令。當(dāng)具體的核苷酸被摻入到新生鏈時，焦磷酸測序檢測無機(jī)焦磷酸(PPi)的釋放(Ronaghi，M.等人·(1996) " Real-time DNA sequencing usingdetection of pyrophosphate release. " Analytical Biochemistry 242 (I),84-9 ；Ronaghi, M. (2001) " Pyrosequencing sheds light on DNA sequencing. " GenomeRes. 11(1), 3-11 ；Ronaghi, M.等人· (1998) " A sequencing method based on real-timepyrophosphate. " Science 281 (5375)，363 ;美國專利號 6，210，891 ;美國專利號6，258，568和美國專利號6，274，320，其披露的全部內(nèi)容以引用方式并入本文)。在焦磷酸測序中，釋放的PPi可以通過由腺苷三磷酸腺苷(ATP)硫酸化酶立即被轉(zhuǎn)換為ATP進(jìn)行檢測，以及生成的ATP水平通過熒光素酶產(chǎn)生的光子進(jìn)行檢測。在這種情況下，所述射流器件112可包括數(shù)百萬的孔，其中每個孔具有在其上具有克隆擴(kuò)增sstDNA的單一捕獲珠。每個孔還可包括其他較小的珠子(例如可攜帶固定化酶(例如ATP硫酸化酶和熒光素酶)或便于將所述捕獲珠保持在所述孔中的珠子)。所述SBS模塊157可被配置以向所述流體控制模塊151發(fā)出命令，以連續(xù)進(jìn)行攜帶單一類型核苷酸的流體的循環(huán)(例如，第I循環(huán)A ;第2循環(huán)=G ;第3循環(huán)C ;第4循環(huán)T ;第5循環(huán)Α ;第6循環(huán)G ;第7循環(huán)C ;第8循環(huán)T ;等等)。當(dāng)核苷酸被摻入到DNA中時，焦磷酸被釋放，從而引發(fā)鏈?zhǔn)椒磻?yīng)，其中產(chǎn)生光猝發(fā)。所述光猝發(fā)可以通過所述檢測器組件的樣品檢測器進(jìn)行檢測。檢測數(shù)據(jù)可被傳達(dá)到所述系統(tǒng)控制模塊150、所述圖像分析模塊158和/或所述SBS模塊157進(jìn)行處理。所述檢測數(shù)據(jù)可存儲起來用于以后的分析或可通過所述系統(tǒng)控制器102進(jìn)行分析而圖像可被發(fā)送到所述用戶界面140。在一些實(shí)施方式中，用戶可以通過所述用戶界面140提供用戶輸入，以選擇將由所述測定系統(tǒng)100運(yùn)行的測定方案。在其他實(shí)施方式中，所述測定系統(tǒng)100可自動檢測已被插進(jìn)所述器件支架110的射流器件112的類型并與用戶確認(rèn)待運(yùn)行的測定方案。替代地，所述測定系統(tǒng)100可提供數(shù)量有限的以確定類型的射流器件112運(yùn)行的測定方案。用
戶可以選擇所需的測定方案，然后所述測定系統(tǒng)100可根據(jù)預(yù)編程指令執(zhí)行所選定的測定方案。圖2和3示出按照一個實(shí)施方式被配置用于樣品的生物和化學(xué)分析的工作站160。如圖所示，所述工作站160相對于相互垂直的X、Y和Z軸定位。在所示的實(shí)施方式中，地球引力g平行于所述Z軸延伸。所述工作站160可包括工作站殼162 (或工作站外殼)，其被示于圖2和圖3的剖視圖中。所述殼162被配置以容納所述工作站160的各種元件。例如，所述工作站160可包括如上文所述的關(guān)于所述測定系統(tǒng)100 (圖I)的類似元件。如圖所示，所述工作站160具有光學(xué)臺164，所述光學(xué)臺164具有多個安裝至其的光學(xué)部件。所述光學(xué)部件可以是光學(xué)組件(如根據(jù)圖38等描述的所述光學(xué)組件602)的一部分。所述光學(xué)臺164可以具有相對于所述殼162的固定位置。所述工作站160還可包括可移動地耦合至所述光學(xué)臺164的樣品臺166。所述樣品臺166可具有在其上支撐具有有關(guān)樣品的射流器件的滑動平臺168。在所示的實(shí)施方式中，所述射流器件是在下文更詳細(xì)地描述的射流器件300。所述平臺168被配置為相對于所述光學(xué)臺164以及，更具體地，相對于所述光學(xué)組件602的成像透鏡滑動。為此，所述平臺168可以沿所述X軸雙向滑動，以便所述射流器件300可被置于所述樣品臺166上以及以便所述成像透鏡可以在所述射流器件300的上方滑動以使其中的樣品成像。在其他實(shí)施方式中，所述平臺168可以是靜止的而所述樣品臺166可以沿所述X軸雙向滑動，以相對于所述光學(xué)組件602的成像透鏡設(shè)置所述射流器件300。因此，所述平臺和樣品臺由于所述樣品臺、平臺或兩者的移動而可以是相對于彼此可移動的。仍如圖所示，所述工作站160可包括用戶界面172、計(jì)算系統(tǒng)174 (圖2)以及流體存儲單元176和178 (圖4)。所述用戶界面172可以是被配置以向用戶顯示信息并且也接收用戶輸入的觸摸屏。例如，所述觸摸屏可以接收執(zhí)行預(yù)定的測定方案或接收來自用戶的查詢的命令。所述計(jì)算系統(tǒng)174可包括處理器和模塊，如根據(jù)圖I描述的所述系統(tǒng)控制器102和所述模塊151-158。所述流體存儲單元176和178可以是更大的流體存儲系統(tǒng)的一部分。所述流體存儲單元176可用于收集執(zhí)行所述測定產(chǎn)生的廢物而所述流體存儲單元178可包括緩沖液。圖4是可用于所述工作站160 (圖2)的射流網(wǎng)絡(luò)552的圖。如本文所用，流體可以是液體、凝膠、氣體或其混合物。此外，流體可以是兩種或兩種以上的液體的混合物。所述射流網(wǎng)絡(luò)552可包括多個被配置為有一種或多種流體流過的射流部件(例如，流體線、泵、流動池或其他射流器件、歧管、貯器)。如圖所示，所述射流網(wǎng)絡(luò)552包括多個通過流體線互連的射流部件553-561 (實(shí)線表示)。在所示的實(shí)施方式中，所述射流網(wǎng)絡(luò)552包括緩沖溶液容器553、試劑托盤554、多口閥555、旁路閥556、流量傳感器557、流動池558、另一流量傳感器559、泵560和廢物貯器561。流體的流動方向通過沿所述流體線的箭頭表示。除了所述射流部件553-561，所述射流網(wǎng)絡(luò)還可包括其他射流部件。所述試劑托盤554可以與下文更詳細(xì)地描述的反應(yīng)成分托盤(或反應(yīng)成分存儲單元)1020類似。所述托盤1020可以包括各種包含用于以 本文所述的實(shí)施方式執(zhí)行測定的反應(yīng)成分的容器(例如瓶或管)。所述多口閥555的操作可以受控于測定系統(tǒng)，如所述測定系統(tǒng)100，以選擇性地使不同的流體(包括其混合物)流入所述流動池558。所述流動池558可以是所述流動池200或所述射流器件300 (兩者在下文被更詳細(xì)地描述)或其他合適的射流器件。圖5-60 (在下文被更詳細(xì)地描述)示出可以與所述工作站160 —起使用的各種元件(例如部件、設(shè)備、組件、系統(tǒng)等等)和方法。這些元件可以彼此配合以成像樣品、分析所述檢測數(shù)據(jù)并向所述工作站160的用戶提供信息。然而，下面的元件和方法也可以獨(dú)立使用、在其他裝置中使用或與其他裝置一起使用。例如，所述流動池200和所述射流器件300可用于其他的測定系統(tǒng)。所述光學(xué)組件602 (及其元件)可用于檢查其他項(xiàng)目，如微型電路。此外，所述器件支架400可被用于支承其他射流器件，如芯片實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。帶有這些設(shè)備的測定系統(tǒng)可以包括或不包括光學(xué)組件，以檢測所述所需的反應(yīng)。圖5-7示出按照一個實(shí)施方式形成的流動池200。如圖5-7所示,所述流動池200相對于所述X、Y和Z軸定位。所述流動池200被配置以在流動通道206中保持有關(guān)樣品205。所述樣品205被示為在SBS方案過程中可以成像的多個DNA簇，但其他樣品可用于替代性的實(shí)施方式中。雖然只示出單一的U形流動通道206，替代性的實(shí)施方式可包括具有帶有不同形狀的路徑的多流動通道的流動池。所述流動池200可以與射流系統(tǒng)(未顯示)流體連通，所述射流系統(tǒng)被配置以遞送試劑至所述流動通道206中的所述樣品205。在一些實(shí)施方式中，所需的反應(yīng)發(fā)生后，所述樣品205可提供可檢測的特征(例如通過熒光或化學(xué)發(fā)光)。例如，所述流動池200可以具有光信號從其中發(fā)出的一個或多個樣品區(qū)域或部分(SP所述樣品205所處的區(qū)域或部分)。在一些實(shí)施方式中，所述流動池200也可用于生成所述樣品205，以執(zhí)行生物或化學(xué)測定。例如，在所述SBS方案執(zhí)行前，所述流動池200可用于生成所述DNA簇。如圖5-7所示，所述流動池200可以包括固定在一起并在其間限定所述流動通道206的第一層202和第二層204。所述第一層202具有安裝表面208和外部表面或外表面210 (圖5和6)。所述安裝表面和外部表面208和210沿所述Z軸面向相反的方向并在其間限定厚度T1 (圖5和6)。所述厚度T1沿乂￥平面大體上是均勻的，但在替代性的實(shí)施方式中可以有所不同。所述第二層204具有通道表面212 (圖6)和外部表面或外表面214。所述通道表面和外部表面212和214沿所述Z軸面向相反的方向并在其間限定厚度T2 (圖6)。仍然如圖5所示，所述第一層202具有沿所述X軸測量的尺寸或長度L1和沿所述Y軸測量的另一尺寸或?qū)挾萕p在一些實(shí)施方式中，所述流動池200被定性為微裝置。微裝置可能很難通過個人的手保持或移動。例如，所述流動池200的所述長度L1可以是約100_或約50mm或更小。在具體的實(shí)施方式中，所述長度L1是約30mm或更小。在一些實(shí)施方式中，所述寬度W1可以是約35mm或約25mm或更小，更具體地,所述寬度W1可以是約15mm或更小。此外，圖7所示的合并或總高度Ht (例如厚度T1和T2的總和)可以是約IOmm或約5mm或更小。更具體地，所述高度Ht可以是約2mm或約I. 5mm或更小。所述流動池200包括在所示的實(shí)施方式中呈線性的邊緣231-234。邊緣231和233以所述寬度W1間隔開并延伸所述流動池200的所述長度U。邊緣232和234以所述長度L1間隔開并沿所述寬度W1延伸。仍如圖所示，所述第二層204可以具有沿所述X軸測量的尺寸或長度L2和沿所述Y軸測量的另一尺寸或?qū)挾萕2。在所示的實(shí)施方式中，所述邊緣231-234限定所述流動池200的周邊并沿平行于所述XY平面延伸的共同的池平面延伸。仍如圖所示，所述第二層204可以具有如所述邊緣231-234類似定位的邊緣241-244 (如圖5所示)。在所示的實(shí)施方式中，所述寬度W1大體上大于所述寬度W2,以及所述第二層204僅僅被置于所述安裝表面208的一部分上。就這點(diǎn)而言，所述安裝表面208在所述第二層204的相對兩側(cè)包括暴露的夾持部分208A和208B。所述寬度W2在所述夾持部分208A和208B之間延伸。所述流動池200也可以具有沿所述Z軸面向相反方向的池面256和258。在所示的實(shí)施方式中，所述池面256包括所述夾持部分208A和208B和所述外表面214，以及所述池面258包括所述外表面210。仍如圖所示，所述流動池200可在相對的第一和第二池端246和248之間縱向延伸。在所示的實(shí)施方式中，所述邊緣232和242在所述第一池端246上大體上彼此共面而所述邊緣234和244在所述相對的第二池端248上大體上彼此共面。如圖6所示,所述第二層204具有至少一個沿所述通道表面212延伸的凹槽部分216。在所示的實(shí)施方式中，所述通道表面212被蝕刻以形成所述溝槽部分216，但所述溝槽部分216可以通過其他工藝(如切削所述通道表面212)形成。為組裝所述流動池200，所述第二層204的所述通道表面212被安裝并固定于所述第一層202的所述安裝表面208上。例如，所述通道表面和安裝表面212和208可使用防止來自所述流動池200的泄漏的粘合劑(例如光活化樹脂)粘合在一起。在其他實(shí)施方式中，所述通道表面和安裝表面212和208可通過其他粘合劑粘合在一起或機(jī)械互鎖和/或固定在一起。因此，所述第一層202被配置以覆蓋所述第二層204的所述凹槽部分216以形成所述流動通道206。在所示的實(shí)施方式中，所述溝槽部分216可以是朝向所述第一端大體上延伸所述長度L2，彎曲，然后朝向所述第二端大體上延伸所述長度L2的單一連續(xù)的槽。因此，所述流動通道206可以大體上是U形的。圖5-7顯示所述樣品205僅僅沿所述安裝表面208設(shè)置。然而，在其他實(shí)施方式中，所述樣品205可被置于任何限定所述流動通道206的表面上。舉例來說，所述樣品205也可以被置于部分地限定所述流動通道206的所述溝槽部分216的配合表面212上。在所示的實(shí)施方式中，所述流動通道206可包括多個通道段250-252。不同的通道段可以具有相對于緊挨的上游或下游通道段的不同尺寸。在所示的實(shí)施方式中，所述流動通道206可包括通道段250 (其也可被稱為成像段250)。所述通道段250可以具有被配置為通過成像系統(tǒng)(未顯示)成像的樣品區(qū)域。所述流動通道206也可以具有通道段251和252(其也可被稱為非成像段251和252)。如圖所示，所述通道段250和252彼此平行延伸通過所述流動池200。所述流動通道206的所述通道段251和252可以相對于所述通道段250按一定尺寸制作并成型，以控制可能流動穿過其中的流體和氣體的流動。例如，圖7還示出所述通道段250-252各自的橫截面C1-C3,其通過垂直于流動方向F1截取。在一些實(shí)施方式中，所述橫截面C1-C3可以是不同大小的(即不同的截面積)，以控制流體通過所述流動通道206的流動。例如，所述橫截面C1的尺寸大于所述橫截面C2和C30更具體地，所述流動通道206的所述通道段250-252可以具有大體上相等的高度H1，所述高度H1測量于所述通道表面212的所述凹槽部分216 (圖6)和所述安裝表面208之間。然而，所述流動通道206的所述通道段250-252可以分別具有不同的寬度W3-W5。所述寬度W3大于所述寬度W4和W5。所述通道段251可以構(gòu)成射流地連接所述通道段250和252的彎曲或彎管段。所述橫截面C3比所述橫截面C1和C2較小。例如，所述寬度W5小于所述寬度胃3和W4。 圖8是所述彎曲段251和所述通道段250和252的部分的放大圖。如上所述，所述通道段250和252可彼此平行延伸。在所述流動通道206內(nèi)，或許需要通過所述樣品區(qū)域的均勻流動。例如，所述流體可包括流部分F2-F4。所述通道段250-252的尺寸可被配置，以便所述流部分F2-F4在整個所述樣品區(qū)域內(nèi)具有大體上相等的流速。在這類實(shí)施方式中，所述樣品205的不同區(qū)段或部分(圖5)可以有大體上等量的時間以與所述流體內(nèi)的反應(yīng)成分反應(yīng)。為此，所述流動通道206的所述彎曲段251可以有射流地連接所述通道段250和252的非連續(xù)的輪廓。例如，如圖8所示，所述彎曲段251可包括錐形部分270、中間部分276和下游部分278。如圖所示，所述錐形部分270具有尺寸逐漸減少的寬度W5A。更具體地，所述彎曲段251可包括以大體上相等的角度朝向彼此向內(nèi)延伸的側(cè)壁272和274。所述中間部分276從所述錐形部分270到所述下游部分278彎曲。所述中間部分276具有尺寸逐漸減少、然后尺寸開始增加的寬度W5B。所述下游部分278處處具有大體上均勻的寬度W5c并沿大體上線性的路徑從所述中間部分276延伸至所述通道段252。換言之，所述側(cè)壁272和274可以彼此平行延伸穿過所述下游部分278。返回到圖7，所述流動池200包括入口和出口，分別為222和224。所述入口和出口 222和224只有通過所述第二層204形成。然而，在替代性的實(shí)施方式中，所述入口和出口 222和224只有通過所述第一層202或通過所述層202和204兩者形成。所述流動通道206與所述入口和出口 222和224流體連通并在其中延伸。在具體的實(shí)施方式中，所述入口和出口 222和224在所述流動池200的所述池端248彼此毗鄰(或與所述邊緣234和244毗鄰)。例如，分離所述入口和出口 222和224的間隔282可約等于所述寬度W3。更具體地，所述間隔282可以是約3mm、約2mm約或更少。此外，所述通道段250和252可被間隔280分開。所述間隔280可以小于所述通道段250的所述寬度W3或更具體地，小于所述通道段252的所述寬度W4。因此，所述流動通道206的路徑可以大體上是U形的以及，在所示的實(shí)施方式中，具有沿所述彎曲段251的非連續(xù)的輪廓。在替代性的實(shí)施方式中，所述流動通道206可以具有不同的路徑，以便所述入口和出口 222和224在所述流動池200中具有不同的位置。例如，所述流動通道可以形成從所述流動池一端的所述入口延伸到所述流動池相對端的所述出口的單通路。關(guān)于圖6，在一些實(shí)施方式中，所述第二層204的所述厚度T2 (圖6)沿所述成像部分250是大體上均勻的。沿所述成像部分250的所述均勻的厚度T2可被配置以傳輸光信號穿過其中。此外，所述第一層202的所述厚度T1沿所述成像部分250是大體上均勻的并被配置以允許熱能均勻地傳遞穿過其中進(jìn)入所述流動通道206。圖9-11示出按照一個實(shí)施方式形成的射流器件300。為了說明性的目的，所述射流器件300相對于圖9和10所示的相互垂直的X、Y和Z軸定位。圖9和10是所述射流器件300的透視圖。如圖9和10所示，所述射流器件300包括卡盤(或流動池載體)302和所述流動池200。所述卡盤302被配置以容納所述流動池200并便于定位用于成像階段的所述流動池200。在一些實(shí)施方式中，所述射流器件300和所述卡盤302可以是可拆卸的，以便所述卡盤302可以通過個人或機(jī)器從成像系統(tǒng)(未顯示)被移除而不損害所述射流器件300或卡 盤302。例如，所述卡盤302可被配置為被反復(fù)插入并移動至所述成像系統(tǒng)而不破壞所述卡盤302或使得所述卡盤302不適合其預(yù)期目的。在一些實(shí)施方式中，所述射流器件300和所述卡盤302可以按一定尺寸制作并成型以被個人所操作。此外，所述射流器件300和所述卡盤302可以按一定尺寸制作并成型以由自動化系統(tǒng)承載。如圖9和10所示，所述卡盤302可包括外殼或載體框架304和被耦合至所述外殼304的蓋構(gòu)件306。所述外殼304具有外殼或沿所述Z軸面向相反方向并具有在其間延伸的高度H2 (如圖11所示)的載體面303和305。如圖9所示，所述外殼304在所述射流器件300的載入端316包括橋式構(gòu)件324以及在所述射流器件300的相對接收端318包括底座構(gòu)件326。所述外殼304還包括在所述橋式構(gòu)件和底座構(gòu)件324和326之間延伸的一對間隔開的腿延長部分328和330。所述橋式構(gòu)件324在所述腿延長部分328和330之間延伸并連接所述腿延長部分328和330。所述橋式構(gòu)件324可包括開向所述射流器件300的外部的凹口 321 (如圖10所示)。如圖9所示，所述腿延長部分328和330可以具有多個被配置以夾持所述流動池200的所述池面256的夾持構(gòu)件371-374。仍如圖9所示，所述射流器件300可以具有沿所述Z軸完全穿過所述卡盤302的器件窗315。在所不的實(shí)施方式中,所述器件窗315大體上由所述橋式構(gòu)件324、所述蓋構(gòu)件306以及所述腿延長部分328和330框成。所述器件窗315包括容納空間308以及多個緊鄰所述容納空間308的凹口 320和322。所述容納空間308被配置以容納所述流動池200。當(dāng)所述流動池200被置于所述容納空間308內(nèi)時，所述流動池200被暴露于所述射流器件300的外部，以便所述流動池200可被看到或沿所述外殼面303還有所述外殼面305直接被嚙合。例如,所述池面258 (也如圖11所示)沿所述Z軸面向相對于所述池面256的相反的方向。所述池面256可被所述成像系統(tǒng)看到或被沿所述外殼面303的另一部件直接嚙合。同樣，所述池面258可被所述成像系統(tǒng)看到或被沿所述外殼面305的另一部件直接嚙合。關(guān)于圖9和10，所述蓋構(gòu)件306可包括相互耦合的蓋體340和墊圈342。所述墊圈342包括毗鄰彼此的入口和出口通道346和344 (如圖9所示)。在所示的實(shí)施方式中，所述蓋體340和所述墊圈342被共同模制成一體化結(jié)構(gòu)。形成后，所述蓋體340和所述墊圈342可以有不同的可壓縮性質(zhì)。例如，在具體的實(shí)施方式中，所述墊圈342可包括比所述蓋體340的材料更具可壓縮性質(zhì)的材料。然而，在替代性的實(shí)施方式中，所述蓋體340和所述墊圈342可以是被耦合在一起(如機(jī)械地或使用粘合劑)的單獨(dú)的部件。在其他實(shí)施方式中，所述蓋體340和所述墊圈342可以是單一連續(xù)的結(jié)構(gòu)的不同的部分或區(qū)域。所述蓋構(gòu)件306可被可移動地耦合至所述外殼304。例如，所述蓋構(gòu)件306可被可旋轉(zhuǎn)地耦合至所述外殼304的所述底座構(gòu)件326。在這樣的實(shí)施方式中，所述墊圈342是可圍繞安裝位置(如圖9所示)和脫開位置(如圖10所示)之間的旋轉(zhuǎn)軸R1旋轉(zhuǎn)的。在其他其中所述蓋構(gòu)件306被可移動地耦合至所述外殼304的實(shí)施方式中，所述蓋構(gòu)件306可以是從所述外殼304可拆卸的。例如，當(dāng)連接到所述外殼304時，所述可拆卸的蓋構(gòu)件可在類似于如圖9所示的安裝位置的安裝位置。當(dāng)脫離所述外殼304時，所述可拆卸的蓋構(gòu)件可在脫開位置被完全移除。仍如圖10所示，所述外殼304可以限定當(dāng)所述蓋構(gòu)件306在所述脫開位置時可以進(jìn)入的卡盤腔338 (圖10)。在一些實(shí)施方式中，識別發(fā)射機(jī)336可被置于所述卡盤腔338內(nèi)。所述識別發(fā)射機(jī)336被配置以傳達(dá)關(guān)于所述流動池200的信息至讀取器。例如，所述識別發(fā)射機(jī)336可以是RFID標(biāo)簽。當(dāng)所述流動池200被插入所述成像系統(tǒng)時，所述識別發(fā)射機(jī)336所提供的信息可以，例如，識別所述流動池200中的所述樣品、大量的所述流動池 或樣品、生產(chǎn)日期和/或待執(zhí)行的測定方案。所述識別發(fā)射機(jī)336也可以傳達(dá)其他信息。圖11是沿所述Y軸所視的所述射流器件300的橫截面圖。在一些實(shí)施方式中，所述容納空間308相對于所述流動池200按一定尺寸制作并成型，以便所述流動池200被保持在所述空間中，但是至少某些配置可以在其中浮動。如本文所用，術(shù)語“浮動”和類似的術(shù)語包含部件被允許至少在一個方向(例如沿所述X、Y或Z軸)移動有限的距離。例如，所述流動池200可以具有沿所述XY平面在所述容納空間308內(nèi)移位的能力。所述流動池200也可以具有在所述容納空間308內(nèi)沿所述Z軸的方向移動的能力。此外，所述流動池200也可以具有在所述容納空間308內(nèi)稍微旋轉(zhuǎn)的能力。在具體的實(shí)施方式中，所述外殼304允許所述流動池200關(guān)于所述X、Y和Z軸的任何一個在所述容納空間308內(nèi)移位、移動和稍微旋轉(zhuǎn)。在一些實(shí)施方式中，所述容納空間308也可被表征為這樣的空間當(dāng)所述射流器件300容納所述流動池200時，所述射流器件300允許所述流動池200在其中自由移動。因此，所述容納空間308的尺寸可基于能夠直接嚙合所述流動池200的所述射流器件300的基準(zhǔn)面的位置。所述基準(zhǔn)面可以是所述外殼304或包括所述墊圈342的所述蓋構(gòu)件306的表面。例如，圖11示出多個基準(zhǔn)面381-387。當(dāng)所述流動池200被容納于所述容納空間308內(nèi)時，所述夾持構(gòu)件371和372各自的基準(zhǔn)面381和382以及所述墊圈342的基準(zhǔn)面383可以限制所述流動池200超出預(yù)定水平的移動。所述墊圈342的所述基準(zhǔn)面384和所述橋式構(gòu)件324的基準(zhǔn)面385可以限制所述流動池200沿所述XY平面的移動。此外，所述橋式構(gòu)件324和所述蓋構(gòu)件306的基準(zhǔn)面386和387也可以限制所述流動池200沿所述Z軸的移動。然而，所述基準(zhǔn)面381-387只是示例性的而所述射流器件300可以具有其他的限制所述運(yùn)動池200的移動的基準(zhǔn)面。要組裝所述射流器件300，所述流動池200可被載入所述容納空間308。例如，所述流動池200可沿所述外殼面305向前移動朝向所述器件窗315。所述邊緣234 (圖5)可以在所述夾持構(gòu)件372和373和所述墊圈342之間向前移動。然后，所述池面256可以朝所述夾持構(gòu)件371-374旋轉(zhuǎn)，以便所述夾持構(gòu)件371-374接合所述池面256。然后，所述邊緣232 (圖5)朝向所述橋式構(gòu)件324以及，更具體地，朝向所述橋式構(gòu)件324的所述基準(zhǔn)面385移動。在一些實(shí)施方式中，所述橋式構(gòu)件324可偏轉(zhuǎn)或彎曲以提供更多的用于在其上設(shè)置所述池端246 (圖5)的空間。當(dāng)所述流動池200被載入所述卡盤302時，所述外殼304和所述蓋構(gòu)件306可有效地夾持所述流動池200的周邊，以便所述流動池200被限制以僅在所述容納空間308內(nèi)部移動。在替代性的實(shí)施方式中，所述池端246首先通過所述橋式構(gòu)件324，然后通過所述墊圈342插入定位。在其他的實(shí)施方式中，所述流動池200可以臨近所述外殼面303。所述夾持構(gòu)件371-374可以有允許所述流動池200卡入所述容納空 間308內(nèi)的位置的錐形或斜
面表面。在所述流動池200載入前、載入后或載入期間，所述蓋構(gòu)件306可被移動至所述脫開位置，以便所述識別發(fā)射機(jī)336 (圖10)可被置于所述卡盤腔338 (圖10)內(nèi)。當(dāng)所述墊圈342處于所述安裝位置時，所述入口和出口通道346和344可以有相對于所述外殼304和所述容納空間308的預(yù)定位置和方向。所述墊圈342可沿所述流動池200的暴露部分(即所述池面256)被安裝在所述流動池200的上方。所述入口和出口通道346和344 —般地可以與所述入口和出口 224和222 (圖5)對準(zhǔn)。但是，應(yīng)指出的是，所示的射流器件300只是一個具體的實(shí)施方式，而在替代性的實(shí)施方式中，所述射流器件300可以具有不同的配置。例如，在替代性的實(shí)施方式中，所述流動池200可以不沿所述外殼面303和305的每個被暴露于所述射流器件300的外部。相反，所述流動池200可以只沿所述外殼面的一個(例如所述外殼面303)被暴露于所述外部。此外，在替代性的實(shí)施方式中，所述蓋構(gòu)件306可以不被可旋轉(zhuǎn)地耦合至所述外殼304。例如，所述蓋構(gòu)件306可以是完整地可拆卸的。圖12-15示出按照替代性的實(shí)施方式形成的也可用于測定系統(tǒng)(如所述測定系統(tǒng)100 (圖I)和所述工作站160 (圖2))的射流器件900和920。所述射流器件900和920可包含與所述射流器件300類似的功能部件。例如，如圖所示，在圖12和13中，所述射流器件900可包括卡盤(或流動池載體)902和所述流動池200。所述卡盤902被配置以保持所述流動池200并便于定向所述流動池200用于成像階段。所述卡盤902包括外殼904和被可移動地安裝到所述外殼904的蓋構(gòu)件906。所述蓋構(gòu)件906處于圖12中的安裝位置和圖13中的脫開位置。仍如圖12和13所示，所述射流器件900可包括覆蓋所述流動池200的所述入口入口和出口 222和224 (圖13)的密封件910。在一些實(shí)施方式中，所述密封件910被配置以便于將流體保留在所述流動通道206內(nèi)，以便所述流動通道206內(nèi)的所述樣品205 (圖5)保持在流體環(huán)境中。然而，在一些實(shí)施方式中，所述密封件910可被配置以防止不需要的材料進(jìn)入所述流動通道206。如圖12和13所示，所述密封件910是在所述池端246和248(圖13)之間延伸的一單片膠帶。外伸部分912可以延伸遠(yuǎn)離所述池端246。在替代性的實(shí)施方式中，所述密封件910可以不止是一片膠帶(例如所述入口入口和出口 222和224的每個各一片膠帶)或所述密封件910可以是其他能夠覆蓋所述入口入口和出口 222和224的元件。例如，所述密封件910可包括塞子。在一些實(shí)施方式中，當(dāng)所述射流器件900沒有被安裝到測定系統(tǒng)時，所述密封件910覆蓋所述入口入口和出口 222和224。例如，當(dāng)所述射流器件900被存儲或運(yùn)輸時或當(dāng)樣品正在所述流動池200內(nèi)生長或生成時，所述密封件910可被使用。在這種情況下，所述密封件910可被固定于所述流動池200和所述外殼904，如圖13所示。更具體地,所述密封件910可耦合至所述池面256并沿所述池面256延伸以及覆蓋所述入口入口和出口 222和224。所述密封件910也可以耦合至所述外殼904的底座構(gòu)件914。然后，所述蓋構(gòu)件906可被移動到所述安裝位置(如圖12所示)，以便所述密封件910被夾在所述入口入口和出口222和224和所述蓋構(gòu)件906之間。所述蓋構(gòu)件906可便于防止所述密封件910被意外地移除。在替代性的實(shí)施方式中，所述密封件910可覆蓋所述蓋構(gòu)件906的入口入口和出口通道916和918。圖14和圖15示出所述射流器件920，所述射流器件920也可以具有與所述射流器件300和900類似的功能部件。如圖所示，所述射流器件920包括卡盤(或流動池載體)922和所述流動池200。所述卡盤922包括外殼924和被可移動地安裝到所述外殼924的蓋構(gòu)件925。顯示所述蓋構(gòu)件925只處于圖14和15中的安裝位置。所述外殼924和所述蓋構(gòu)件925可以與上文所述的所述外殼204和904和所述蓋構(gòu)件206和906類似。 然而，所述外殼924還可包括鰭狀突出部分926和928。所述鰭狀突出部分926和928按一定尺寸制作并成型以由個人或機(jī)器人設(shè)備夾持，例如，當(dāng)所述射流器件920被插入器件支架或從器件支架(未顯示)移除時。在一些實(shí)施方式中，如果所述射流器件920沒有被合理放置，所述鰭狀突出部分926和928可以阻止所述蓋組件(未顯示)移動到閉合位置。所述鰭狀突出部分926和928可包括被配置以由個人握持的觸覺功能部件927和929。在所示的實(shí)施方式中，所述鰭狀突出部分926和928被置于所述射流器件920的接收端930。所述蓋構(gòu)件925可以在所述鰭狀突出部分之間延伸。然而，所述鰭狀突出部分926和928可具有沿所述卡盤902的其他位置。圖16-24顯示按照一個實(shí)施方式形成的射流器件支架400的各種功能部件。圖16是所述支架400的部分分解圖。組裝時，所述支架400可被用來在成像階段期間按所需的方位支承所述射流器件300 (圖9)和所述流動池200 (圖5)。此外,所述支架400可在所述射流器件300和所述成像系統(tǒng)(未顯示)之間提供接口，其中所述支架400可被配置以引導(dǎo)流體通過所述流動池200并提供或去除來自所述流動池200的熱能。雖然所述支架400被顯示為保持所述射流器件300，所述支架400可被配置以保持其他射流設(shè)備，如芯片上實(shí)驗(yàn)室設(shè)備或沒有卡盤的流動池。如圖16所示，所述支架400可包括可拆卸的蓋組件404和支撐結(jié)構(gòu)402。在一些實(shí)施方式中，所述支架400還可包括板結(jié)構(gòu)406和可移動的平臺408。所述板結(jié)構(gòu)406可操作地耦合至所述蓋組件404并包括穿過其中的開口 410。同樣，所述平臺408包括穿過其中的開口 412。所述支撐結(jié)構(gòu)402可包括散熱器414和被安裝到所述散熱器414上的散熱模塊(或熱循環(huán)儀)416。所述散熱模塊416包括基底部分418和底座420。當(dāng)組裝所述支架400時，所述支撐結(jié)構(gòu)402、所述平臺408以及所述板結(jié)構(gòu)406相互堆疊。就這點(diǎn)而言，所述開口 412按容納所述基底部分418的尺寸制作并成型而所述開口 410按容納所述底座420的尺寸制作并成型。當(dāng)組裝時，所述蓋組件404可被可操作地耦合至所述板結(jié)構(gòu)406和所述支撐結(jié)構(gòu)402。圖17示出所組裝的支架400。在所示的實(shí)施方式中，面板424被置于所述板結(jié)構(gòu)406 (圖16)的上方。如圖16和17所示，所述蓋組件404包括被耦合至所述板結(jié)構(gòu)406的蓋外殼435。所述蓋外殼435可大體上呈U形,具有一對間隔開的朝共同的方向延伸的外殼腿436和438。所述外殼腿436和438可以在結(jié)合點(diǎn)437和439處被可旋轉(zhuǎn)地耦合至所述板結(jié)構(gòu)406。所述蓋外殼435還可包括在所述外殼腿436和438之間延伸并連接所述外殼腿436和438的橋式部分440。如此，所述蓋組件404可被配置以提供觀看空間442 (圖17)。所述觀看空間442可以按一定尺寸制作并成型以允許成像透鏡(未顯示)以沿所述流動池200并在所述流動池200上方的方向Dx (圖17)移動。在所示的實(shí)施方式中，所述蓋組件404是相對所述板結(jié)構(gòu)406或支撐結(jié)構(gòu)402在打開位置(如圖16所示)和閉合位置(如圖17所示)之間可移動的。在所述打開位置，所述蓋組件404被抽回或縮回以允許進(jìn)入所述支架400的載入?yún)^(qū)域422 (如圖18所示)，以便所述射流器件300可被從所述載入?yún)^(qū)域422移除或被插入所述載入?yún)^(qū)域422。在所述閉合位置，所述蓋組件404被安裝到所述射流器件300的上方。在具體的實(shí)施方式中，所述蓋組件404在所述閉合位置建立與所述射流器件300的流體連接并將所述流動池200壓在所述支撐結(jié)構(gòu)402上。如圖16所示，在一些實(shí)施方式中，所述支架400包括耦合機(jī)構(gòu)450，以便于保持所述蓋組件404在所述閉合位置。例如，所述耦合機(jī)構(gòu)450可包括操作員控制的元件452(其包括被耦合至一對鎖開口 456和458的按鈕453)。所述耦合機(jī)構(gòu)450還包括從所述蓋外殼435的配合表面460突出的一對鎖端頭454和455。所述蓋外殼435可以通過彈簧元件464和466被偏置入所述打開位置。當(dāng)所述蓋組件404由個人或機(jī)器移進(jìn)所述閉合位置時，所述鎖端頭454和455被分別插入到所述鎖開口 456和458并夾持所述操作員控制的元件452。要將所述蓋組件404移進(jìn)所述打開位置，所述個人或機(jī)器可通過，例如，向內(nèi)按動所述按鈕453啟動所述按鈕453。由于所述蓋外殼435通過所述彈簧兀件464和466被偏置，所述蓋外殼435圍繞所述結(jié)合點(diǎn)437和439旋轉(zhuǎn)遠(yuǎn)離所述面板424 (圖17)。在替代性的實(shí)施方式中，所述耦合機(jī)構(gòu)450可包括其他元件，以便于將所述蓋組件404保持在所述閉合位置。例如，所述鎖端頭454和455可更換為磁性元件或與開口形成干涉配合的元件。圖18是所述支撐結(jié)構(gòu)402的散熱模塊416和所述散熱器414的孤立的透視圖。所述散熱模塊416可被配置以在預(yù)定的時間段內(nèi)控制所述流動池200的溫度。例如，所述散熱模塊416可被配置以提高所述流動池200的溫度，以便所述樣品中的DNA可以變性。此夕卜，所述散熱模塊416可被配置以去除熱能，從而降低所述流動池200的溫度。如圖所示，所述底座420包括按一定尺寸制作并成型以與所述流動池200 (圖5)接合的基面430。所述基面430面向沿所述Z軸的方向。所述底座420也可包括多個圍繞所述基面430設(shè)置的對準(zhǔn)構(gòu)件431-433。在所示的實(shí)施方式中，所述對準(zhǔn)構(gòu)件431-433具有相對于所述基面430的固定位置。所述對準(zhǔn)構(gòu)件431-433具有相應(yīng)的被配置以接合所述流動池200并便于設(shè)置所述流動池200用于成像的基準(zhǔn)面。例如，所述對準(zhǔn)構(gòu)件431-433的所述基準(zhǔn)面可以面向沿所述XY平面的各自的方向，就這點(diǎn)而言，其可被配置以限制所述流動池200沿所述XY平面的移動。所述支撐結(jié)構(gòu)402可以包括所述載入?yún)^(qū)域422的至少一部分。所述載入?yún)^(qū)域422可以由所述基面430和所述對準(zhǔn)構(gòu)件431-433的所述基準(zhǔn)面部分地限定。圖19和20示出按照一個實(shí)施方式可以與所述支架400—起使用的對準(zhǔn)組件470。圖19是所述支架400的平面圖，其中所述蓋外殼435以剖視圖被顯示以示出所述對準(zhǔn)組件470。圖20是所述支架400的透視圖，其中所述蓋組件404處于所述打開位置。(在圖19和20兩圖中，所述面板424 (圖17)已被刪除，僅供說明用途。)在圖19和20中，所述射流器件300被載入所述載入?yún)^(qū)域422中。當(dāng)所述射流器件300被載入，所述流動池200被放置到所述基面430 (圖18)上以及所述對準(zhǔn)構(gòu)件432、433和431被向前移動通過所述卡盤302的所述凹口 320、322和321 (圖9和10)。更具體地，沿所述外殼面305的所述器件窗315 (圖9)可以按大于所述基面430的周邊的尺寸制作并成型。就此而言，所述卡盤302或外殼304可被允許落到所述基面430的周圍，但是所述流動池200被防止落到所述基面430旁邊。如此，所述流動池200的所述池面258可被壓在所述基面430上，以便所述散熱模塊416可控制所述流動池200的溫度。當(dāng)所述流動池200被安裝到所述基面430上時，所述卡盤302的所述基準(zhǔn)面381-383 (圖11)被壓在所述池面256 (圖11)上。這時,沿所述樣品205延伸的所述流動池200的池平面可以大體上對準(zhǔn)所述成像系統(tǒng)的對象平面。在所示的實(shí)施方式中，當(dāng)所述射流器件300被載入所述載入?yún)^(qū)域422時，所述測定系統(tǒng)的識別讀取器可以檢測來自所述識別發(fā)射機(jī)336 (圖10)的信息。例如，所述支架400 可包括臨近所述識別發(fā)射機(jī)336、位于所述板結(jié)構(gòu)406的識別讀取器(未顯示)。識別讀取可以發(fā)生在所述蓋組件404被安裝到所述射流器件300上之前。參考圖19和20，所述對準(zhǔn)組件470包括共同配合以定向和定位所述流動池200以成像的各種元件。例如，所述對準(zhǔn)組件470包括可移動的定位臂472和被可操作地耦合至所述定位臂472的致動器474。如圖所示，所述致動器474包括桿476和被耦合至所述蓋外殼435的銷元件478。在所示的實(shí)施方式中，所述桿476是圍繞旋轉(zhuǎn)軸R2 (圖19)可旋轉(zhuǎn)的。所述桿476可以是L形的，具有被配置以嚙合所述銷元件478的第一延長部分480和被配置以嚙合所述定位臂472的第二延長部分482。所述定位臂472也是圍繞旋轉(zhuǎn)軸R3(圖19)可旋轉(zhuǎn)的并包括具有嚙合端486的指狀物484。所述對準(zhǔn)組件470還包括嚙合所述指狀物484的偏置元件490 (例如螺旋彈簧)。所述嚙合端486被配置以嚙合所述射流器件300的所述卡盤302。在替代性的實(shí)施方式中，所述嚙合端486可被配置以直接嚙合所述流動池200。所述對準(zhǔn)組件470在圖19中處于嚙合布置而在圖20中處于抽回布置。當(dāng)所述對準(zhǔn)組件470處于所述抽回布置時，所述定位臂472處于縮回位置而當(dāng)所述對準(zhǔn)組件470處于所述嚙合布置時，所述定位臂472處于偏置位置。要在所述載入?yún)^(qū)域422中對準(zhǔn)所述流動池200，所述對準(zhǔn)組件470從所述抽回布置變更為所述嚙合布置。例如，當(dāng)所述蓋外殼435移動到所述打開位置時(如圖20所示)，所述銷元件478嚙合所述桿476的所述第一延長部分480，使得所述桿476按逆時針方向圍繞所述軸R2旋轉(zhuǎn)(如圖19所示)。所述蓋外殼435可通過所述彈簧元件464和466 (圖16)被保持在所述打開位置。當(dāng)所述桿476旋轉(zhuǎn)時，所述第二延長部分482圍繞所述軸R2旋轉(zhuǎn)并嚙合所述定位臂472。所述定位臂472按順時針方向圍繞所述軸R3旋轉(zhuǎn)(如圖19所示)。當(dāng)所述定位臂472旋轉(zhuǎn)時，所述定位臂472被移到所述縮回位置。當(dāng)移到所述縮回位置時，所述嚙合端486遠(yuǎn)離所述對準(zhǔn)構(gòu)件431-433的所述基準(zhǔn)面移動。要使所述對準(zhǔn)組件470從所述抽回布置變更到所述嚙合布置,所述蓋外殼435可以朝向所述射流器件300旋轉(zhuǎn)并被安裝到所述流動池200的上方。當(dāng)所述蓋外殼435朝向所述射流器件300移動時，所述銷元件478遠(yuǎn)離所述桿476的所述第一延長部分480旋轉(zhuǎn)。當(dāng)所述第二延長部分482遠(yuǎn)離所述定位臂472移動時，存儲在所述偏置元件490的勢能可導(dǎo)致所述定位臂472按逆時針方向旋轉(zhuǎn)，使得所述嚙合端486壓在所述卡盤302上。就這點(diǎn)而言，所述定位臂472被移到所述偏置位置。當(dāng)被移到所述偏置位置時，所述嚙合端486朝向所述對準(zhǔn)構(gòu)件431-433的所述基準(zhǔn)面移動。圖21是當(dāng)所述定位臂472的所述嚙合端486壓在所述卡盤302上時所述載入?yún)^(qū)域422中所述射流器件300的放大圖。所述嚙合端486可被配置以在所述縮回位置和所述偏置位置之間在所述XY平面內(nèi)移動。當(dāng)所述嚙合端486朝向所述偏置位置移動并壓在所述卡盤302上時，所述嚙合端486提供針對所述卡盤302的力FXY。所述卡盤302可以沿所述XY平面移位和/或?qū)⑺隽鲃映?00壓在所述對準(zhǔn)構(gòu)件431-433的所述基準(zhǔn)面。所述力Fxy具有X分量和Y分量。所述X分量可以將所述流動池200壓在所述對準(zhǔn)構(gòu)件431上，而所述Y分量可以將所述流動池200壓在所述對準(zhǔn)構(gòu)件432和433上。就這點(diǎn)而言，所述對準(zhǔn)構(gòu)件431可以阻止所述流動池200沿所述X軸方向的移動，而所述對準(zhǔn)構(gòu)件432和433可以阻止所述流動池200沿所述Y軸方向的移動。 在所述對準(zhǔn)組件470變更到所述嚙合布置之前，所述蓋構(gòu)件306的所述入口入口和出口通道346和344可分別與所述流動池200的所述入口入口和出口 224和222 (圖7)大致對準(zhǔn)。在所述對準(zhǔn)組件470變更到所述嚙合布置之后，所述入口入口和出口通道346和344與所述入口入口和出口 224和222有效地(或可操作地)對準(zhǔn)，以便流體可以有效地流動穿過其中。因此，所述蓋組件404可被可操作地耦合至所述對準(zhǔn)組件470，以便一個步驟或動作會使所述對準(zhǔn)組件470嚙合所述射流器件300。更具體地，當(dāng)所述蓋組件404被安裝到處于所述閉合位置的所述器件上方時，所述致動器474移動所述定位臂472至所述偏置位置。在所述偏置位置，所述定位臂472支承所述流動池200抵靠沿所述XY平面處于固定位置的所述對準(zhǔn)構(gòu)件431-433的所述基準(zhǔn)面。當(dāng)所述蓋組件404處于所述閉合位置時，所述觀看空間442 (圖17)可以被置于所述流動池200的上方，以便成像透鏡可沿所述流動池200移動以成像所述流動通道206。隨著所述蓋組件404移動至所述打開位置，所述致動器474將所述定位臂472移動至所述縮回位置。然而，在所示的實(shí)施方式中，當(dāng)所述定位臂472縮回時，所述流動池200保持在原位。因此,所述流動池200可以是相對于各種元件可浮動的。例如，當(dāng)所述蓋構(gòu)件306處于所述安裝位置時，所述流動池200可以是相對于所述蓋構(gòu)件306和所述墊圈342可浮動的。所述流動池200也可以是相對于所述蓋組件404和所述基面430可浮動的。在一些實(shí)施方式中，所述對準(zhǔn)組件470和所述蓋組件404可按預(yù)定的順序操作。例如，在具體的實(shí)施方式中，在所述蓋組件404到達(dá)所述閉合位置之前，所述定位臂472被配置以支承所述流動池200抵靠處于所述固定位置的所述對準(zhǔn)構(gòu)件431-433。當(dāng)所述蓋組件404到達(dá)所述閉合位置時，所述蓋組件404可便于將所述流動池200壓在所述基面430上以及也將所述入口入口和出口通道346和344壓在所述入口入口和出口 224和222上。一般地，在所述基面430在z維度內(nèi)定位所述流動池200之后，所述對準(zhǔn)組件470可被配置以在X和y維度內(nèi)定位所述流動池200。另外，對準(zhǔn)組件可被配置以先在X和y維度內(nèi)然后在z維度內(nèi)定位所述流動池200。因此,在X、y和z維度內(nèi)的對準(zhǔn)可以響應(yīng)用戶采取的單個步驟或動作相繼地并按各種順序發(fā)生。在替代性的實(shí)施方式中，所述對準(zhǔn)組件470可以不如上文所述的被可操作地耦合至所述蓋組件404。相反，所述對準(zhǔn)組件470和所述蓋組件404可以彼此獨(dú)立運(yùn)作。就這點(diǎn)而言，個人也許需要執(zhí)行多個步驟以對準(zhǔn)所述流動池200并射流地耦合所述流動池200。例如，所述對準(zhǔn)組件470可以由個人單獨(dú)發(fā)動，從而移動所述定位臂472以對準(zhǔn)所述流動池200。所述流動池200被對準(zhǔn)后，所述個人可再降低所述蓋組件404到所述流動池200上。此外，所述對準(zhǔn)組件470可包括除上述那些部件之外的額外和/或其他部件。圖22是處于所述閉合位置的所述蓋組件404的孤立的透視圖。圖22示出所述觀看空間442的尺寸。如圖所示，所述蓋外殼435可以具有頂部表面492。所述觀看空間442可以具有從所述頂部表面492到所述射流器件300或所述流動池200測得的深度DP。所述觀看空間442也可以具有沿所述Y軸測得的寬度W6和沿所述X軸測得的長度L6。所述觀看空間442的長寬高可以按一定尺寸制作，以便成像透鏡(未顯示)可以穿過其中在所述流動池200的上方移動。更具體地，成像透鏡可以通過檢查孔443進(jìn)入所述觀看空間442并 沿所述X軸的方向在所述流動池200的上方移動。圖23是沿圖22中的線23-23所取的所述蓋組件404的橫截面圖。在所示的實(shí)施方式中，所述蓋組件404可包括多個壓縮臂494和496。所述壓縮臂494和496被配置以分別提供針對所述射流器件300的所述外殼面303的壓縮力Fa和Fm在所示的實(shí)施方式中，所述壓縮臂494和496壓到所述卡盤302上。然而，在替代性的實(shí)施方式中，所述壓縮臂494和496可以壓到所述流動池200上。所述壓縮力Fa和Fc2按壓所述射流器件300的所述外殼304，從而將所述流動池200的所述池面256(圖9)壓到所述散熱模塊416上。就這點(diǎn)而言，所述流動池200可以與所述基面430保持密切接觸，用以在其間傳遞熱能。在所示的實(shí)施方式中，所述壓縮臂494和496彼此獨(dú)立運(yùn)作。例如，所述壓縮臂494和496的每個被可操作地耦合至各自的壓縮彈簧495和497。如圖23所示，所述壓縮臂494和496朝向所述觀看空間442和所述載入?yún)^(qū)域422延伸。當(dāng)所述蓋組件404移到所述閉合位置時，所述壓縮臂494和496可嚙合所述外殼面303。由于所述壓縮臂494和496壓到所述外殼面303上,來自所述外殼面303的阻力可使所述壓縮臂494和496圍繞軸&和1 5旋轉(zhuǎn)。所述壓縮彈簧495和497中的每個都可抵制各自壓縮臂的旋轉(zhuǎn)，從而提供針對所述外殼面303的相應(yīng)的壓縮力F。。因此，所述壓縮臂494和496相對于彼此獨(dú)立偏置。圖24是所述蓋組件404(圖16)的流送組件500的孤立透視圖。所述流送組件500包括歧管本體502和上游和下游流送管504和506。如圖16所示，所述歧管本體502可以在所述外殼腿436和438之間延伸。返回到圖24，所述流送管504和506分別在本體端口508和510被機(jī)械地以及射流地耦合至所述歧管本體502。所述流送管504和506還包括被配置以被插入所述墊圈342的所述入口入口和出口通道346和344的管端514和516。如圖24所示,所述流送組件500相對于所述墊圈342在安裝位置。在所述安裝位置，所述管端514和516分別被插入所述入口和出口通道346和344，以便流體可以流動穿過所述流動池200。此外，在所述安裝位置，所述流送組件500可以將所述墊圈342 (圖9)壓在所述流動池200上，以便流體連接被有效地密封。為此，所述流送組件500可包括偏置彈簧520和522。所述偏置彈簧520和522被配置以壓到所述蓋外殼435(圖16)的內(nèi)部并提供針對所述墊圈342的力Fe3。所述耦合機(jī)構(gòu)450 (圖16)可以便于保持對所述墊圈342的密封。因此，所述蓋組件404可以在三個單獨(dú)的壓縮點(diǎn)壓到所述射流器件300的所述外殼304上。更具體地，當(dāng)被所述管端514和516嚙合時，所述墊圈342可以構(gòu)成第一壓縮點(diǎn)P1 (如圖24所示)，以及所述壓縮臂494和496可在第二和第三壓縮點(diǎn)P2和P3 (如圖23所示)接觸所述射流器件300。如圖22-24所示，所述三個壓縮 點(diǎn)P1-P3圍繞所述流動池200分布。此外，所述蓋組件404在所述壓縮點(diǎn)P1-P3獨(dú)立地提供所述壓縮*Fa-Fra。就這點(diǎn)而言，所述蓋組件404可被配置以提供針對所述射流器件300的大體上均勻的壓縮力，以便所述流動池200被均勻地壓到所述基面430上以及射流連接被密封以防泄漏。圖25是一種用于樣品分析的射流器件的定位方法530的框圖。所述方法530包括在基面上設(shè)置可拆卸的射流器件(見532)。所述射流器件可以類似于上文所述的射流器件300。例如，所述射流器件可包括容納空間、位于所述容納空間的流動池和墊圈。所述流動池可以沿所述容納空間中的對象平面延伸以及可以是相對于所述對象平面內(nèi)的所述墊圈可浮動的。所述方法530還包括在所述容納空間內(nèi)但在所述基面上移動所述流動池，以便所述流動池的入口和出口與所述墊圈的入口和出口通道大致對準(zhǔn)(見534)。移動操作534可包括啟動定位器臂以將所述流動池壓到所述對準(zhǔn)構(gòu)件上。圖26是一種用于樣品分析的射流器件的定位方法540的框圖。所述射流器件可以類似于上文所述的射流器件300。所述方法540包括提供具有器件外殼、包括容納空間和位于所述容納空間內(nèi)的可浮動的流動池的射流器件(見542)。所述器件外殼可包括緊鄰所述容納空間的凹口。所述方法還包括將所述射流器件設(shè)置在具有對準(zhǔn)構(gòu)件的支撐結(jié)構(gòu)上(見544)。所述對準(zhǔn)構(gòu)件可通過相應(yīng)的凹口被插入。此外，所述方法540可包括在所述容納空間內(nèi)移動所述流動池(見546)。當(dāng)所述流動池在所述容納空間內(nèi)移動時,所述對準(zhǔn)構(gòu)件可以嚙合所述流動池的邊緣。移動操作546可包括啟動定位器臂以將所述流動池壓到所述對準(zhǔn)構(gòu)件上。圖27是說明一種用于相對于相互垂直的X、Y和Z軸定位樣品區(qū)域的方法550的框圖。所述方法550包括提供對準(zhǔn)組件(見552)。所述對準(zhǔn)組件可以類似于上文所述的對準(zhǔn)組件470。更具體地，所述對準(zhǔn)組件可包括具有嚙合端的可移動的定位臂。所述定位臂可以是在縮回和偏置位置之間可移動的。所述方法550還包括將射流器件設(shè)置在面向沿所述Z軸的方向的基面上和設(shè)置在多個面向沿XY平面的各自方向的基準(zhǔn)面之間(見554)。此夕卜，所述方法550還包括移動所述定位臂至所述偏置位置(見556 )。所述定位臂可以將所述器件壓到所述基準(zhǔn)面上，以便所述器件被保持在固定的位置。圖28-37示出流體存儲系統(tǒng)1000 (圖28)的各種功能部件。所述存儲系統(tǒng)1000被配置以存儲各種可以在預(yù)定的測定期間使用的流體并調(diào)節(jié)所述流體的溫度。所述存儲系統(tǒng)1000可通過所述工作站160 (圖2)使用并被所述殼162 (圖3)封閉。如圖28所示，所述存儲系統(tǒng)1000包括外殼1002，所述外殼1002具有耦合在一起并在其間限定系統(tǒng)腔1008的底座外殼(或第一外殼)1004和頂部外殼(或第二外殼)1006。所述外殼1002還可包括系統(tǒng)門1010，所述系統(tǒng)門1010被配置以打開并提供進(jìn)入所述系統(tǒng)腔1008的途徑。仍如圖所示，所述存儲系統(tǒng)1000可包括被耦合至所述外殼1002的后部的溫度控制組件1012和被設(shè)置在所述頂部外殼1006上的升降機(jī)驅(qū)動電機(jī)1014。圖29是所述存儲系統(tǒng)1000的側(cè)面橫截面圖并更詳細(xì)地示出所述系統(tǒng)腔1008。所述存儲系統(tǒng)1000也可包括反應(yīng)成分托盤(或反應(yīng)成分存儲單元)1020和包括升降機(jī)構(gòu)1024的流體移取組件1022。所述托盤1020被配置以支承多個用于存放流體的管道或容器。所述升降機(jī)構(gòu)1024包括所述驅(qū)動電機(jī)1014并被配置以沿所述Z軸雙向移動所述流體移取組件1022的部件。在圖29中，所述托盤1020位于流體移取位置，以便所述托盤1020保持的流體可被移取并輸送到，例如射流器件，用以執(zhí)行所需的反應(yīng)或用以沖洗所述射流器件的所述流動通道。仍如圖所示，所述溫度控制組件1012可以突出進(jìn)入所述系統(tǒng)腔1008。所述溫度控制組件1012被配置以控制或調(diào)節(jié)所述系統(tǒng)腔1008內(nèi)的溫度。在所示的實(shí)施方式中，所述溫度控制組件1012包括熱電制冷(TEC)組件。圖30是所述移取組件1022的透視圖。如圖所示，所述移取組件1022可包括一對相對的導(dǎo)軌1032和1034。所述相對的導(dǎo)軌1032和1034被配置以接收并引導(dǎo)所述托盤 1020至所述流體移取位置，如圖29所示。所述導(dǎo)軌1032和1034可包括沿所述導(dǎo)軌1032和1034縱向延伸的突出功能部件或脊?fàn)钗?035。所述導(dǎo)軌1032和1034被配置以被固定于所述底座外殼1004 (圖28)。所述移取組件1022還包括沿所述Z軸方向延伸的支撐梁(或立柱)1036和1038。所述移取組件的導(dǎo)板1040可以以升高的距離Dz被耦合至所述支撐梁1036和1038并由此沿所述XY平面伸出。在所示的實(shí)施方式中，所述導(dǎo)板1040被固定于所述支撐梁1036和1038。所述升降機(jī)構(gòu)1024包括結(jié)構(gòu)支撐物1041和1042，在所述結(jié)構(gòu)支撐物1041和1042之間延伸的絲杠1044以及包括輸送平臺1048的載物臺組件1046。所述結(jié)構(gòu)支撐物1041和1042被固定于所述支撐梁1036和1038的兩端并被配置以在運(yùn)行過程中支撐所述升降機(jī)構(gòu)1024。所述絲杠1044的螺紋被可操作地耦合至所述載物臺組件1046，以便當(dāng)所述絲杠1044旋轉(zhuǎn)時，所述載物臺組件1046沿所述Z軸按直線方向移動(由雙箭頭表示)。所述輸送平臺1048被配置以支承吸管1050陣列。所述吸管1050可以與被配置以引導(dǎo)流體流動穿過所述吸管1050的系統(tǒng)泵(未顯示)流體連通。如圖所示，所述吸管1050包括被配置以被插入所述托盤1020的成分孔1060 (如圖31所示)的遠(yuǎn)端部分1052。所述遠(yuǎn)端部分1052穿過所述導(dǎo)板1040的相應(yīng)開口 1053延伸。所述升降機(jī)構(gòu)1024被配置以在抽回水平和下放水平之間移動所述吸管1050。在所述下放水平時(圖50和51所示)，所述吸管1050的所述遠(yuǎn)端部分1052被插入所述成分孔1060以從其中移取流體。在所述抽回水平時，所述遠(yuǎn)端部分1052被完全移出所述托盤1020，以便所述托盤1020可被移出所述系統(tǒng)腔1008 (圖28)，而不損害所述吸管1050或所述托盤1020。更具體地，當(dāng)所述驅(qū)動電機(jī)1014旋轉(zhuǎn)所述絲杠1044時,所述載物臺組件1046沿所述Z軸以由所述絲杠1044的旋轉(zhuǎn)方向決定的方向移動。因此，所述傳輸平臺1048沿所述Z軸移動，同時支承所述吸管1050。如果所述輸送平臺1048朝向所述導(dǎo)板1040前進(jìn)，所述遠(yuǎn)端部分1052穿過所述導(dǎo)板1040的相應(yīng)開口 1053朝向所述托盤1020滑動。所述導(dǎo)板1040被配置以防止遠(yuǎn)端部分1052在其被插入所述成分孔1060之前變得不再與所述成分孔1060對準(zhǔn)。當(dāng)所述升降機(jī)構(gòu)1024將所述載物臺組件1046移離所述導(dǎo)板1040時，所述輸送平臺1048和所述導(dǎo)板1040之間的距離(ΛΖ)變大，直至所述遠(yuǎn)端部分1052從所述托盤1020的所述成分孔1060抽回。圖30示出用于運(yùn)行所述升降機(jī)構(gòu)1024的附加功能部件。例如，所述載物臺組件1046還可包括導(dǎo)針1058 (仍如圖29所示)，所述導(dǎo)針1058固定于所述輸送平臺1048并以平行于所述吸管1050的方向從所述輸送平臺1048延伸。所述導(dǎo)針1058還延伸穿過所述導(dǎo)板1040的相應(yīng)的開口 1053。在所示的實(shí)施方式中，所述導(dǎo)針1058比所述吸管1050延伸的距離更大，以便在所述吸管1050被插入所述成分孔1060之前，所述導(dǎo)針1058到達(dá)所述托盤1020。因此，如果所述托盤1020沒有相對于所述吸管1050對準(zhǔn)，所述導(dǎo)針1058可以嚙合所述托盤1020并調(diào)整所述托盤1020的位置，以便所述成分孔1060在所述吸管1050被插入其中之前正確對準(zhǔn)相應(yīng)的吸管1050。除上文所述外，所述移取組件1022可包括位置傳感器1062和定位傳感器(未顯示)。所述位置傳感器1062被配置以接收所述托盤1020的標(biāo)簽1063 (如圖34所示)，以確定所述托盤1020存在于所述系統(tǒng)腔1008 (圖28)中且至少大致對準(zhǔn)用以接收所述吸管1050。所述定位傳感器可以檢測所述載物臺組件1046的標(biāo)簽1064，以確定所述載物臺組 件1046的水平。如果所述標(biāo)簽1064還未沿所述Z軸達(dá)到閾水平，所述定位傳感器可以與所述工作站160 (或其他測定系統(tǒng))溝通，以通知用戶所述托盤1020不準(zhǔn)備移除。所述工作站160也可以防止用戶打開所述系統(tǒng)門1010。此外，當(dāng)所述吸管1050的所述遠(yuǎn)端部分1052最初被插入所述成分孔1060時,所述吸管1050會刺穿覆蓋所述成分孔1060的保護(hù)箔。在某些情況下，所述箔可以夾持所述吸管1050。當(dāng)所述吸管1050隨后從相應(yīng)的成分孔1060抽回時，所述保護(hù)箔的夾持可齊力地抬起所述托盤1020。然而，在所示的實(shí)施方式中，所述脊?fàn)钗?035被配置以夾持托盤底座1070 (圖31)且防止所述托盤底座1070以沿所述Z軸的方向被抬起。例如，所述脊?fàn)钗?035可以夾持所述托盤底座1070的唇狀物1071。圖31-34示出所述托盤1020的不同視圖。所述托盤1020被配置以支承多個成分孔1060。所述成分孔1060可包括各種反應(yīng)成分，例如，但不僅限于一種或多種樣品、聚合酶、引物、變性劑、用于線性化DNA的線性化混合物、適用于具體測定(如簇?cái)U(kuò)增或SBS)的酶、核苷酸、裂解混合物、氧化保護(hù)劑和其他試劑。在一些實(shí)施方式中，所述托盤1020可容納執(zhí)行預(yù)定的測定必需的所有流體。在具體的實(shí)施方式中，所述托盤1020可以容納在流動池內(nèi)生成樣品(例如DNA簇)以及執(zhí)行樣品分析(例如SBS)必需的所有反應(yīng)成分?？梢栽诓灰瞥蚋鼡Q任何所述的成分孔1060的情況下執(zhí)行所述測定。所述成分孔1060包括矩形成分孔1060A (如圖35-36所示)和管狀成分孔1060B(如圖37所示)。所述托盤1020包括托盤底座1070和耦合至所述托盤底座1070的托盤蓋1072。如圖31和32所示，所述托盤蓋1072包括把手1074，所述把手1074按一定尺寸制作并成型，以由所述托盤1020的用戶握持。所述托盤蓋1072還可包括握持凹口 1076，所述握持凹口 1076按容納所述用戶的一個或多個手指的尺寸制作并成型。如圖31和32所示，所述托盤蓋1072可包括多個與相應(yīng)的成分孔1060對準(zhǔn)的管孔1080。所述管孔1080可成型以引導(dǎo)所述吸管1050 (示例性的吸管1050如圖31所示)進(jìn)入所述相應(yīng)的成分孔1060。如圖32所示，所述托盤蓋1072還包括針孔1082，所述針孔1082按容納所述導(dǎo)針1058的尺寸制作并成型。所述導(dǎo)針1058被配置以當(dāng)所述導(dǎo)針1058以非對準(zhǔn)方式靠近并進(jìn)入所述針孔1082時，提供對所述托盤1020的位置的輕微調(diào)整。仍如圖所示，所述托盤1020可包括沿所述托盤蓋1072的表面的識別標(biāo)簽1084。所述識別標(biāo)簽1084配置為被讀取器檢測，以向所述用戶提供關(guān)于所述成分孔1060容納的流體的信息。如圖33和34所示，所述管孔1080至少部分地由從所述托盤蓋1072的表面1073突出的邊緣1086限定。所述邊緣1086從所述表面1073突出小段距離，以防止偶然沉積到所述托盤蓋1072上的流體不慎混合。同樣，所述識別標(biāo)簽1084可以貼到所述托盤蓋1072的凸起部分1088。所述凸起部分1088也可保護(hù)所述識別標(biāo)簽1084不慎接觸到流體。圖35顯示所述成分孔1060A的側(cè)面橫截面圖，以及圖36顯示所述成分孔1060A的底部透視圖。如圖所示，所述成分孔1060A包括相對的第一端和第二 端1091和1092以及在其間延伸的貯器1090 (圖35)。所述貯器1090具有深度Dk (圖35)，所述深度Dk隨著所述貯器1090從所述第二端1092延伸到所述第一端1091而增加。所述成分孔1060A被配置以將所述吸管1050容納在所述貯器1090的更深的部分。如圖36所示，所述成分孔1060A包括多個沿外表面被配置為靠在所述托盤底座1070的表面上的突出部分1094。圖37是所述成分孔1060B的透視圖。如圖所示，所述成分孔1060B還可包括多個圍繞所述成分孔1060B的外表面的突出部分1096。所述成分孔1060B沿縱向軸1097延伸并具有隨著所述成分孔1060B縱向延伸到底部1098而逐漸變細(xì)的輪廓。所述底部1098可以具有大體上平的表面。圖61說明一種用于進(jìn)行生物或化學(xué)分析測定的方法960。在一些實(shí)施方式中，所述測定可包括樣品生成方案和樣品分析方案。例如，所述樣品生成方案可包括通過橋式擴(kuò)增生成DNA簇而所述樣品分析方案可包括利用所述DNA簇的邊合成邊測序(SBS)分析。樣品生成和樣品分析操作可以在共同的測定系統(tǒng)(如所述測定系統(tǒng)100或所述工作站160)中進(jìn)行而所述操作之間無需用戶干預(yù)。例如，用戶可將射流器件載入所述測定系統(tǒng)。所述測定系統(tǒng)可自動生成用于分析的樣品并進(jìn)行執(zhí)行所述分析的步驟。關(guān)于圖61，所述方法960包括在具有樣品區(qū)域的射流器件和含有多個不同反應(yīng)成分的反應(yīng)成分存儲單元之間建立流體連接(見962)。所述反應(yīng)成分可被配置以用于進(jìn)行一種或多種測定。所述射流器件可以是，例如，上文所述的射流器件300或流動池200。在一些實(shí)施方式中，所述樣品區(qū)域包含多個固定于其上的反應(yīng)成分(例如引物)。所述存儲單元可以是，例如，上文所述的存儲單元1020。所述反應(yīng)成分可包括被配置以用于生成所述樣品的樣品生成成分和被配置以用于分析所述樣品的樣品分析成分。在具體的實(shí)施方式中，所述樣品生成成分包括用于執(zhí)行上文所述的橋式擴(kuò)增的反應(yīng)成分。此外，在具體的實(shí)施方式中，所述樣品分析成分包括用于執(zhí)行上文所述的SBS分析的反應(yīng)成分。所述方法960還包括在所述射流器件的所述樣品區(qū)域生成樣品(見964)。生成操作962可包括使不同的樣品生成成分流入所述樣品區(qū)域并控制所述樣品區(qū)域的反應(yīng)條件以生成所述樣品。例如，熱循環(huán)儀可用以便于核酸雜交。然而，如果需要的話，可以使用等溫法。此外，所述流體的流速可被控制，以允許雜交或其他所需的化學(xué)反應(yīng)。在具體的實(shí)施方式中，所述生成操作962包括進(jìn)行多個橋式擴(kuò)增循環(huán)，以生成DNA簇。橋式擴(kuò)增的示例性方案可以包括以下幾個步驟。流動池被設(shè)置與反應(yīng)成分存儲單元流體連通。所述流動池包括附著了引物對的一個或多個表面。含有不同序列的靶核酸混合物的溶液接觸固體載體。所述靶核酸可以具有共同的引發(fā)位點(diǎn)，所述引發(fā)位點(diǎn)與所述流動池表面上的所述引物對互補(bǔ)，以便所述靶核酸結(jié)合所述流動池表面上的所述引物對的第一引物。含有聚合酶和核苷酸的延伸溶液可被引入所述流動池，以便與靶核酸互補(bǔ)的第一擴(kuò)增產(chǎn)物由所述第一引物的延伸而形成。所述延伸溶液可以去除并以變性溶液取代。所述變性溶液可以包括化學(xué)變性劑，如氫氧化鈉和/或甲酰胺。由此產(chǎn)生的變性條件釋放所述靶核酸的原鏈，其然后可以通過去除所述變性溶液并以所述延伸溶液取代之從所述流動池去除。在所述延伸溶液存在下，被粘附到所述載體的所述第一擴(kuò)增產(chǎn)物然后可以與粘附到所述流動池表面的所述引物對的第二引物雜交，以及包含與所述第一擴(kuò)增產(chǎn)物互補(bǔ)的粘附的核酸序列的第二擴(kuò)增產(chǎn)物可以通過所述第二個引物的延伸形成。所述變性溶液和延伸溶液的反復(fù)輸送可以用來在所述流動池表面上的離散位置形成靶核酸簇。雖然上述方案利用化學(xué)變性作為示范，將理解對類似的引物和靶核酸也可進(jìn)行熱變性?？捎糜诋a(chǎn)生固定化核酸分子簇的擴(kuò)增方法的進(jìn)一步描述提供于，例如美國專利號7，115,400 ;美國公開號2005/0100900、WO 00/18957或W098/44151 (其中每個以引用方式并入本文)。所述方法960還包括分析所述樣品區(qū)域的所述樣品(見966)。一般地，所述分析操作966可包括檢測所述樣品區(qū)域的任何可檢測的特征。在具體的實(shí)施方式中，所述分析操
作966包括使至少一種樣品分析成分流入所述樣品區(qū)域。所述樣品分析成分可以與所述樣品發(fā)生反應(yīng)，以提供指示相關(guān)事件(或所需的反應(yīng))的光學(xué)上可檢測的信號。例如，所述樣品分析成分可以是SBS分析過程中使用的熒光標(biāo)記的核苷酸。當(dāng)激發(fā)光入射到在其中摻入熒光標(biāo)記的核苷酸的所述樣品上時，所述核苷酸可以發(fā)出指示核苷酸類型(A、G、C或T)的光信號，以及所述成像系統(tǒng)可以檢測到所述光信號。一種特別有用的SBS方案利用具有可去除的3’端封閉的改性核苷酸，例如，如WO04/018497、美國2007/0166705A1和美國7，057, 026 (其中每個以引用方式并入本文)中所述。SBS試劑可被反復(fù)循環(huán)地輸送到附著了靶核酸的流動池，例如，由于上文闡述的橋式擴(kuò)增方案。所述核酸簇可以使用線性化溶液被轉(zhuǎn)化成單鏈的形式。所述線性化溶液可以包含，例如，能裂解每個簇的一個鏈的限制性內(nèi)切酶。對限制酶或切口酶來說，其他的裂解方法可以作為一種選擇，包括尤其是化學(xué)裂解(例如以高碘酸裂解二醇鍵)，通過以內(nèi)切酶(例如NEB，Ipswich, MA, USA提供的料號為M5505S的‘USER’ )的裂解、通過暴露于熱或堿進(jìn)行的脫堿基位點(diǎn)裂解，摻入另外由脫氧核糖核苷酸組成的擴(kuò)增產(chǎn)物的核糖核苷酸的裂解，多肽接頭的光化裂解或裂解。線性化步驟后，在測序引物雜交至待測序的靶核酸的條件下，所述測序引物可被遞送到所述流動池。所述流動池然后可以在一定條件下與含有帶有可去除的3’端封閉的改性核苷酸以及熒光標(biāo)記的SBS延伸試劑接觸，以通過單核苷酸加入將雜交至每個靶核酸的引物延伸。只有一個單核苷酸被加入每個引物，因?yàn)橐坏┧龅母男院塑账嵋驯粨饺氲脚c正在測序的模板區(qū)域互補(bǔ)的不斷增長的多核苷酸鏈，便沒有可以引導(dǎo)進(jìn)一步的序列延伸的游離3' -OH基團(tuán)，因此聚合酶不能加入更多的核苷酸。所述SBS延伸試劑可以去除并取代以含有在輻射激發(fā)下保護(hù)所述樣品的成分的掃描試劑。用于掃描試劑的示例性成分的描述見于美國公布US 2008/0280773A1和美國序列號13/018,255 (其中每個以引用方式并入本文)。然后，在掃描試劑的存在下，熒光檢測所延伸的核酸。一旦已檢測到熒光，所述3’端封閉可以使用適用于所用的封閉基團(tuán)的解封閉試劑去除?？捎糜诟髯苑忾]基團(tuán)的示例性解封閉試劑的描述見于W004018497、US 2007/0166705A1和US7057026 (其中每個以引用方式并入本文)。所述解封閉試劑可以洗掉，讓靶核酸雜交至含有3’0H基團(tuán)的延伸引物，所述3’ OH基團(tuán)現(xiàn)在能夠加入更多的核苷酸。因此，可以重復(fù)加入延伸試劑、掃描試劑和解封閉試劑的循環(huán)以及可選地在所述步驟的一個或多個之間清洗，直至獲得所需的序列。當(dāng)所述改性核苷酸的每個都有粘附至其的不同的標(biāo)記(其已知對應(yīng)具體的堿)時，可以每個循環(huán)利用單延伸試劑輸送步驟進(jìn)行上述循環(huán)。所述不同的標(biāo)記便于辨別每個摻入步驟期間加入的堿。替代性地，每個循環(huán)可以包括單獨(dú)的延伸試劑輸送步驟，繼之以單獨(dú)的掃描試劑輸送步驟以及檢測，在這種情況下，所述核苷酸的兩個或多個可以有相同的標(biāo)記，并可基于已知的輸送順序予以區(qū)分。繼續(xù)流動池中核酸簇的例子，所述核酸可被進(jìn)一步處理以通過稱為末端配對測序的方法從另一端獲得第二讀取。末端配對測序方法的描述見于PCT公布W007010252、PCT申請序列號PCTGB2007/003798和美國專利申請公布US 2009/0088327 (其中每個以引用方法并入本文)中。在一個實(shí)施例中，可以執(zhí)行一系列的步驟如下如上文所闡述生成簇，如上文所闡述線性化，仍如上文所闡述雜交第一測序引物并進(jìn)行反復(fù)循環(huán)的延伸、掃描和解封閉，仍如上文所闡述通過合成互補(bǔ)的副本“倒置”所述流動池表面上的所述靶核酸、線性化再合成鏈、雜交第一測序引物并進(jìn)行反復(fù)循環(huán)的延伸、掃描和解封閉。所述倒置步驟可以如上文所闡述通過輸送試劑用于單循環(huán)的橋式擴(kuò)增進(jìn)行。 雖然所述分析操作已經(jīng)關(guān)于具體的SBS方案如上文作為示范，將理解用于測序其他各類分子分析任何一種的其他方案可以按需進(jìn)行。鑒于本文提出的啟示以及關(guān)于具體分析方法的常識，為適應(yīng)不同的分析所做的所述裝置和方法的合適修改將是顯而易見的。在一些實(shí)施方式中，所述方法960被配置為在最少的用戶干預(yù)下進(jìn)行。所述生成操作和分析操作964和966可以通過測定系統(tǒng)以自動方式進(jìn)行。例如，在某些情況下，用戶可以只載入所述射流器件和所述存儲單元，并啟動所述測定系統(tǒng)以執(zhí)行所述方法960。在一些實(shí)施方式中，在所述生成操作和分析操作964和966期間，所述存儲單元和所述射流器件從所述生成操作開始以及在整個所述分析操作期間保持流體連通，直至所述樣品被充分分析。換言之，所述射流器件和所述存儲單元可以從所述樣品生成之前直至所述樣品分析之后都保持流體連通。在一些實(shí)施方式中，所述射流器件從所述生成操作開始以及在整個所述分析操作期間由所述器件支架不斷支承，直至所述樣品被充分分析。在這段時間期間，所述器件支架和成像透鏡可相對于彼此自動移動。當(dāng)所述器件支架和所述成像透鏡相對于彼此自動移動時，所述存儲單元和所述射流器件可以保持流體連通。在一些實(shí)施方式中，所述測定系統(tǒng)包含在工作站外殼內(nèi)以及所述生成操作和分析操作964和966在工作站外殼內(nèi)獨(dú)立地進(jìn)行。圖38是按照一個實(shí)施方式形成的光學(xué)成像系統(tǒng)600的示意圖。所述成像系統(tǒng)600包括光學(xué)組件602、光源(或激發(fā)光)模塊或組件604、具有樣品區(qū)域608的流動池606以及成像檢測器610和612。所述光源模塊604包括被配置為以不同的激發(fā)光譜照射所述樣品區(qū)域608的第一和第二激發(fā)光源614和616。在具體的實(shí)施方式中，所述第一和第二激發(fā)光源614和616包括第一和第二半導(dǎo)體光源(SLS)。SLS可包括發(fā)光二極管(LED)或激光二極管。然而，在其他的實(shí)施方式中，可使用其他光源，如激光或弧光燈。所述第一和第二SLS可以有相對于所述光學(xué)組件602的固定位置。如圖所示，所述光學(xué)組件602可包括多個光學(xué)部件。例如，所述光學(xué)組件602可包括透鏡623-625、發(fā)射光過濾器631、激發(fā)光過濾器635和鏡子644和642。所述光學(xué)組件602可以有額外的用于引導(dǎo)所述激發(fā)光和/或所述發(fā)射光的光學(xué)部件(如透鏡、發(fā)射光或激發(fā)光過濾器、鏡子等等)，其附圖標(biāo)記概括為621。所述多個光學(xué)部件被設(shè)置以用于如下的至少一個(a)引導(dǎo)所述激發(fā)光朝向所述流動池606的所述樣品區(qū)域608或(b)收集來自所述樣品區(qū)域608的發(fā)射光。仍如圖所示，所述成像系統(tǒng)600還可包括與所述流動池606流體連通的流動系統(tǒng)652以及被通信地耦合至所述第一和第二激發(fā)光源614和616和所述流動系統(tǒng)652的系統(tǒng)控制器654。所述控制器654被配置以啟動所述流動系統(tǒng)652以使試劑流入所述樣品區(qū)域608并且在預(yù)定的時間段后，激活所述第一和第二 SLS。例如，圖60說明一種用于進(jìn)行生物或化學(xué)分析測定的方法900。在具體的實(shí)施方式中，所述測定可包括邊合成邊測序(SBS )方案。所述方法900包括使試劑流過流動池的流動通道(見902)。所述流動池可具有樣品區(qū)域，所述樣品區(qū)域包含具有被配置以與所述試劑發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的生物分子的樣品。所述方法900還包括用第一和第二半導(dǎo)體光源(SLS)照射所述樣品區(qū)域(見904)。所述第一和第二 SLS分別提供第一和第二激發(fā)光譜。當(dāng)被所述第一或第二 SLS照射時，所述樣品的所述生物分子可以提供指示結(jié)合反應(yīng)的光發(fā)射。此外，所述方法900包括檢測來自所述樣品區(qū)域的所述光發(fā)射(見906)?？蛇x地，所述方法900可 包括相對于成像透鏡移動所述流動池并重復(fù)所述照射和檢測操作904和906 (見908)。圖60所示以及上文例舉的步驟可以重復(fù)，以進(jìn)行測序方法的多次循環(huán)。圖39和圖40示出按照一個實(shí)施方式形成的、可以與所述成像系統(tǒng)600 —起使用的移動控制系統(tǒng)700的多種功能部件。所述移動控制系統(tǒng)700包括光學(xué)底板702和被可移動地耦合至所述光學(xué)底板702的樣品臺708。如圖所示，所述樣品臺702具有支撐面704和底面705。所述支撐面和底面704和705沿所述Z軸面對相反的方向。所述底板702被配置以將所述光學(xué)組件602 (圖38)的所述光學(xué)部件的大部分支撐在所述支撐面704上。所述底板702和所述樣品臺708可以是通過中間支撐物715和面板722可移動地相互耦合，以便所述樣品支架650可大體上圍繞所述X和Y軸旋轉(zhuǎn)，沿所述Y軸移位并沿所述X軸滑動。圖40是所述樣品臺708 (圖39)的所述中間支撐物715、電機(jī)組件724和可移動的平臺726的孤立的透視圖。所述電機(jī)組件724被可操作地耦合到所述平臺726并被配置以使所述平臺726沿所述X軸雙向滑動。如圖所示，所述中間支撐物715包括尾端728和成像端730。所述中間支撐物715可包括臨近所述成像端730且沿所述Y軸彼此遠(yuǎn)離突出的銷746和748。臨近所述成像端730，所述中間支撐物715可包括透鏡孔750，所述透鏡孔750按允許所述成像透鏡623 (圖38)延伸穿過其中的尺寸制作并成型。在所示的實(shí)施方式中，所述銷746和748都有延伸穿過其中的共同的線755，所述線755也延伸穿過所述透鏡孔750。返回到圖39，所述平臺726通過所述中間支撐物715被耦合至所述底面705。因此，所述樣品臺708的重量可以由所述底板702支撐。此外，所述移動控制系統(tǒng)700可包括多個被配置以定位所述樣品支架650的對準(zhǔn)器件733、735、737和739。在所示的實(shí)施方式中，所述對準(zhǔn)器件733、735、737和739為測微計(jì)。所述對準(zhǔn)器件733被可操作地耦合至所述中間支撐物715的所述尾端728。當(dāng)所述對準(zhǔn)器件733被啟動時，所述尾端728可以沿所述Z軸的方向移動。因此，所述中間支撐物715可圍繞所述銷746和748 (圖40)，或更具體地，圍繞所述線755旋轉(zhuǎn)。當(dāng)所述對準(zhǔn)器件735和737被啟動時，所述樣品支架650可以按指示沿所述Y軸移位。當(dāng)所述對準(zhǔn)器件739被啟動時，所述樣品支架650可圍繞平行于所述X軸延伸的旋轉(zhuǎn)軸R7旋轉(zhuǎn)。圖41-42分別示出可以與所述成像系統(tǒng)600 (圖38) —起使用的所述光學(xué)底板702的透視圖和平面圖。在所述成像系統(tǒng)600的一些實(shí)施方式中，所述光學(xué)部件(圖38)的一個或多個可以在所述光學(xué)組件602中具有固定的位置，以便所述固定(或靜態(tài))光學(xué)部件不會在所述成像系統(tǒng)600的運(yùn)行過程中移動。例如，所述底板702被配置以支撐多個光學(xué)部件和所述成像系統(tǒng)600的其他部件。如圖所示，所述底板702構(gòu)成了具有面向沿所述Z軸方向的支撐面(或表面)704的大體上一體化的結(jié)構(gòu)。在所示的實(shí)施方式中，所述支撐面704不是連續(xù)光滑的，而是可以有被設(shè)置為以預(yù)定的配置布置所述光學(xué)組件602的各種平臺716-718、凹坑(或容納空間)719-721和部件容納空間711-714。如圖42所示，所述容納空間711-714的每個具有各自的基準(zhǔn)面781-784。在一些實(shí)施方式中，所述基準(zhǔn)面781-784可便于將相應(yīng)的光學(xué)部件定位并保持在所需的位置。圖43和圖44分別示出光學(xué)器件732的前部透視圖和后部剖開透視圖。如圖43所 示，所述光學(xué)器件732相對于相互垂直的軸791-793定位。所述軸791可以如上文所闡述沿地球引力方向和/或平行于所述Z軸延伸。在具體的實(shí)施方式中，所述光學(xué)器件732配置為被設(shè)置在所述底板702 (在圖43和圖44只不出所述底板702的一部分)的所述部件容納空間713 (圖43)內(nèi)。所述部件容納空間713具有限定其中可容納光學(xué)部件的可達(dá)空間區(qū)域的一個或多個表面。這些一個或多個表面可包括如下所述的基準(zhǔn)面。在所示的實(shí)施方式中，所述部件容納空間713是在所述底板702內(nèi)部深度延伸的所述底板701的部件腔。然而，所述底板702可以其他方式形成所述部件容納空間。例如，以所述底板702可以形成腔的類似方式，所述底板702也可以有一個或多個凸起的平臺，所述凸起的平臺包括環(huán)繞并限定所述部件容納空間的表面。因此，所述底板702可成型以部分地或?qū)ｉT地提供所述部件容納空間。所述底板702可包括所述基準(zhǔn)面。在替代性的實(shí)施方式中，側(cè)壁可被安裝在所述底板702上并被配置以限定所述空間區(qū)域。此外，安裝至所述底板702的其他光學(xué)器件可以限定所述部件容納空間。如本文所用，當(dāng)元件“限定”部件容納空間時，所述元件可以專門地限定所述部件容納空間或可以只是部分地限定所述部件容納空間。所述光學(xué)器件732可被可拆卸地安裝至所述部件容納空間713中的所述底板702，但可被配置為在所述成像系統(tǒng)的運(yùn)作過程中保持固定的位置。然而，在替代性的實(shí)施方式中，所述光學(xué)器件732不被設(shè)置在所述部件容納空間713的內(nèi)部，而是可被設(shè)置在其他地方，例如所述支撐面704的平臺上。在所示的實(shí)施方式中，所述光學(xué)器件732包括安裝器件734和被配置以反射和/或傳輸光線穿過其中的光學(xué)部件736。所述安裝器件734被配置以便于按所需的方位支承所述光學(xué)部件736并且還將所述光學(xué)部件736安裝至所述底板702。所述安裝器件734包括部件保持器738和被可操作地耦合至所述保持器738的偏置元件740。在所不的實(shí)施方式中，所述光學(xué)部件736包括傳輸光信號穿過其中同時過濾為預(yù)定頻譜的濾光器。然而，在替代性的實(shí)施方式中，可以使用其他的光學(xué)部件，例如透鏡或鏡子。如圖所示，所述光學(xué)部件736可包括面向相反的方向并在其間限定所述光學(xué)部件736的厚度T3的光學(xué)表面742和744。如圖所示，所述光學(xué)表面742和744可以是平行于彼此延伸的連續(xù)光滑的平面，使得所述厚度T3大體上均勻。然而，在替代性的實(shí)施方式中，所述光學(xué)表面742和744可以具有其他輪廓。所述光學(xué)部件736可以有多個限定周邊或外周的部件邊緣751-754 (圖43)。所述外周環(huán)繞著所述光學(xué)表面742和744。如圖所示,所述外周大體上是矩形的，但在替代性的實(shí)施方式中，可以使用其他幾何形狀(例如圓形)。所述保持器738便于按所需的方位支承所述光學(xué)部件736。在所示的實(shí)施方式中，所述保持器738被配置以嚙合所述光學(xué)表面742并圍繞所述外周的至少一部分延伸，以保持所述光學(xué)部件736。例如，所述保持器738可包括壁部分756和從所述壁部分756沿所述光學(xué)部件736的所述外周(例如所述部件邊緣752 (圖43))延伸的框架延伸部758。在所示的實(shí)施方式中，所述框架延伸部758可以形成限制所述光學(xué)部件736移動的托架。更具體地，所述框架延伸部758可包括近端臂760和遠(yuǎn)端臂762。所述近端臂760從所述壁部分756沿所述部件邊緣752以及所述軸791延伸。所述遠(yuǎn)端臂762從所述近端臂760沿所述部件邊緣751延伸。所述遠(yuǎn)端臂762包括朝向所述光學(xué)部件736延伸并嚙合所述光學(xué)部件736的突出部分或功能部件764。仍如圖所示，所述保持器738可包括置于所述框架延伸
部758對面的夾持構(gòu)件766。所述夾持構(gòu)件766和所述框架延伸部758可以配合以限制所述光學(xué)部件736沿所述軸793移動。所述保持器738可以夾持所述光學(xué)部件736的所述外周的一部分。如圖43和44所示，所述壁部分756被配置以嚙合所述光學(xué)表面742。例如,所述壁部分756具有面向所述光學(xué)部件736的配合表面770 (圖43)。在一些實(shí)施方式中，所述壁部分756包括沿所述配合表面770的多個定位功能部件771-773(圖43)。所述定位功能部件771-773被配置以直接嚙合所述光學(xué)部件736的所述光學(xué)表面742。當(dāng)所述定位功能部件771-773直接嚙合所述光學(xué)表面742時，所述光學(xué)表面742 (從而所述光學(xué)部件736)按所需的方位相對于所述保持器738設(shè)置。如圖43所示，所述部件容納空間713的所述基準(zhǔn)面783也包括多個定位功能部件761-763。所述定位功能部件761-763被配置以直接嚙合所述光學(xué)表面744。此外，所述定位功能部件761-763可被布置以便一般地，所述定位功能部件761-763的每個與所述定位功能部件771-773的相應(yīng)的一個相對。仍如圖44所示，所述壁部分756具有非配合表面774，所述非配合表面774面向相對于所述配合表面770 (圖43)的相反的方向。所述壁部分756包括延伸遠(yuǎn)離所述非配合表面774和所述光學(xué)部件736的元件突出部分776。所述偏置元件740被配置以耦合至所述元件突出部分776。在所示的實(shí)施方式中,所述元件突出部分776和所述偏置元件740延伸進(jìn)入所述部件容納空間713的槽778。所述槽778按容納所述偏置元件740的尺寸制作并成型。所述槽778具有嚙合所述偏置元件740的元件表面780。圖45示出所述光學(xué)器件732的孤立前視圖，以及圖46示出 所述光學(xué)器件732如何可被可拆卸地安裝至所述底板702。要可拆卸地安裝所述光學(xué)部件736，所述光學(xué)部件736可被置于所述安裝器件734的部件容納空間789內(nèi)，所述部件容納空間789 —般由所述壁部分756(圖46)、所述框架延伸部758和所述夾持構(gòu)件766限定。在具體的實(shí)施方式中，當(dāng)所述光學(xué)部件736被置于所述安裝器件734內(nèi)，所述光學(xué)部件736被自由地容納于所述部件容納空間789內(nèi)。例如，所述光學(xué)部件736可以不與所述保持器738形成干涉配合。相反，在安裝操作過程中，所述光學(xué)部件736可以通過所述壁部分756、所述框架延伸部758、所述夾持構(gòu)件766以及，例如，人手被容納于所述部件容納空間789內(nèi)。然而，在替代性的實(shí)施方式中，所述光學(xué)部件736可與所述保持器738形成干涉配合或可被限制在僅僅由所述保持器738限定的空間內(nèi)。關(guān)于圖46，在所述安裝操作過程中，所述偏置元件740可以首先被壓縮，以便所述安裝器件734可通過并被插入所述部件接收空間713。例如，所述偏置元件740可以通過人的手指被壓縮，以減小所述光學(xué)器件732的尺寸，或者所述偏置元件740可以通過首先將所述偏置元件740壓到所述元件表面780上、然后向前移動所述保持器738進(jìn)入所述部件容納空間713以被壓縮。一旦所述光學(xué)器件732被置于所述部件接收空間713內(nèi)，所述壓縮的偏置元件740中存儲的機(jī)械能會將所述保持器738和所述光學(xué)部件736移動朝向所述基準(zhǔn)面783，直至所述光學(xué)表面744直接嚙合所述基準(zhǔn)面783。更具體地，所述光學(xué)表面744可以直接嚙合所述基準(zhǔn)面783的所述定位功能部件761-763(圖43)。如圖46所示，當(dāng)安裝所述光學(xué)部件736時，由于所述定位功能部件771-773 (圖43)，在所述光學(xué)表面742和所述配合表面770 (圖43)之間可存在小的間隙G1，以及由于所述定位功能部件761-763 (圖43)，在所述光學(xué)表面774和所述基準(zhǔn)面783之間可以存在小的間隙G2。在所述安裝位置，所述偏置元件740提供將所述光學(xué)表面744壓到所述基準(zhǔn)面783上的對準(zhǔn)力Fa。所述光學(xué)表面和基準(zhǔn)面744和783可被配置以按預(yù)定的方位設(shè)置所述光學(xué)部件736。所述對準(zhǔn)力Fa足以在所述成像系統(tǒng)的整個運(yùn)作過程中按預(yù)定的方位保持所述光學(xué)部件736。換言之，所述安裝器件734和所述基準(zhǔn)面783可以阻止所述光學(xué)部件736以沿所述軸792的方向移動。此外，在所述安裝位置，所述突出部分764 (圖43)可以壓在所述部件邊緣751 (圖43)上，以阻止所述光學(xué)部件736以沿所述軸791的方向移動。所述框架延伸部758和所述夾持構(gòu)件766可以阻止或限制所述光學(xué)部件736以沿所述軸793的方向移動。因此，所述部件容納空間713和所述安裝器件734可以相對于彼此配置，以在成像階段期間按預(yù)定的方位支承所述光學(xué)部件736。如圖45所示，當(dāng)所述光學(xué)部件736處于所述安裝位置時，所述光學(xué)表面744的空間部分798可以面對并接合所述基準(zhǔn)面783，以及所述光學(xué)表面744的路徑部分799可以延伸超出所述支撐面704進(jìn)入光信號所取的光路。仍如圖46所示，所述部件容納空間713可以從所述支撐面704延伸深度D。進(jìn)入所述底板702。所述偏置元件740可包括任何能夠存儲機(jī)械能以提供所述對準(zhǔn)力Fa的彈性構(gòu)件。在所示的實(shí)施方式中，所述彈性構(gòu)件包括螺旋彈簧，所述螺旋彈簧被壓縮時則推動所述光學(xué)表面744抵靠所述基準(zhǔn)面783。然而，在替代性的實(shí)施方式中，所述彈性構(gòu)件和所述部件容納空間可被配置，使得所述彈性構(gòu)件被拉伸時則拉引所述光學(xué)表面抵靠所述基準(zhǔn)面。例如，螺旋彈簧可具有相對的兩端，其中一端被連接到位于從所述基準(zhǔn)面延伸的槽中的所述元件表面而另一端被連接到所述保持器。當(dāng)所述螺旋彈簧被拉伸時，所述螺旋彈簧可以提供拉引所述光學(xué)部件抵靠所述基準(zhǔn)面的對準(zhǔn)力。在這種替代性的實(shí)施方式中，也可以使用橡膠制品。在替代性的實(shí)施方式中，所述安裝器件734可用以使用粘合劑將所述光學(xué)部件736貼至所述底板702。更具體地，所述光學(xué)部件736可以由所述安裝器件734支承抵靠所述基準(zhǔn)面783。粘合劑可被淀積入所述光學(xué)表面744和所述基準(zhǔn)面783之間的所述間隙G2。所述粘合劑固化后，所述安裝器件734可被移除，而所述光學(xué)部件736仍然通過所述粘合劑被貼至所述基準(zhǔn)面783。[0247]圖47是說明裝配光具組的所述方法800的框圖。所述方法800包括提供具有部件容納空間的光學(xué)底板(見802)。所述底板及所述部件容納空間可以與上文所述的底板702和部件容納空間713相似。所述方法800還包括將光學(xué)部件插入所述部件容納空間(見804)。所述光學(xué)部件可以與上文所述的光學(xué)部件736類似并包括被配置以反射或傳輸光線穿過其中的光學(xué)表面。所述光學(xué)表面可以有面向所述部件容納空間的基準(zhǔn)面的空間部分和延伸超過所述支撐面進(jìn)入光路的路徑部分。所述方法800還包括提供保持所述光學(xué)表面抵靠所述基準(zhǔn)面以定位所述光學(xué)部件的對準(zhǔn)力(見806)。所述光學(xué)表面和基準(zhǔn)面可被配置以當(dāng)提供所述對準(zhǔn)力時，按預(yù)定的方位保持所述光學(xué)部件。在一些實(shí)施方式中，所述方法800也可包括移除所述光學(xué)部件(見808)以及可選地，將不同的光學(xué)部件插入所述部件容納空間(見810)。所述不同的光學(xué)部件可以有相同或不同的光學(xué)性能。換言之，所述不同的光學(xué)部件可以是具有相同光學(xué)性能的替換件，或所述不同的光學(xué)部件可以具有不同的光學(xué)性倉泛。圖48和49分別提供所述光源(或激發(fā)光模塊)604的透視圖和側(cè)視圖。如本文所用，光源模塊包括被固定至模塊框架的一種或多種光源(如激光、弧光燈、發(fā)光二極管、激光 二極管)以及還包括被固定至所述模塊框架的相對于所述一種或多種光源固定和預(yù)定位置的一種或多種光學(xué)部件(如透鏡或過濾器)。所述光源模塊可配置為被可拆卸地耦合于成像系統(tǒng)內(nèi)，以便用戶可以相對快速地安裝或更換所述光源模塊。在具體的實(shí)施方式中，所述光源模塊604構(gòu)成SLS模塊604，所述SLS模塊604包括所述第一和第二 SLS 614和616。如圖所示，所述SLS模塊604包括模塊框架660和模塊蓋子662。多個成像部件可被固定至所述模塊框架660中相對于彼此固定的位置。例如,所述第一和第二 SLS 614和616、所述激發(fā)光過濾器635和所述透鏡624和625可被安裝到所述模塊框架660上。此外，所述SLS模塊604可包括被配置以分別傳遞來自所述第一和第二 SLS 614和616的熱能的第一和第二散熱器664 (圖48)和666。所述SLS模塊604和所述模塊框架660可以按一定尺寸制作并成型，以便個人可以用其手握持所述SLS模塊660并容易地操作以安裝進(jìn)入所述成像系統(tǒng)600。就這點(diǎn)而言，所述SLS模塊604具有成年人可以支撐的重量。所述SLS模塊604配置為被放置于所述模塊容納空間719 (圖41)內(nèi)并且可拆卸地耦合至所述底板702(圖41)。如圖所示，所述模塊框架660具有多個面，所述面包括安裝面670和嚙合面671 (圖48)。在所示的實(shí)施方式中，所述模塊框架660大體上是長方形或塊形的，但所述模塊框架660在替代性的實(shí)施方式中可以有其他形狀。所述安裝面670配置為被安裝至所述模塊容納空間719的所述底板702。就這點(diǎn)而言，所述模塊容納空間719的至少一部分可以成型以容納并支承所述SLS模塊604。與所述部件容納空間713類似，所述模塊容納空間719可以由一個或多個表面限定，所述一個或多個表面提供其中可容納所述SLS模塊604的可達(dá)空間區(qū)域。所述表面可以是所述底板702的表面。例如，在所示的實(shí)施方式中，所述模塊容納空間719是所述底板702的凹坑。所述安裝面670可以有大體上補(bǔ)足所述底板702以及更確切地說，所述模塊容納空間719的輪廓。例如，所述安裝面670可大體上是平面的并包括從其中突出的引導(dǎo)銷672 (圖49)，所述引導(dǎo)銷672配置為被插入所述底板702中相應(yīng)的孔(未顯示)內(nèi)。所述引導(dǎo)銷672可以是被配置以便于可拆卸地耦合所述模塊框架660至所述底板702的緊固件(如螺絲)。在具體的實(shí)施方式中，所述引導(dǎo)銷672以非正交角度被插入所述底板702。如圖49所示，所述散熱器666可被耦合至所述模塊框架660，以便從所述安裝面670到所述散熱器666存在偏移量676。所述模塊框架660可包括在通道交叉點(diǎn)685彼此交叉的第一和第二光通道682和684。所述SLS 614和616可被固定至所述模塊框架660并具有相對于彼此的固定位置。所述SLS 614和616被定位，以便光信號大體上被引導(dǎo)沿光路穿過各自的所述光通道682和684朝向所述通道交叉點(diǎn)685。所述光路可被引導(dǎo)朝向所述激發(fā)光過濾器635。在所示的實(shí)施方式中，所述光路彼此垂直，直 至到達(dá)所述激發(fā)光過濾器635。所述激發(fā)光過濾器635被定位以反射所述SLS 616生成的所述光信號的至少一部分并傳輸所述SLS614生成的所述光信號的至少一部分。如圖所示，來自所述SLS 614和616的每個的所述光信號被引導(dǎo)沿著共同的路徑并通過共同的模塊窗口 674離開所述SLS模塊604。所述模塊窗口 674通過所述嚙合面671延伸。圖50是安裝到所述底板702上的所述SLS模塊604的平面圖。在所示的實(shí)施方式中，所述SLS模塊604被配置以靠在所述底板702上，以便所述地球引力g便于將所述SLS模塊604支承在其上。就這點(diǎn)而言，所述SLS模塊604可提供很容易從所述光學(xué)組件600移除或分離的集成器件。例如，移除所述測定系統(tǒng)的外殼(未顯示)或者接收進(jìn)入所述光學(xué)組件后，所述SLS模塊604可以由個人抓取并移除或更換。當(dāng)所述SLS模塊604位于所述底板702上時,所述卩齒合面671可以卩齒合光學(xué)器件680。所述光學(xué)器件680可以與所述模塊窗口 674相鄰，以便所述SLS模塊604生成的所述光信號通過所述光學(xué)器件680傳輸。雖然所示的實(shí)施方式被描述為使用帶有第一和第二 SLS的SLS模塊，可以用其他方式將激發(fā)光引導(dǎo)至所述樣品上。舉例來說，所述SLS模塊604可包括在模塊框架中具有相對于彼此的固定位置的僅僅一個SLS和另一光學(xué)部件(例如透鏡或過濾器)。同樣，可以使用兩個以上的SLS。以類似的方式，光模塊可以包括僅僅一個激光器或兩個以上激光器。然而，本文所述的實(shí)施方式不僅限于具有模塊化激發(fā)系統(tǒng)，如所述SLS模塊604。例如，所述成像系統(tǒng)600可以使用未被安裝至模塊框架的光源。更具體地，激光器可被直接安裝至所述底板或所述成像系統(tǒng)的其他部分，或可被安裝至框架，所述框架反過來被安裝于所述成像系統(tǒng)內(nèi)。返回到圖38，所述成像系統(tǒng)600可以有圖像聚焦系統(tǒng)840，所述圖像聚焦系統(tǒng)840包括所述對象或樣品支架650、光具組842及所述成像檢測器610。所述光具組842被配置以引導(dǎo)來自所述樣品支架650的光信號(例如，來自所述流動池606的所述樣品區(qū)域608的光發(fā)射)到所述成像檢測器610的檢測器表面844。如圖38所示，所述光具組842包括所述光學(xué)部件623、644、631和642。所述光具組842可包括其他光學(xué)部件。在所示的配置中，所述光具組842具有臨近所述樣品支架650設(shè)置的對象或樣品平面846和臨近所述檢測器表面844設(shè)置的圖像平面848。所述成像檢測器610被配置以在所述檢測器表面844上獲取對象或樣品圖像。在一些實(shí)施方式中，所述圖像聚焦系統(tǒng)840被配置以相對于所述檢測器610移動所述圖像平面848并捕獲測試圖像。更具體地，所述圖像平面848可被移動，以便所述圖像平面848相對于所述檢測器表面844以非平行的方式延伸并與所述檢測器表面844交叉。通過分析所述測試圖像可確定所述交叉點(diǎn)的位置。然后所述位置可被用來確定所述成像系統(tǒng)600的焦度。在具體的實(shí)施方式中，所述圖像聚焦系統(tǒng)840采用可旋轉(zhuǎn)的鏡子，所述可旋轉(zhuǎn)的鏡子被可操作地耦合至用于移動所述可旋轉(zhuǎn)的鏡子的致動器。不過，所述圖像聚焦系統(tǒng)840可以移動將所述光信號引導(dǎo)至所述檢測器表面844的其他光學(xué)部件，或所述圖像聚焦系統(tǒng)840可以移動所述檢測器610。在任一情況下，所述圖像平面848可以相對于所述檢測器表面844被相對地移動。例如，所述圖像聚焦系統(tǒng)840可以移動透鏡。在具體的實(shí)施方式中，所述成像檢測器610被配置以利用可旋轉(zhuǎn)的鏡子642獲取測試圖像，以確定所述成像系統(tǒng)600的焦度。根據(jù)所確定的焦度，所述成像系統(tǒng)600可以移動所述樣品支架650，以便所述對象或樣品被置于所述樣品平面846內(nèi)。例如，所述樣品支架650可被配置為以z方向移動所述樣品區(qū)域608預(yù)定的距離(如Δ z表示)。圖51是示出所述圖像聚焦系統(tǒng)840中幾個部件的平面圖。如圖所示，所述圖像聚焦系統(tǒng)840包括包含所述鏡子642的可旋轉(zhuǎn)的鏡子組件850、將所述鏡子642安裝其上的安裝組件852以及被配置以將所述安裝組件852和所述鏡子642圍繞旋轉(zhuǎn)軸R6旋轉(zhuǎn)的致動器或旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)854。所述鏡子642被配置以反射接收自所述樣品區(qū)域608 (圖38)的光信號863朝向所述成像檢測器610并到所述檢測器表面844上。在所示的實(shí)施方式中，所述鏡子 642直接反射所述光信號863到所述檢測器表面844上(即沒有重引導(dǎo)所述光信號863的干預(yù)光學(xué)部件)。然而，在替代性的實(shí)施方式中，可能有另外的影響所述光信號863傳播的光學(xué)部件。在所示的實(shí)施方式中，所述圖像聚焦系統(tǒng)840也包括被配置以防止所述鏡子642旋轉(zhuǎn)超過預(yù)定旋轉(zhuǎn)位置的前擋塊860和862。所述前擋塊860和862具有相對于所述軸R6的固定位置。所述安裝組件852被配置以根據(jù)是否正獲取樣品圖像或測試圖像，圍繞所述軸R6在所述前擋塊860和862之間轉(zhuǎn)動。因此，所述鏡子642可以在測試位置(或方位)和成像位置(或方位)之間旋轉(zhuǎn)。僅舉例來說，所述鏡子642可以圍繞所述軸R6在不同的旋轉(zhuǎn)位置之間從約5°到約12°旋轉(zhuǎn)。在具體的實(shí)施方式中，所述鏡子642可以圍繞所述軸R6旋轉(zhuǎn)約8°。圖52是所述鏡子組件850的透視圖。如圖所示，所述安裝組件852包括內(nèi)部框架864和承托架866。所述內(nèi)部框架864被配置以耦合至所述鏡子642以及也耦合至所述承托架866。所述內(nèi)部框架864和所述承托架866可以彼此并與多個緊定螺釘868相互作用，以提供對所述鏡子642的方位的微調(diào)整。就這點(diǎn)而言，所述安裝組件852可以構(gòu)成萬向鏡安裝組件。仍如圖所示，所述安裝組件852被稱合至所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)854。在所示的實(shí)施方式中，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)854包括直接驅(qū)動電機(jī)。然而，可以使用各種替代的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，如直流電(DC)電機(jī)、電磁線圈驅(qū)動器、線性致動器、壓電電機(jī)等等。仍如圖52所示，所述前擋塊860可以有相對于所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)854和所述軸R6的固定位置。如上文所討論，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)854被配置以圍繞所述軸R6旋轉(zhuǎn)或轉(zhuǎn)動所述鏡子642。如圖52所示，所述鏡子642具有沿所述軸R6延伸的幾何中心C。所述鏡子642的所述幾何中心C是相對于所述軸R6偏移的。在一些實(shí)施方式中，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)854被配置以在不到500毫秒內(nèi)將所述鏡子642在所述測試位置和成像位置之間移動。在具體的實(shí)施方式中，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)854被配置以在小于250毫秒或小于160毫秒內(nèi)將所述鏡子642在所述測試位置和成像位置之間移動。圖53是在所述成像位置的所述鏡子642的示意圖。如圖所示，來自所述樣品區(qū)域608 (圖38)的所述光信號863被所述鏡子642反射并被引導(dǎo)朝向所述成像檢測器610的所述檢測器表面844。根據(jù)所述光具組842的配置和所述樣品支架610的z_位置，所述樣品區(qū)域608可以充分地在焦點(diǎn)上或沒有充分地在焦點(diǎn)上(即離焦的)。圖53示出兩個圖像平面848A和848B。所述圖像平面848A大體上與所述檢測器表面844重疊，以及就這點(diǎn)而言，相應(yīng)的樣品圖像有可接受的或足夠的焦度。然而，所述圖像平面848B與所述檢測器表面844被間隔開。因此，當(dāng)所述圖像平面848B與所述檢測器表面844被間隔開時所獲得的樣品圖像可能不會有足夠的焦度。圖54和圖55分別示出樣品圖像870和872。當(dāng)所述圖像平面848A與所述檢測器表面844重疊時，所述樣品圖像870是所述成像檢測器610檢測的圖像。當(dāng)所述圖像平面848B與所述檢測器表面844不重疊時，所述樣品圖像872是所述成像檢測器610檢測的圖像。(所述樣品圖像870和872包括當(dāng)被預(yù)定的激發(fā)光譜激發(fā)時提供熒光發(fā)射的DNA簇。)如圖54和55所示，所述樣品圖像870有可接受的焦度，其中沿所述樣品圖像870的所述簇的每個被明確地限定，而所述樣品圖像872沒有其中所述簇的每個被明確地限定的可接受的焦度。圖56是在所述聚焦位置的所述鏡子642的示意圖。如圖所示，在所述聚焦位置的 所述鏡子642已被圍繞所述軸R6旋轉(zhuǎn)Θ角度。同樣，來自所述樣品區(qū)域608 (圖38)的所述光信號863被所述鏡子642反射并被引導(dǎo)朝向所述成像檢測器610的所述檢測器表面844。然而，圖56中的所述光具組842被設(shè)置以便所述圖像平面848已被相對于所述檢測器表面844移動。更具體地，所述圖像平面848并不會平行與所述檢測器表面844延伸，相反，與所述檢測器表面844交叉于平面交叉點(diǎn)PI。雖然所述鏡子642處于所述聚焦位置，所述成像系統(tǒng)600可以獲得所述樣品區(qū)域608的測試圖像。如圖56所示，取決于成像階段期間所述樣品區(qū)域608在焦點(diǎn)上的程度，所述平面交叉點(diǎn)PI可發(fā)生于所述檢測器表面844上的不同位置。例如，圖57和圖58分別示出測試圖像874和876。所述測試圖像874表示當(dāng)所述樣品區(qū)域608在焦點(diǎn)上時獲得的圖像，而所述測試圖像876表示當(dāng)所述光具組842離焦時獲得的圖像。如圖所示，所述測試圖像874具有聚焦區(qū)域或位置FL1 (其與所述基準(zhǔn)邊緣880的距離為XD1)以及所述測試圖像876具有聚焦區(qū)域或位置FL2 (其與所述基準(zhǔn)邊緣880的距離為XD2)。所述聚焦位置FL1和FL2可以由圖像分析模塊656 (圖38)確定。要確認(rèn)所述測試圖像874和876中的所述聚焦位置FL1和FL2,所述圖像分析模塊656可確定相應(yīng)的測試圖像中最佳焦度的位置。更具體地，所述分析模塊656可確定沿所述測試圖像874和876的X-維度的不同點(diǎn)的聚焦得分。所述分析模塊656可基于一個或多個圖像質(zhì)量參數(shù)計(jì)算每個點(diǎn)上的聚焦得分。圖像質(zhì)量參數(shù)的例子包括圖像對比度、光斑大小、圖像信噪比和所述圖像內(nèi)像素之間的均方誤差。舉例來說，當(dāng)計(jì)算聚焦得分時，所述分析模塊656可以計(jì)算所述圖像內(nèi)對比的變化系數(shù)。所述對比的變化系數(shù)表示圖像或圖像的選定部分中像素強(qiáng)度之間的變化量。作為進(jìn)一步的例子，當(dāng)計(jì)算聚焦得分時，所述分析模塊656可以計(jì)算來源于所述圖像的光斑的尺寸。所述光斑可以表示為高斯光斑以及尺寸可測量為半高全寬(FWHM)，在這種情況下，較小的光斑尺寸通常與改進(jìn)的聚焦相關(guān)。確定所述測試圖像中所述聚焦位置FL后，所述分析模塊656然后可以測量或確定所述聚焦位置FL與所述基準(zhǔn)邊緣880間隔開或分離開的所述距離XD。所述距離XD然后可以與所述樣品區(qū)域608相對于所述樣品平面846的Z-位置相關(guān)。例如，所述分析模塊656可確定圖58所示的所述距離XD2對應(yīng)于與所述樣品平面846距離Λ ζ的所述樣品區(qū)域608。就這點(diǎn)而言，所述樣品支架650然后可被移動所述距離Λζ，以在所述樣品平面846內(nèi)移動所述樣品區(qū)域608。因此，在測試圖像中的所述聚焦位置FL可以指示所述樣品區(qū)域608相對于所述樣品平面846的位置。如本文所用，短語“指示所述對象(或樣品)相對于所述對象(或樣品)平面的位置”包含利用因素(例如所述聚焦位置)，以提供更合適的用于確定所述距離Λ ζ的模型或算法。圖59是說明一種用于控制光學(xué)成像系統(tǒng)的焦點(diǎn)的方法890的框圖。所述方法890包括提供具有可旋轉(zhuǎn)的鏡子且被配置以引導(dǎo)光信號到檢測器表面上的光具組(見892)。所述檢測器表面可類似于所述檢測器表面844。所述光具組可以有臨近對象的對象平面，如所述樣品平面846。所述光具組也可以有臨近所述檢測器表面的圖像平面，如所述圖像平面848。所述可旋轉(zhuǎn)的鏡子可以是在成像位置和聚焦位置之間可旋轉(zhuǎn)的。 所述方法890還包括旋轉(zhuǎn)所述鏡子至所述聚焦位置(見894)以及當(dāng)所述鏡子處于所述聚焦位置時獲得所述對象的測試圖像(見896)。所述測試圖像在聚焦位置可以有最佳的焦度。所述聚焦位置可以指示所述對象相對于所述對象平面的位置。此外，所述方法890還可包括基于所述聚焦位置將所述對象移動朝向所述對象平面(見898 )。可以理解，上文的描述是為了說明，而非限制的。例如，上述的實(shí)施方式(和/或其方面)可以相互結(jié)合使用。此外，可以對實(shí)施方式做出許多修改以適應(yīng)特定情況或材料，而不背離本發(fā)明的范圍。雖然本文所描述的具體的部件和過程意在限定各種實(shí)施方式的參數(shù)，他們絕不是限制性的而是示例性的實(shí)施方式。審閱上文的描述后，許多其他的實(shí)施方式對本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說將是顯而易見的。因此，所述本發(fā)明的范圍應(yīng)該參考所附的權(quán)利要求連同這些權(quán)利要求被賦予的等同物的全部范圍來確定。在所附的權(quán)利要求中，術(shù)語“包括”和“其中”各自被用作“包含”和“在其中”的簡易英語等同物。此外，在下文的權(quán)利要求中“第一”、“第二”和“第三”等僅用作標(biāo)記，而并不意在對其對象強(qiáng)加數(shù)字要求。此外，下文的權(quán)利要求限制的書寫不是以手段加功能的格式而且并不會基于35U. S. C. § 112第六段作出解釋，除非并且直至所述權(quán)利要求限制明確使用短語“是指”后接進(jìn)一步結(jié)構(gòu)的功能無效聲明。
權(quán)利要求1.一種流動池，其特征在于，所述流動池包括 具有固定在一起以在其間限定流動通道的第一層和第二層的基底，其中所述流動通道包括成像部分和非成像部分，其中所述成像部分和非成像部分通過彎曲部分被射流地連接，所述成像部分和非成像部分彼此平行延伸； 延伸通過所述第一層并與所述流動通道的所述成像部分流體連通的入ロ ；以及 延伸通過所述第一層并與所述流動通道的所述非成像部分流體連通的出口，其中所述入口和所述出ロ在所述流動池的一端彼此毗鄰設(shè)置，以及 其中所述流動通道的所述成像部分的寬度大于所述流動通道的所述非成像部分的寬度。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的流動池，其特征在干，該基底的長度為30mm或更小，該基底的 寬度為15mm或更小，該基底的高度為I. 5mm或更小。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的流動池，其特征在于 所述第一層具有面向相反的方向并在其間限定厚度的安裝表面和外部表面；以及 所述第二層具有面向相反的方向并在其間限定厚度的通道表面和外部表面，所述第二層具有沿所述通道表面延伸的凹槽部分，所述第二層的所述通道表面被固定至所述安裝表面， 其中所述流動通道由所述通道表面的所述凹槽部分和所述安裝表面的平面部分限定。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的流動池，其特征在于，所述第二層的所述厚度沿所述成像部分大體上是均勻的并被配置以傳輸光信號穿過其中而所述第一層的所述厚度沿所述成像部分大體上是均勻的并被配置以允許熱能均勻地傳遞穿過其中。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的流動池，其特征在干，所述流動通道的所述成像部分和非成像部分具有在所述通道表面和所述安裝表面之間測量的大體上相等的高度。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的流動池，其特征在于，所述流動通道的所述成像部分的表面被配置為用于在其上放置多個DNA簇。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的流動池，其特征在于，多個DNA簇在所述流動通道的所述成像部分的表面上。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的流動池，其特征在于，所述基底的長度為IOOmm或更小，所述基底的寬度為35mm或更小，所述基底的高度為IOmm或更小。
9.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的流動池，其特征在于，所述流動通道的所述彎曲部分包括射流地連接所述流動通道的所述成像部分和所述流動通道的所述非成像部分的非連續(xù)的輪廓。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的流動池，其特征在于，所述流動通道的所述彎曲部分包括錐形部分和中間部分， 其中所述錐形部分連接所述成像部分和所述中間部分，以及 其中所述錐形部分的寬度尺寸從所述流動通道的所述成像部分到所述中間部分減少。
11.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的流動池，其特征在干，進(jìn)ー步包括條形碼。
12.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的流動池，其特征在于，所述入口和所述出ロ之間的間隔為3mm或更小。
13.一種用于分析樣品的射流器件，其特征在于所述射流器件包括根據(jù)權(quán)利要求1-12中任一項(xiàng)所述的流動池； 具有被配置以容納所述流動池的容納空間的外殼，所述容納空間按允許所述流動池相對于所述外殼浮動的尺寸制作并成型；以及 被耦合至所述外殼的墊圈，所述墊圈具有入口和出口通道并包含可壓縮材料；所述墊圈相對于所述容納空間設(shè)置，以便所述流動池的所述入口和出ロ分別與所述墊圈的所述入口和出口通道大致對準(zhǔn)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的射流器件，其特征在干，進(jìn)ー步包括包含所述墊圈和蓋材料的蓋構(gòu)件，其中所述蓋材料和所述墊圈被共同模制，所述墊圈的所述可壓縮材料比所述蓋材料更具可壓縮性質(zhì)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的射流器件，其特征在干，進(jìn)ー步包括具有所述墊圈和蓋材料并且可旋轉(zhuǎn)地耦合至所述外殼的蓋構(gòu)件，從而所述蓋構(gòu)件是圍繞安裝位置和脫開位置之 間的旋轉(zhuǎn)軸可旋轉(zhuǎn)的；當(dāng)所述蓋構(gòu)件處于所述安裝位置時，所述墊圈的入口和出口通道與所述入口和出口大致對準(zhǔn)。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的射流器件，其特征在干，進(jìn)ー步包括具有所述墊圈和蓋材料的蓋構(gòu)件，其中所述外殼進(jìn)ー步包括鰭狀突出部分，且其中所述蓋構(gòu)件在所述鰭狀突出部分之間延伸。
17.根據(jù)權(quán)利要求13、14、15或16所述的射流器件，其特征在于，所述流動池具有多個沿池平面延伸并限定所述流動池的周邊的邊緣；所述墊圈被配置以當(dāng)所述入口和出口通道大致對準(zhǔn)時，壓在所述邊緣的ー個上；所述墊圈限制所述流動池沿所述池平面在所述容納空間內(nèi)的移動。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的射流器件，其特征在于，所述流動池具有面向相反方向的第一和第二池面，所述第一和第二池面沿所述池平面延伸，其中所述墊圈也壓在所述第一和第二池面的ー個上，從而限制垂直于所述池平面的方向的移動。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的射流器件，其特征在于，所述墊圈是相對于所述外殼和流動池可移動的；當(dāng)所述墊圈被安裝到所述流動池的上方時，所述入口和出口通道與所述入口和出口大致對準(zhǔn)。
20.根據(jù)權(quán)利要求13、14、15或16所述的射流器件，其特征在于，所述流動池具有多個沿池平面延伸并限定所述流動池的周邊的邊緣，其中所述外殼沿所述周邊夾持所述流動池。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的射流器件，其特征在于，所述流動池具有面向相反方向的第一和第二池面，所述第一和第二池面大體上是平面的并在所述邊緣之間延伸。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的射流器件，其特征在于，所述外殼包括緊鄰所述容納空間設(shè)置并按容納支撐結(jié)構(gòu)的對準(zhǔn)構(gòu)件的尺寸制作并成型的凹ロ ；所述流動池的邊緣在各自的凹口內(nèi)延伸，以便所述對準(zhǔn)構(gòu)件直接嚙合所述流動池的所述邊緣。
23.根據(jù)權(quán)利要求13、14、15或16所述的射流器件，其特征在于，所述流動通道包括成像部分和非成像部分，其中成像部分和非成像部分通過彎曲部分被射流地連接，所述成像部分和非成像部分彼此平行延伸， 其中所述入口與所述流動通道的所述成像部分流體連通，以及其中所述出口與所述流動通道的所述非成像部分流體連通。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的射流器件，其特征在于，所述入口和所述出ロ在所述流動池的一端彼此毗鄰設(shè)置。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的射流器件，其特征在于，所述入口和所述出ロ之間的間隔為3mm或更小。
26.根據(jù)權(quán)利要求23所述的射流器件，其特征在于，所述流動通道的所述成像部分的寬度大于所述流動通道的所述非成像部分的寬度。
27.根據(jù)權(quán)利要求23所述的射流器件，其特征在于，基底具有固定在一起以在其間限定所述流動通道的第一層和第二層。
28.根據(jù)權(quán)利要求13所述的射流器件，其特征在于，所述流動池包含包括如下的基底 具有面向相反的方向并在其間限定厚度的安裝表面和外部表面的第一層；以及 具有面向相反的方向并在其間限定厚度的通道表面和外部表面的第二層，所述第二層具有沿所述通道表面延伸的凹槽部分，所述第二層的所述通道表面被固定至所述安裝表面， 其中所述流動通道由所述通道表面的所述凹槽部分和所述安裝表面的平面部分限定。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的射流器件，其特征在于，所述第二層的所述厚度沿所述成像部分大體上是均勻的并被配置以傳輸光信號穿過其中而所述第一層的所述厚度沿所述成像部分大體上是均勻的并被配置以允許熱能均勻地傳遞穿過其中。
30.根據(jù)權(quán)利要求28或29所述的射流器件，其特征在于，所述流動通道的所述成像部分和非成像部分具有在所述通道表面和所述安裝表面之間測量的大體上相等的高度。
31.根據(jù)權(quán)利要求23所述的射流器件，其特征在于，所述流動通道的所述成像部分的表面被配置為用于在其上放置多個DNA簇。
32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的射流器件，其特征在于，多個DNA簇在所述流動通道的所述成像部分的表面上。
33.根據(jù)權(quán)利要求13、14、15、16或28所述的射流器件，其特征在于，所述基底的長度為30mm或更小，所述基底的寬度為15mm或更小，所述基底的高度為I. 5mm或更小。
34.根據(jù)權(quán)利要求23所述的射流器件，其特征在于，所述流動通道的所述彎曲部分包括射流地連接所述流動通道的所述成像部分和所述流動通道的所述非成像部分的非連續(xù)的輪廓。
35.根據(jù)權(quán)利要34所述的射流器件，其特征在于，所述流動通道的所述彎曲部分包括錐形部分和中間部分， 其中所述錐形部分連接所述成像部分和所述中間部分，以及 其中所述錐形部分的寬度尺寸從所述流動通道的所述成像部分到所述中間部分減少。
36.根據(jù)權(quán)利要求13、14、15、16或28所述的射流器件，其特征在于，所述流動池進(jìn)ー步包括條形碼。
37.根據(jù)權(quán)利要求13、14、15、16或28所述的射流器件，其特征在干，進(jìn)ー步包括覆蓋所述入口和所述出口的密封件。
38.根據(jù)權(quán)利要求37所述的射流器件，其特征在于，所述入口和所述出ロ位于所述流動池的表面，其中所述密封件包括沿所述流動池的所述表面延伸的ー單片膠帶，其中所述單片膠帶具有延伸遠(yuǎn)離所述流動池表面邊緣的外伸部分。
39.根據(jù)權(quán)利要求13、14、15、16或28所述的射流器件，其特征在干，進(jìn)ー步包括被置于所述外殼的腔內(nèi)的識別發(fā)射機(jī)。
40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的射流器件，其特征在于，所述識別發(fā)射機(jī)包括RFID標(biāo)簽。
專利摘要本實(shí)用新型提供了一種流動池，包括具有固定在一起以在其間限定流動通道的第一層和第二層的基底，其中所述流動通道包括成像部分和非成像部分，其中所述成像部分和非成像部分通過彎曲部分被射流地連接，所述成像部分和非成像部分彼此平行延伸；延伸通過所述第一層并與所述流動通道的所述成像部分流體連通的入口；以及延伸通過所述第一層并與所述流動通道的所述非成像部分流體連通的出口，其中所述入口和所述出口在所述流動池的一端彼此毗鄰設(shè)置，以及其中所述流動通道的所述成像部分的寬度大于所述流動通道的所述非成像部分的寬度。本實(shí)用新型還提供了一種包括流動池的射流器件。
文檔編號G01N21/00GK202548048SQ20112038889
公開日2012年11月21日 申請日期2011年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月10日
發(fā)明者埃里克·威廉森, 布賴恩·克雷恩, 帕特里克·梁, 馬克·T·里德 申請人:伊魯米那股份有限公司