專利名稱：掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種掃描電鏡樣品臺(tái)，具體的說是一種掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)。
背景技術(shù)：
EBSD(Electron Backscattered Diffraction)作為裝配在掃描電鏡上的一個(gè)重要配件，在20世紀(jì)90年代以來取得了較大的發(fā)展，在世界范圍內(nèi)，EBSD已用于鋼鐵材料、 陶瓷復(fù)合材料、薄膜和巖石樣品的分析，并已在材料微觀組織結(jié)構(gòu)及微織構(gòu)表征中廣泛應(yīng)用。它的主要特點(diǎn)是在保留掃描電子顯微鏡的常規(guī)特點(diǎn)的同時(shí)進(jìn)行空間分辨率亞微米級的衍射，提供樣品表面某一點(diǎn)的晶體學(xué)取向數(shù)據(jù)，用以研究材料的基本性能及特征，如織構(gòu)和取向差分析、晶粒尺寸及形狀分布分析、相分布、相鑒別、晶界、亞晶及孿晶界性質(zhì)分析、 應(yīng)變和再結(jié)晶的分析等，為快速高效的定量統(tǒng)計(jì)研究材料的微觀組織結(jié)構(gòu)和織構(gòu)奠定了基礎(chǔ)，因此已成為材料研究中一種有效的分析手段。由于掃描電子束的能量較低，所以產(chǎn)生的EBSD信號也較弱，根據(jù)電子背散射衍射理論，在應(yīng)用EBSD進(jìn)行測量時(shí)，為了得到較強(qiáng)的信號，相對于入射電子束，樣品需要傾斜 70°，以便背散射(即衍射)的信號被充分強(qiáng)化到能被熒光屏接收，熒光屏與一個(gè)CCD相機(jī)相連，衍射花樣能直接或經(jīng)放大儲(chǔ)存圖象后在熒光屏上觀察到。由于試樣的傾斜會(huì)增加與電子槍的極靴和EBSD探頭碰撞的危險(xiǎn)，我們目前用的樣品座是在原來掃描電鏡的樣品座上增加一個(gè)傾斜70°的專用樣品座，但該傾斜用的樣品座體積太小，接觸底面圓的直徑只有10_，當(dāng)固定較大樣品時(shí)很不方便，體積稍大一點(diǎn)在測試過程中易造成滑移而影響實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的精度，當(dāng)更換試樣時(shí)需要轉(zhuǎn)動(dòng)樣品臺(tái)至另一個(gè)方向，重新進(jìn)行定位，降低工作效率。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是，克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，提供一種掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，可測量大樣品或同時(shí)測量多個(gè)樣品，穩(wěn)定性好，不易滑移，確保結(jié)果精確度，操作方便，極大地提高了工作效率。本實(shí)用新型解決以上技術(shù)問題的技術(shù)方案是掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，包括放置于掃描電鏡樣品臺(tái)內(nèi)的帶凹槽的底座和插于凹槽內(nèi)并可在凹槽內(nèi)前后移動(dòng)的傾斜樣品臺(tái)；帶凹槽的底座為圓形，其外圓與掃描電鏡的底座內(nèi)圓相吻合；傾斜樣品臺(tái)呈平行四邊形結(jié)構(gòu)，其與水平面所成的銳角為 70°，傾斜樣品上下兩面均與帶凹槽的底座互相平行；傾斜樣品臺(tái)的一側(cè)設(shè)有用于放置試樣的側(cè)凹槽。本實(shí)用新型進(jìn)一步限定的技術(shù)方案是前述的掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，帶凹槽的底座側(cè)面設(shè)有一個(gè)用于固定傾斜樣品臺(tái)的底座螺孔。前述的掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，傾斜樣品臺(tái)設(shè)有底座，底座插于凹槽內(nèi)。前述的掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，傾斜樣品臺(tái)的側(cè)面設(shè)有兩個(gè)與側(cè)凹槽連通用于固定試樣的樣品臺(tái)螺孔。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型與現(xiàn)有的掃描電鏡電子背散射衍射用的樣品臺(tái)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)⑴能夠測量較大樣品，尺寸寬度可達(dá)35mm ;⑵能夠同時(shí)測量多個(gè)小樣品，只需稍微平移掃描電鏡樣品臺(tái)即可，測試條件穩(wěn)定，對比性強(qiáng)，結(jié)果精確度高；⑶根據(jù)試樣的厚度大小，傾斜樣品臺(tái)可以前后滑移，確保試樣測試面不超出掃描電鏡樣品底座邊緣；⑷樣品座穩(wěn)定性好，并且試樣固定的穩(wěn)定性也高，不易滑移，確保結(jié)果精確度；(5)操作方便，極大地提高了工作效率。

圖I是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例I本實(shí)施例提供一種掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，結(jié)構(gòu)如圖I所示，包括放置于掃描電鏡樣品臺(tái)內(nèi)的帶凹槽的底座4和插于凹槽6內(nèi)并可在凹槽6內(nèi)前后移動(dòng)的傾斜樣品臺(tái)I ;帶凹槽的底座4為圓形，其外圓與掃描電鏡的底座內(nèi)圓相吻合；傾斜樣品臺(tái)I呈平行四邊形結(jié)構(gòu)，其與水平面所成的銳角為70°，傾斜樣品I上下兩面均與帶凹槽的底座4 互相平行；傾斜樣品臺(tái)I的一側(cè)設(shè)有用于放置試樣的側(cè)凹槽7。帶凹槽的底座4側(cè)面設(shè)有一個(gè)用于固定傾斜樣品臺(tái)I的底座螺孔5。傾斜樣品臺(tái)I設(shè)有底座3，傾斜樣品臺(tái)I通過底座3插于凹槽6內(nèi)。傾斜樣品臺(tái)I的側(cè)面設(shè)有兩個(gè)與側(cè)凹槽7連通用于固定試樣的樣品臺(tái)螺孔2。在測量大樣品時(shí)，將傾斜樣品臺(tái)電子束掃描的一面和大試樣一起倒置于一平面上，確保試樣表面與掃描電鏡底座呈70°，通過樣品臺(tái)螺孔2將試樣固定于傾斜樣品臺(tái)I的側(cè)凹槽7內(nèi)，根據(jù)試樣厚度大小在凹槽6內(nèi)可以對試樣前后滑移定位，確定位置后用底座螺孔5將傾斜樣品臺(tái)I的底座3固定在帶凹槽的底座4上。測量多個(gè)小樣品時(shí)，將多個(gè)小樣品根據(jù)分析位置的需要排列好，將傾斜樣品臺(tái) I電子束掃描的一面和多個(gè)試樣一起倒置于一平面上，確保試樣表面與掃描電鏡底座呈 70°，通過樣品臺(tái)螺孔2將試樣固定于傾斜樣品臺(tái)I的側(cè)凹槽7內(nèi)，根據(jù)試樣厚度大小在凹槽6內(nèi)可以對試樣前后滑移定位，確定位置后用底座螺孔5將傾斜樣品臺(tái)I的底座3固定在帶凹槽的底座4上。本實(shí)用新型能測量大樣品(樣品大小可達(dá)35mm左右)或同時(shí)測量多個(gè)小樣品的樣品座，固定試樣時(shí)樣品座可在掃描電鏡樣品底座上根據(jù)試樣大小進(jìn)行前后滑移并旋轉(zhuǎn)， 試樣在樣品座內(nèi)也可以根據(jù)試樣表面平整度進(jìn)行角度傾斜調(diào)節(jié)，確保被測樣品表面傾斜 70°，也可以同時(shí)測量多個(gè)尺寸較小的樣品，對于鋼廠常規(guī)分析所用的大試樣。本實(shí)用新型樣品臺(tái)裝置方便實(shí)用，節(jié)省時(shí)間，能夠確保測試精度要求。除上述實(shí)施例外，本實(shí)用新型還可以有其他實(shí)施方式。凡采用等同替換或等效變換形成的技術(shù)方案，均落在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，其特征在于包括放置于掃描電鏡樣品臺(tái)內(nèi)的帶凹槽的底座和插于所述凹槽內(nèi)并可在所述凹槽內(nèi)前后移動(dòng)的傾斜樣品臺(tái)；所述帶凹槽的底座為圓形，其外圓與掃描電鏡的底座內(nèi)圓相吻合；所述傾斜樣品臺(tái)呈平行四邊形結(jié)構(gòu)，其與水平面所成的銳角為70°，所述傾斜樣品上下兩面均與所述帶凹槽的底座互相平行；所述傾斜樣品臺(tái)的一側(cè)設(shè)有用于放置試樣的側(cè)凹槽。
2.如權(quán)利要求I所述的掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，其特征在于所述帶凹槽的底座側(cè)面設(shè)有一個(gè)用于固定所述傾斜樣品臺(tái)的底座螺孔。
3.如權(quán)利要求I所述的掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，其特征在于所述傾斜樣品臺(tái)設(shè)有底座，所述底座插于所述凹槽內(nèi)。
4.如權(quán)利要求I所述的掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，其特征在于所述傾斜樣品臺(tái)的側(cè)面設(shè)有兩個(gè)與所述側(cè)凹槽連通用于固定試樣的樣品臺(tái)螺孔。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種掃描電鏡樣品臺(tái)，是一種掃描電鏡電子背散射衍射用樣品臺(tái)，包括放置于掃描電鏡樣品臺(tái)內(nèi)的帶凹槽的底座和插于凹槽內(nèi)并可在凹槽內(nèi)前后移動(dòng)的傾斜樣品臺(tái)；帶凹槽的底座為圓形，其外圓與掃描電鏡的底座內(nèi)圓相吻合；傾斜樣品臺(tái)呈平行四邊形結(jié)構(gòu)，其與水平面所成的銳角為70°，傾斜樣品上下兩面均與帶凹槽的底座互相平行；傾斜樣品臺(tái)的一側(cè)設(shè)有用于放置試樣的側(cè)凹槽。本實(shí)用新型可根據(jù)試樣厚度大小進(jìn)行前后滑移并旋轉(zhuǎn)，可測量大樣品或同時(shí)測量多個(gè)樣品，試樣在傾斜樣品座內(nèi)也可以根據(jù)試樣表面平整度進(jìn)行角度傾斜調(diào)節(jié)，確保被測樣品表面傾斜70°。本實(shí)用新型穩(wěn)定性好，不易滑移，確保結(jié)果精確度，操作方便，極大地提高了工作效率。
文檔編號G01N23/203GK202351191SQ201120465500
公開日2012年7月25日 申請日期2011年11月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月22日
發(fā)明者李平和, 李建賓, 楊建平, 田力, 趙亞娟, 高兵 申請人:南京鋼鐵股份有限公司