專利名稱：一種光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種光學(xué)元件檢測(cè)儀，尤其是ー種光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀。
背景技術(shù)：
光譜測(cè)量在材料的分析測(cè)試和材料的特性研究中有重要應(yīng)用。就光學(xué)加工而言，主要是利用各種光譜測(cè)量方法來對(duì)各類光學(xué)零件進(jìn)行透過率和反射率的測(cè)量。但是，目前能直接測(cè)量球面光學(xué)元件反射率的儀器很少。球面光學(xué)元件由于光能利用率低、較微弱的反射光很難測(cè)量，因此亟需一種能夠精確檢測(cè)球面光學(xué)元件反射率的檢測(cè)儀
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供ー種光學(xué)元件反射率的檢測(cè)儀，該檢測(cè)儀能夠準(zhǔn)確檢測(cè)球面光學(xué)元件的反射率。為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是ー種光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀，包括一光源，將所述光源發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄獾牡谝痪酃忡R，與第一聚光鏡透過光線成45°夾角設(shè)置有半透半反鏡，該半透半反鏡的上方平行設(shè)置有一分光鏡，該分光鏡的上方設(shè)置有ー接收分光鏡透過光線的電子目鏡，所述半透半反鏡的下方設(shè)置有一將該半透半反鏡反射的光線聚焦的物鏡，所述物鏡下方的焦點(diǎn)處設(shè)有一三維樣品調(diào)節(jié)臺(tái)，其特征在干還包括一將所述分光鏡反射光線聚焦的第二聚光鏡，接收透過所述第二聚光鏡的光信號(hào)的光譜儀。進(jìn)ー步作為優(yōu)選的實(shí)施方式，所述光源為點(diǎn)光源。進(jìn)ー步作為優(yōu)選的實(shí)施方式，所述分光鏡的反射率與透射率之比可調(diào)。進(jìn)ー步作為優(yōu)選的實(shí)施方式，所述分光鏡反射率與透射率之比為7 3。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀，通過電子目鏡和三維樣品調(diào)節(jié)臺(tái)的配合可以保證樣品球面的垂直成像，通過分光鏡與第二聚光鏡的作用后，光譜儀將獲取待測(cè)樣品的不同光譜能量，然后根據(jù)獲取的光譜能量數(shù)據(jù)與標(biāo)準(zhǔn)片的特定光譜能量數(shù)據(jù)比較，即可得到待測(cè)樣品的絕對(duì)反射率，本檢測(cè)儀不僅操作方便，而且能夠準(zhǔn)確檢測(cè)球面光學(xué)元件的反射率。
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)ー步說明圖I是本實(shí)用新型光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
參照

圖1，ー種光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀，包括一光源I，將所述光源I發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄獾牡谝痪酃忡R2，與第一聚光鏡2透過光線成45°夾角設(shè)置有半透半反鏡5，該半透半反鏡5的上方平行設(shè)置有一分光鏡6，該分光鏡6的上方設(shè)置有ー接收分光鏡6透過光線的電子目鏡7，所述半透半反鏡5的下方設(shè)置有一將該半透半反鏡5反射的光線聚焦的物鏡4，所述物鏡4下方的焦點(diǎn)處設(shè)有一三維樣品調(diào)節(jié)臺(tái)3，還包括一將所述分光鏡6反射光線聚焦的第二聚光鏡8，接收透過所述第二聚光鏡8的光信號(hào)的光譜儀9。進(jìn)ー步作為優(yōu)選的實(shí)施方式，所述光源I為點(diǎn)光源。進(jìn)ー步作為優(yōu)選的實(shí)施方式，所述分光鏡6的反射率與透射率之比可調(diào)，優(yōu)選的，所述分光鏡6的反射率與透射率之比為7 3。本光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀的工作過程如下 首先，將標(biāo)準(zhǔn)片放置在三維樣品調(diào)節(jié)臺(tái)3上，對(duì)標(biāo)準(zhǔn)片進(jìn)行光譜能量測(cè)試。在測(cè)試時(shí)，通過電子目鏡7觀察并同時(shí)調(diào)節(jié)三維樣品調(diào)節(jié)臺(tái)3，當(dāng)能看到清晰的圓形光斑即表明標(biāo)準(zhǔn)片球面與物鏡4、半透半反鏡5、分光鏡6垂直成像。由于標(biāo)準(zhǔn)片的反射率已知，則可根據(jù)光譜儀9檢測(cè)獲取的光譜能量值得出反射率與光譜能量值的對(duì)應(yīng)關(guān)系；然后，將待測(cè)樣品放置在三維樣品調(diào)節(jié)臺(tái)3上，操作同上所述，保證待測(cè)樣品球面垂直成像，并通過光譜儀9檢測(cè)獲取光譜能量值，然后根據(jù)上步驟得出的反射率與光譜能量值的對(duì)應(yīng)關(guān)系，即可計(jì)算出待測(cè)樣品的絕對(duì)反射率。以上是對(duì)本實(shí)用新型的較佳實(shí)施進(jìn)行了具體說明，但本實(shí)用新型創(chuàng)造并不限于所述實(shí)施例，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不違背本實(shí)用新型精神的前提下還可以做出種種的等同變形或替換，這些等同的變形或替換均包含在本申請(qǐng)權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.ー種光學(xué)兀件反射率檢測(cè)儀，其特征在于包括一光源(I)，將所述光源(I)發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄獾牡谝痪酃忡R(2)，與第一聚光鏡(2)透過光線成45°夾角設(shè)置有半透半反鏡(5)，該半透半反鏡(5)的上方平行設(shè)置有一分光鏡(6)，該分光鏡(6)的上方設(shè)置有ー接收分光鏡(6 )透過光線的電子目鏡(7 )，所述半透半反鏡(5 )的下方設(shè)置有一將該半透半反鏡(5)反射的光線聚焦的物鏡(4)，所述物鏡(4)下方的焦點(diǎn)處設(shè)有一三維樣品調(diào)節(jié)臺(tái)(3)，其特征在于還包括一將所述分光鏡(6)反射光線聚焦的第二聚光鏡(8)，接收透過所述第二聚光鏡(8)的光信號(hào)的光譜儀(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀，其特征在于所述光源(I)為點(diǎn)光源。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀，其特征在于所述分光鏡(6)的反射率與透射率之比可調(diào)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的ー種光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀，其特征在于所述分光鏡(6)的反射率與透射率之比為7 3。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種光學(xué)元件反射率檢測(cè)儀，包括一光源，將所述光源發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄獾牡谝痪酃忡R，與第一聚光鏡透過光線成45°夾角設(shè)置有半透半反鏡，該半透半反鏡的上方平行設(shè)置有一分光鏡，該分光鏡的上方設(shè)置有一接收分光鏡透過光線的電子目鏡，所述半透半反鏡的下方設(shè)置有一將該半透半反鏡反射的光線聚焦的物鏡，所述物鏡下方的焦點(diǎn)處設(shè)有一三維樣品調(diào)節(jié)臺(tái)，還包括一將所述分光鏡反射光線聚焦的第二聚光鏡，接收透過所述第二聚光鏡的光信號(hào)的光譜儀。本檢測(cè)儀不僅操作方便，而且能夠準(zhǔn)確檢測(cè)球面光學(xué)元件的反射率，廣泛適用于光學(xué)檢測(cè)領(lǐng)域。
文檔編號(hào)G01M11/02GK202393582SQ201120508430
公開日2012年8月22日 申請(qǐng)日期2011年12月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月8日
發(fā)明者吳劍峰, 宋光均, 鄭祥利 申請(qǐng)人:廣州標(biāo)旗電子科技有限公司