放射線圖像取得裝置制造方法
【專利摘要】放射線圖像取得裝置具備出射放射線的放射線源、對應于從放射線源出射并透過了對象物的放射線的入射而產(chǎn)生閃爍光的平板狀的波長變換構(gòu)件、對從波長變換構(gòu)件的放射線的入射面出射的閃爍光進行聚光并攝像的第1攝像機構(gòu)、以及對從波長變換構(gòu)件的入射面的相反側(cè)的面出射的閃爍光進行聚光并攝像的第2攝像機構(gòu)，第1攝像機構(gòu)以及第2攝像機構(gòu)的一方對從入射面或者相反側(cè)的面沿其法線方向出射的閃爍光進行聚光，第1攝像機構(gòu)以及第2攝像機構(gòu)的另一方對從入射面或者相反側(cè)的面沿相對于其法線方向傾斜的方向出射的閃爍光進行聚光。
【專利說明】放射線圖像取得裝置
【技術領域】
[0001 ] 本實用新型涉及一種放射線圖像取得裝置。
【背景技術】
[0002]一直以來，已知有如下述專利文獻I所記載的那樣，將從X射線源產(chǎn)生并透過了攝像對象物的X射線照射到平板狀的閃爍器，由層疊在閃爍器的兩面的固體光檢測器檢測由閃爍器發(fā)光的可見光(閃爍光)，使從各固體光檢測器輸出的圖像信號重疊而取得放射線圖像的裝置。在該裝置中，使光檢測元件耦合于閃爍器的X射線的入射面及其背面，在入射面?zhèn)鹊墓鈾z測元件與背面?zhèn)鹊墓鈾z測元件的各個中檢測可見光，由此提高可見光的檢測效率。
[0003]現(xiàn)有技術文獻
[0004]專利文獻
[0005]專利文獻1:日本特開平7-27866號公報實用新型內(nèi)容
[0006]實用新型所要解決的技術問題
[0007]如上述那樣在閃爍器的兩面檢測閃爍光的裝置中，能夠在入射面?zhèn)燃捌浔趁鎮(zhèn)热〉貌煌哪芰繋У姆派渚€圖像，并可以取得所謂的雙能(dual-energy)的圖像。
[0008]然而，上述的現(xiàn)有的裝置中，透過了對象物的放射線透過入射面?zhèn)鹊墓鈾z測元件而到達閃爍器，因而比較低能量帶的放射線會被入射面?zhèn)鹊墓鈾z測元件吸收。例如，在對象物由輕原子形成的情況下，透過了對象物的放射線有時會被入射面?zhèn)鹊墓鈾z測元件吸收。這樣，存在透過了對象物的放射線會受到入射面?zhèn)鹊墓鈾z測元件的影響這樣的問題。
[0009]因此，本實用新型的目的在于，提供一種放射線圖像取得裝置，其能夠取得不同能量帶的放射線圖像，而且能夠減小對透過了對象物的放射線產(chǎn)生的影響。
[0010]解決問題的技術手段
[0011]本實用新型的一個方式所涉及的放射線圖像取得裝置，其特征在于，具備:出射放射線的放射線源；對應于從放射線源出射并透過了對象物的放射線的入射而產(chǎn)生閃爍光的平板狀的波長變換構(gòu)件；對從波長變換構(gòu)件的放射線的入射面出射的閃爍光進行聚光并攝像的第I攝像機構(gòu)；以及對從波長變換構(gòu)件的入射面的相反側(cè)的面出射的閃爍光進行聚光并攝像的第2攝像機構(gòu)，第I攝像機構(gòu)以及第2攝像機構(gòu)中的一方的攝像機構(gòu)對從入射面或者相反側(cè)的面沿其法線方向出射的閃爍光進行聚光，第I攝像機構(gòu)以及第2攝像機構(gòu)中的另一方的攝像機構(gòu)對從入射面或者相反側(cè)的面沿相對于其法線方向傾斜的方向出射的閃爍光進行聚光。
[0012]根據(jù)本實用新型的一個方式所涉及的放射線圖像取得裝置，從波長變換構(gòu)件的放射線的入射面及其相反側(cè)的面出射的閃爍光分別由第I攝像機構(gòu)和第2攝像機構(gòu)而被聚光并被攝像。由此，實現(xiàn)了取得不同能量帶的放射線圖像的雙能攝像。這里，第I攝像機構(gòu)由于對從入射面出射的閃爍光進行聚光，因此配置于從波長變換構(gòu)件分離的位置。因此，能夠制成攝像機構(gòu)不介于對象物與波長變換構(gòu)件之間的結(jié)構(gòu)，能夠避免攝像機構(gòu)對透過了對象物的放射線產(chǎn)生影響那樣的狀況。因此，能夠減小對透過了對象物的放射線產(chǎn)生的影響。此夕卜，第I攝像機構(gòu)和第2攝像機構(gòu)中的一方對從入射面或者其相反側(cè)的面沿著其法線方向出射的閃爍光進行聚光，因而能夠取得無透視傾斜(perspective)的放射線圖像。因此，能夠?qū)⒂梢环降臄z像機構(gòu)取得的無透視傾斜的放射線圖像作為基準圖像來適當?shù)匦Ｕ闪硪环降臄z像機構(gòu)取得的放射線圖像的透視傾斜。
[0013]另外，也可以是第I攝像機構(gòu)和第2攝像機構(gòu)分別具有對從波長變換構(gòu)件出射的閃爍光進行聚光的聚光透鏡部、以及對被聚光了的閃爍光進行攝像的攝像部的方式。在該情況下，通過以焦點對準波長變換構(gòu)件的入射面以及相反側(cè)的面的各面上的方式進行聚光，從而能夠取得能量區(qū)別良好且明亮的放射線圖像。
[0014]在此，也可以是第I攝像機構(gòu)對在入射面的法線方向上出射的閃爍光進行聚光，并且第2攝像機構(gòu)對在相對于相反側(cè)的面的法線方向傾斜的方向上出射的閃爍光進行聚光的方式。在該情況下，由第I攝像機構(gòu)取得的放射線圖像是由在波長變換構(gòu)件的入射面附近被變換的閃爍光所引起的圖像，因此，降低了在波長變換構(gòu)件的內(nèi)部產(chǎn)生的模糊(blur)的影響，從而成為模糊少的鮮明的圖像。因此，能夠使沒有透視傾斜并且模糊少的放射線圖像為基準圖像，因而在校正由第2攝像機構(gòu)取得的放射線圖像的透視傾斜的時候能夠使用更良好的基準圖像。
[0015]另外，也可以是放射線源被配置于入射面的法線上，并且第I攝像機構(gòu)被配置于從入射面的法線偏離的位置上，并經(jīng)由配置于波長變換構(gòu)件與放射線源之間的反射鏡而對閃爍光進行聚光的方式。在該情況下，如上所述，能夠使沒有透視傾斜并且模糊少的放射線圖像為基準圖像。而且，由于放射線源配置于入射面的法線上，因而對于向波長變換構(gòu)件的投影圖像而言也不產(chǎn)生透視傾斜，從而用于校正投影圖像的透視傾斜的運算不需要。再有，能夠抑制由放射線引起的第I攝像機構(gòu)的被曝光，并能夠抑制第I攝像機構(gòu)的內(nèi)部的噪聲的產(chǎn)生。
[0016]另外，也可以是第2攝像機構(gòu)被配置于從相反側(cè)的面的法線偏離的位置上，并經(jīng)由配置于相反側(cè)的面的法線上的反射鏡而對在相反側(cè)的面的法線方向上出射的所述閃爍光進行聚光的方式。在該情況下，能夠抑制由放射線引起的第2攝像機構(gòu)的被曝光，并能夠抑制第2攝像機構(gòu)的內(nèi)部的噪聲的產(chǎn)生。因此，即使在將由第2攝像機構(gòu)取得的放射線圖像作為基準圖像的情況下，也能夠作為良好的基準圖像。再有，能夠調(diào)整從波長變換構(gòu)件到第I以及第2攝像機構(gòu)的光路長，從而第I以及第2攝像機構(gòu)的定位變得容易。作為其結(jié)果，容易使第I以及第2攝像機構(gòu)的攝像條件(攝像時機的同時性或攝像位置的同一性等)—致。
[0017]另外，也可以是在波長變換構(gòu)件的相反側(cè)的面與第2攝像機構(gòu)之間，與相反側(cè)的面相對而配置有錐形光纖(tapered fiber)的方式。在該情況下，由錐形光纖能夠以高聚光效率對相反側(cè)的面?zhèn)鹊拈W爍光進行聚光。再有，由錐形光纖遮斷放射線，從而能夠防止第2攝像機構(gòu)的被曝光。因此，即使在將由第2攝像機構(gòu)取得的放射線圖像作為基準圖像的情況下，也能夠作為良好的基準圖像。
[0018]另外，也可以是進一步具備校正機構(gòu)，該校正機構(gòu)將由一方的攝像機構(gòu)攝像的圖像作為基準圖像，校正由另一方的攝像機構(gòu)攝像的圖像的方式。
[0019]另外，也可以是對象物是半導體器件，上述放射線圖像取得裝置適用于將該半導體器件作為檢查對象的半導體故障檢查裝置中的方式。在該情況下，透過了成為檢查對象的半導體器件的放射線不會被攝像部(圖像取得用的攝像元件)截斷(cut)，因此，能夠精度良好地檢測半導體器件的故障等。
[0020]實用新型的效果
[0021]根據(jù)本實用新型的一個方式，能夠取得不同能量帶的放射線圖像，并且能夠減小對透過了對象物的放射線產(chǎn)生的影響。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]圖1是本實用新型的第I實施方式所涉及的放射線圖像取得裝置的正面圖。
[0023]圖2 (a)?(C)是圖1的放射線圖像取得裝置中的投影圖像的說明圖。
[0024]圖3 (a)?(d)是圖1的放射線圖像取得裝置中的圖像的透視傾斜校正的說明圖。
[0025]圖4是本實用新型的第2實施方式所涉及的放射線圖像取得裝置的正面圖。
[0026]圖5 (a)?(d)是圖4的放射線圖像取得裝置中的圖像的透視傾斜校正的說明圖。
[0027]圖6是本實用新型的第3實施方式所涉及的放射線圖像取得裝置的正面圖。
[0028]圖7 (a)?(C)是圖6的放射線圖像取得裝置中的投影圖像的透視傾斜的說明圖。
[0029]圖8是本實用新型的第4實施方式所涉及的放射線圖像取得裝置的正面圖。
[0030]圖9是本實用新型的第5實施方式所涉及的放射線圖像取得裝置的正面圖。
[0031]圖10是作為本實用新型的變形例的放射線圖像取得裝置的正面圖。
[0032]圖11 (a)以及(b)是作為本實用新型的變形例的放射線圖像取得裝置的正面圖。
[0033]圖12 Ca)?(C)是作為本實用新型的變形例的放射線圖像取得裝置的正面圖。
[0034]圖13 Ca)?(d)是關于圖像的透視傾斜校正的變形例的說明圖。
【具體實施方式】
[0035]以下，一邊參照附圖一邊說明本實用新型的實施方式。再有，附圖的說明中對相同或相當部分賦予相同符號，省略重復的說明。另外，各附圖是為了說明用而制作的，以特別強調(diào)說明的對象部位的方式描述。因此，附圖中的各構(gòu)件的尺寸比率不必與實際的情況一致。
[0036]如圖1所示，放射線圖像取得裝置I是用于取得半導體器件等的電子部件或食品等的對象物A的放射線圖像的裝置。放射線圖像取得裝置I具備:朝向?qū)ο笪顰出射白色X射線等的放射線的放射線源2、對應于從放射線源2出射并透過了對象物A的放射線的入射而產(chǎn)生閃爍光的波長變換板6、對從波長變換板6的放射線的入射面6a出射的閃爍光進行聚光并攝像的表面觀察用光檢測器3、以及對從入射面6a的相反側(cè)的面即背面6b出射的閃爍光進行聚光并攝像的背面觀察用光檢測器4。這些放射線源2、波長變換板6、表面觀察用光檢測器3、以及背面觀察用光檢測器4被未圖示的筐體收納，并被固定在筐體內(nèi)。
[0037]波長變換板6是平板狀的波長變換構(gòu)件，例如是Gd202S:Tb、Gd2O2SiPr, Cs1:T1、CdWO4、CaWO4、Gd2SiO5: Ce、Lu0 4Gd16SiO5' Bi4Ge3O12' Lu2SiO5: Ce、Y2SiO5' YAlO3: Ce、Y2O2S: Tb、YTa04:Tm等的閃爍器。波長變換板6的厚度根據(jù)在數(shù)μ m?數(shù)mm的范圍內(nèi)所檢測的放射線的能量帶而設定為適當?shù)闹怠?br> [0038]表面觀察用光檢測器3 (以下，稱為“表面檢測器3”)是從波長變換板6的入射面6a側(cè)對投影到波長變換板6的對象物A的投影圖像(放射線透過圖像)進行攝像的間接變換方式的攝像機構(gòu)。表面檢測器3是具有對從波長變換板6的入射面6a出射的閃爍光進行聚光的聚光透鏡部3a、以及對被聚光透鏡部3a聚光的閃爍光進行攝像的攝像部3b的透鏡耦合型的檢測器。聚光透鏡部3a對表面檢測器視野13的閃爍光進行聚光。作為攝像部3b，可以使用例如CMOS傳感器、CXD傳感器等。再有，在表面檢測器3相當于后面所述的一方的攝像機構(gòu)的情況下，攝像部3b的受光面可以做成與入射面6a大致平行。
[0039]背面觀察用光檢測器4 (以下，稱為“背面檢測器4”)是從波長變換板6的背面6b側(cè)對投影到波長變換板6的對象物A的投影圖像(放射線透過圖像)進行攝像的間接變換方式的攝像機構(gòu)。背面檢測器4是具有對從波長變換板6的背面6b出射的閃爍光進行聚光的聚光透鏡部4a、以及對被聚光透鏡部4a聚光的閃爍光進行攝像的攝像部4b的透鏡耦合型的檢測器，具有與上述的表面檢測器3同樣的結(jié)構(gòu)。聚光透鏡部4a對背面檢測器視野14的閃爍光進行聚光。作為攝像部4b，可以使用例如CMOS傳感器、CCD傳感器等。再有，在背面檢測器4相當于后面所述的一方的攝像機構(gòu)的情況下，攝像部4b的受光面6b可以做成與背面6b大致平行。
[0040]此外，放射線圖像取得裝置I具備:控制表面檢測器3和背面檢測器4中的攝像時序的時序控制部7、輸入從表面檢測器3和背面檢測器4輸出的圖像信號并基于所輸入的各圖像信號來執(zhí)行圖像處理等的規(guī)定的處理的圖像處理裝置8、以及輸入從圖像處理裝置8輸出的圖像信號并顯示放射線圖像的顯示裝置9。時序控制部7和圖像處理裝置8由具有 CPU (Central Processing Unit)、ROM (Read Only Memory)> RAM (Random AccessMemory)和輸入輸出界面等的計算機所構(gòu)成。作為顯示裝置9，可以使用公知的顯示器。再有，時序控制部7和圖像處理裝置8可以構(gòu)成為由單一的計算機執(zhí)行的程序，也可以構(gòu)成為分別設置的單元。
[0041]接著，對上述的放射線源2、波長變換板6、表面檢測器3、以及背面檢測器4的位置關系進行說明。如圖1所示，放射線源2以放射線的光軸X與波長變換板6的入射面6a的法線B —致的方式配置。即，放射線源2與對象物A和入射面6a相對，并且配置在入射面6a的法線B上。在此，所謂放射線的光軸X，是指連結(jié)放射線源2的放射線出射點與波長變換板6的入射面6a上的任意的點Y的直線。在本實施方式中，以任意的點Y成為入射面6a的中心點的方式設定，在該情況下，比較均勻地照射放射線。另外，所謂法線B，是指從入射面6a上的任意的點α延伸的相對于入射面6a垂直的直線。在本實施方式中，以任意的點α成為入射面6a的中心點的方式設定，放射線的光軸X與法線B —致。當然，任意的點Y和任意的點α不必要是入射面6a的中心點。
[0042]表面檢測器3以可以對從波長變換板6的入射面6a出射的閃爍光進行攝像的方式且以內(nèi)置的聚光透鏡部3a的光軸F相對于入射面6a的法線B成規(guī)定的角度Θ:的方式配置。即，表面檢測器3與入射面6a相對，并且配置在從入射面6a的法線B偏離的位置上。該聚光透鏡部3a將焦點對準入射面6a，將從入射面6a沿相對于法線B成角度Θ:的方向出射的閃爍光向攝像部3b聚光。作為聚光透鏡部3a，可以使用移動透鏡(shift lens)或傾斜透鏡(tilt lens)。該表面檢測器3相當于將從入射面6a沿相對于法線B方向傾斜的方向出射的閃爍光聚光的另一方的攝像機構(gòu)。
[0043]如上所述，表面檢測器3從放射線源2的光軸X偏離而配置。即，表面檢測器3以從來自放射線源2的放射線的出射區(qū)域(放射線束12存在的區(qū)域)相分離的方式配置。由此，防止了來自放射線源2的放射線所引起的表面檢測器3的被曝光，并防止了在表面檢測器3的內(nèi)部產(chǎn)生放射線的直接變換信號而產(chǎn)生噪聲。
[0044]背面檢測器4以可以對從波長變換板6的背面6b出射的閃爍光進行攝像的方式且以內(nèi)置的聚光透鏡部4a的光軸G相對于背面6b正交的方式配置。這里，聚光透鏡部4a的光軸G與背面6b的法線C相一致。即，背面檢測器4與背面6b相對，并且配置在背面6b的法線C上。因此，背面檢測器4可以對沿著背面6b的法線C方向出射的閃爍光進行攝像，因而容易取得透視傾斜少的圖像。這里，所謂法線C，是指從背面6b上的任意的點β延伸且相對于背面6b垂直的直線。特別地，在本實施方式中，任意的點β設定為背面6b的中心點，入射面6a上的任意的點α與背面6b上的任意的點β位于同一直線上，該直線與法線B和法線C相一致。聚光透鏡部4a將焦點對準背面6b，并將從背面6b沿著法線C方向出射的閃爍光向攝像部4b聚光。該背面檢測器4相當于將從背面6b沿法線C方向出射的閃爍光聚光的一方的攝像機構(gòu)。
[0045]在放射線圖像取得裝置I中，從波長變換板6的入射面6a到表面檢測器3為止的光路長與從波長變換板6的背面6b到背面檢測器4為止的光路長相等。再有，從波長變換板6的入射面6a到表面檢測器3為止的光路長與從波長變換板6的背面6到背面檢測器4為止的光路長可以不同，但在該情況下，有必要通過圖像處理等來匹配圖像的大小等。
[0046]接著，對具有上述的結(jié)構(gòu)的放射線圖像取得裝置I的動作進行說明。首先，由時序控制部7進行控制，以同時進行由表面檢測器3和背面檢測器4所進行的攝像。通過時序控制部7的攝像時序控制，可以在不同的能量帶將對象物A的放射線透過圖像圖像化。詳細而言，比較低的能量帶的放射線透過圖像被表面檢測器3圖像化，另外，比較高能量帶的放射線透過圖像被背面檢測器4圖像化。由此，實現(xiàn)了雙能攝像。再有，在放射線圖像取得裝置I中，可以將表面檢測器3與背面檢測器4的攝像時序以分別不同的方式進行控制。另夕卜，也可以以表面檢測器3與背面檢測器4的各自的曝光時間或攝影枚數(shù)不同的方式控制。
[0047]關于表面檢測器3和背面檢測器4的功能，換言之，由表面檢測器3比較性地檢測入射面6a側(cè)變換的熒光(閃爍光)。在入射面6a側(cè)變換的熒光的檢測具有熒光的模糊(blur)少、另外熒光的亮度高這樣的特長。這是因為，在表面觀察中，能夠減小在波長變換板6的內(nèi)部的擴散或自身吸收的影響。另一方面，通過背面檢測器4比較地檢測在波長變換板6的背面6b側(cè)變換的熒光。即使在該情況下，也能夠減小波長變換板6的內(nèi)部的擴散或自身吸收的影響。
[0048]接著，通過表面檢測器3和背面檢測器4的各個，與表背兩面的放射線圖像相對應的圖像信號被輸出到圖像處理裝置8。當從表面檢測器3和背面檢測器4的各個輸出的圖像信號被輸入到圖像處理裝置8時，通過圖像處理裝置8，基于所輸入的圖像信號來執(zhí)行透視傾斜校正、差分運算或加法運算這樣的圖像間運算等的規(guī)定的處理，圖像處理后的圖像信號被輸出到顯示裝置9。然后，當從圖像處理裝置8輸出的圖像處理后的圖像信號被輸入到顯示裝置9時，對應于所輸入的圖像處理后的圖像信號的放射線圖像被顯示裝置9顯示。
[0049]圖2 Ca)是表示放射線圖像取得裝置I中的放射線源2、對象物A、以及波長變換板6的位置關系的立體圖，圖2 (b)是表示放射線源2、對象物A、以及波長變換板6的位置關系的正面圖，圖2 (c)是表示投影到波長變換板6的對象物A的投影圖像D的平面圖。在圖2中，為了容易理解，表示了對象物A是立方體形狀的情況。若如圖2 (a)所示，放射線源2配置在入射面6a的法線B上，放射線的光軸X與入射面6a的法線B —致，則如圖2(c)所示，在向入射面6a上的投影圖像D上不產(chǎn)生透視傾斜。
[0050]圖3 Ca)是表示放射線圖像取得裝置I中的表面檢測器3、背面檢測器4、以及波長變換板6的位置關系的立體圖，圖3 (b)是表示由表面檢測器3取得并被輸入到圖像處理裝置8的表面?zhèn)葓D像Pa的圖，圖3 (c)是表示由背面檢測器4取得并被輸入到圖像處理裝置8的背面?zhèn)葓D像Pb的圖。
[0051]如果如圖3 Ca)所示，表面檢測器3被配置于從入射面6a的法線B偏離的位置上，光軸F相對于入射面6a的法線B成規(guī)定的角度Q1，則如圖3 (b)所不,在表面?zhèn)葓D像Pa上產(chǎn)生透視傾斜。另一方面，如果如圖3 (a)所示，背面檢測器4被配置于背面6b的法線C上，光軸G與法線C 一致，則如圖3 (c)所示，在背面?zhèn)葓D像Pb上不產(chǎn)生透視傾斜。
[0052]在此，由圖像處理裝置8，波長變換板6上的投影圖像D的一部分作為特征部d(在圖3的例子中，對應于對象物A的側(cè)面的著色了的部分)而被識別。在表面?zhèn)葓D像Pa，作為波長變換板6的攝像圖像的表面?zhèn)炔ㄩL變換板圖像20a、作為對象物A的攝像圖像的表面?zhèn)葘ο笪飯D像Ha、以及作為表面?zhèn)葘ο笪飯D像Ha的一部分并且作為特征部d的攝像圖像的表面?zhèn)忍卣鞑繄D像ha中，均勻地產(chǎn)生透視傾斜。
[0053]因此，圖像處理裝置8起到作為校正機構(gòu)的功能，將背面?zhèn)葓D像Pb作為基準圖像來校正表面?zhèn)葓D像Pa的透視傾斜。其結(jié)果，如圖3(d)所示，得到與背面?zhèn)葓D像Pb大致一致的沒有透視傾斜的校正后的表面?zhèn)葓D像Pc，并生成對應于表面?zhèn)葓D像Pc的圖像信號。即，通過該透視傾斜校正處理，包含于校正后的表面?zhèn)葓D像Pc的表面?zhèn)炔ㄩL變換板圖像20c、校正表面?zhèn)葘ο笪飯D像He、以及表面?zhèn)忍卣鞑繄D像he成為與包含于作為基準圖像的背面?zhèn)葓D像Pb的背面?zhèn)炔ㄩL變換板圖像20b、背面?zhèn)葘ο笪飯D像Hb、以及背面?zhèn)忍卣鞑繄D像hb大致相等的位置、大小以及形狀。
[0054]根據(jù)以上說明的本實施方式的放射線圖像取得裝置1，從波長變換板6的入射面6a和背面6b出射的閃爍光分別被表面檢測器3和背面檢測器4聚光并被攝像，從而實現(xiàn)了取得不同能量帶的放射線圖像的雙能攝像。這里，表面檢測器3配置在從波長變換板6相分離的位置，對象物A與波長變換板6之間完全不存在任何檢測器。因此，避免了攝像機構(gòu)對透過了對象物A的放射線產(chǎn)生影響那樣的狀況。因此，減小了對透過了對象物A的放射線產(chǎn)生的影響，很好地檢測出低能量帶的放射線。換言之，由于檢測器的影像不會映入到放射線透過圖像，因此抑制了噪聲成分的產(chǎn)生，并且由于也不會產(chǎn)生由檢測器所引起的放射線的衰減，因此抑制了信號成分的減少。作為其結(jié)果，能夠增大雙能攝像中的低能量帶與高能量帶之差，發(fā)揮高度的能量分辨率，能夠謀求高對比化。該優(yōu)點在對象物A由硅或比硅更輕的原子形成的情況下，特別顯著地發(fā)揮。即，即使在對象物A由輕原子形成的情況下，由于透過了對象物A的低能量帶的放射線不被吸收或衰減而變換成閃爍光，該光被表面檢測器3攝像，因此，能夠精度高地取得低能量帶的放射線圖像。此外，通過一次攝像能夠同時取得低能量圖像和高能量圖像，從而謀求了同時性的確保、被曝光量的減少、以及像素錯位(位置不正(misregistration))的消除。另外，即使由I枚波長變換板6也能夠?qū)崿F(xiàn)雙能化。而且，背面檢測器4對沿背面6b的法線C方向出射的閃爍光進行聚光，因而能夠取得無透視傾斜的背面?zhèn)葓D像Pb，并能夠使該背面?zhèn)葓D像Pb作為基準圖像來適當?shù)匦Ｕ砻鎮(zhèn)葓D像Pa的透視傾斜。
[0055]另外，即使在使用白色X射線作為放射線的情況下，通過白色X射線的一次攝像能夠同時取得低能量圖像和高能量圖像，從而謀求了同時性的確保、被曝光量的減少、以及像素錯位(位置不正)的消除。
[0056]另外，以焦點在波長變換板6的入射面6a和背面6b的各面上一致的方式，被聚光透鏡部3a和聚光透鏡部4a聚光，由此能夠取得能量區(qū)別良好且明亮的放射線圖像。
[0057]圖4是第2實施方式所涉及的放射線圖像取得裝置的正面圖。圖4所示的放射線圖像取得裝置IA與圖1所示的第I實施方式的放射線圖像取得裝置I的不同點在于，表面檢測器3配置在從入射面6a的法線B偏離的位置，經(jīng)由在波長變換板6與放射線源2之間配置在法線B (光軸X)上的透過放射線的反射鏡15而對閃爍光進行聚光，以及以聚光透鏡部4a的光軸G相對于背面6b的法線C成規(guī)定的角度θ2的方式，配置背面檢測器4。再有，在圖4中，省略了時序控制部7、圖像處理裝置8、以及顯示裝置9的圖示。在圖6以及圖8?圖12中，也同樣地省略這些結(jié)構(gòu)的圖示。
[0058]與放射線圖像取得裝置IA的結(jié)構(gòu)相關，更具體而言，反射鏡15以其反射面15a相對于法線B方向成規(guī)定的角度(例如45度)的方式配置，使從入射面6a沿著法線B方向出射的閃爍光相對于法線B向規(guī)定的方向反射。作為反射鏡15，例如可以使用光學鏡。表面檢測器3以內(nèi)置的聚光透鏡部3a的光軸F和反射面15a所成的角與法線B和反射面15a所成的角相等的方式配置。該聚光透鏡部3a將從入射面6a沿著法線B方向出射并通過反射鏡15而向規(guī)定的方向反射的閃爍光朝向攝像部3b進行聚光。該表面檢測器3相當于將從入射面6a沿著法線B方向出射的閃爍光聚光的一方的攝像機構(gòu)。
[0059]另外，背面檢測器4與背面6b相對，并且配置于從背面6b的法線C偏離的位置。該聚光透鏡部4a將從背面6b沿著相對于法線C成角度Θ 2的方向出射的閃爍光朝向攝像部4b進行聚光。作為聚光透鏡部4a，可以使用移動透鏡或傾斜透鏡。該背面檢測器4相當于將從背面6b沿著相對于法線C方向傾斜的方向出射的閃爍光進行聚光的另一方的攝像機構(gòu)。
[0060]如上所述，表面檢測器3以從來自放射線源2的放射線的出射區(qū)域(放射線束12存在的區(qū)域)相分離的方式配置。由此，防止了來自放射線源2的放射線所引起的表面檢測器3的被曝光，并防止了在表面檢測器3的內(nèi)部產(chǎn)生放射線的直接變換信號而產(chǎn)生噪聲。另夕卜，從波長變換板6的入射面6a到表面檢測器3的光路長與從波長變換板6的背面6b到背面檢測器4為止的光路長可以相等。
[0061]即使在放射線圖像取得裝置IA中，與放射線圖像取得裝置I相同，在向入射面6a上的投影圖像D上也不產(chǎn)生透視傾斜(參照圖2)。
[0062]圖5 (a)是表示放射線圖像取得裝置IA中的表面檢測器3、背面檢測器4、以及波長變換板6的位置關系的立體圖，圖5 (b)是表示由表面檢測器3取得并被輸入到圖像處理裝置8的表面?zhèn)葓D像Pa的圖，圖5 (c)是表示由背面檢測器4取得并被輸入到圖像處理裝置8的背面?zhèn)葓D像Pb的圖。
[0063]如果如圖5 (a)所示，表面檢測器3將從入射面6a沿著法線B方向出射且向垂直于入射面6a的法線B的方向反射的閃爍光向攝像部3b聚光，則如圖5 (b)所示，在表面?zhèn)葓D像Pa不產(chǎn)生透視傾斜。另一方面，如果如圖5 (a)所示，背面檢測器4配置于從背面6b的法線C偏離的位置，光軸G相對于背面6b的法線C成規(guī)定的角度Θ 2，則如圖5(c)所示，在背面?zhèn)葓D像Pb上產(chǎn)生透視傾斜。
[0064]在此，由圖像處理裝置8，波長變換板6上的投影圖像D的一部分作為特征部d(在圖5的例子中，對應于對象物A的側(cè)面的著色了的部分)而被識別。在背面?zhèn)葓D像Pb，作為波長變換板6的攝像圖像的背面?zhèn)炔ㄩL變換板圖像20b、作為對象物A的攝像圖像的背面?zhèn)葘ο笪飯D像Hb、以及作為背面?zhèn)葘ο笪飯D像Hb的一部分并且作為特征部d的攝像圖像的背面?zhèn)忍卣鞑繄D像hb中，均勻地產(chǎn)生透視傾斜。
[0065]因此，圖像處理裝置8起到作為校正機構(gòu)的功能，將表面?zhèn)葓D像Pa作為基準圖像來校正背面?zhèn)葓D像Pb的透視傾斜。其結(jié)果，如圖5(d)所示，得到與表面?zhèn)葓D像Pa大致一致的沒有透視傾斜的校正后的背面?zhèn)葓D像Pd，并生成對應于背面?zhèn)葓D像Pd的圖像信號。SP，通過該透視傾斜校正處理，包含于校正后的背面?zhèn)葓D像Pd的背面?zhèn)炔ㄩL變換板圖像20d、背面?zhèn)葘ο笪飯D像Hd、以及背面?zhèn)忍卣鞑繄D像hd成為與包含于作為基準圖像的表面?zhèn)葓D像Pa的表面?zhèn)炔ㄩL變換板圖像20a、表面?zhèn)葘ο笪飯D像Ha、以及表面?zhèn)忍卣鞑繄D像ha大致相等的位置、大小以及形狀。
[0066]根據(jù)放射線圖像取得裝置1A，起到與放射線圖像取得裝置I同樣的作用效果。另夕卜，由表面檢測器3取得的表面?zhèn)葓D像Pa是由在波長變換板6的入射面6a附近被變換的閃爍光所引起的圖像，因此，降低了在波長變換板6的內(nèi)部產(chǎn)生的模糊(blur)的影響，從而成為模糊少的鮮明的圖像。因此，能夠使沒有透視傾斜并且模糊少的表面?zhèn)葓D像Pa為基準圖像，因而在校正由背面檢測器4取得的背面?zhèn)葓D像Pb的透視傾斜的時候能夠使用更良好的基準圖像。
[0067]因此，在由圖像處理裝置8進行的透視傾斜校正處理中，通過將模糊少的鮮明的表面?zhèn)葓D像Pa作為基準圖像來校正背面?zhèn)葓D像Pb，從而由表面?zhèn)葓D像Pa與背面?zhèn)葓D像Pb的圖像間運算所得到的圖像也成為鮮明的斷層圖像。
[0068]而且，由于放射線源2配置于入射面6a的法線B上，因而對于向波長變換板6的投影圖像D而言也不產(chǎn)生透視傾斜，從而用于校正投影圖像D的透視傾斜的運算不需要。再有，抑制了由放射線引起的表面檢測器3的被曝光，并防止了表面檢測器3的內(nèi)部的噪聲的產(chǎn)生。
[0069]圖6是第3實施方式所涉及的放射線圖像取得裝置的正面圖。圖6所示的放射線圖像取得裝置IB與圖4所示的第2實施方式的放射線圖像取得裝置IA的不同點在于，以放射線的光軸X相對于入射面6a的法線B成規(guī)定的角度Θ的方式，配置放射線源2，以及，表面檢測器3配置于入射面6a的法線B上。更具體而言，表面檢測器3以內(nèi)置的聚光透鏡部3a的光軸F相對于入射面6a正交的方式配置。在此，聚光透鏡部3a的光軸F與入射面6a的法線B —致。另外，背面檢測器4以聚光透鏡部4a的光軸G與放射線源2的光軸X位于同一平面上的方式，并且以將法線B、C作為基準而位于相同側(cè)的方式配置。還有，在此，任意的點Y以及任意的點α沒有必要是入射面6a的中心點，也沒有必要是相同的點。
[0070]如上所述，表面檢測器3從放射線源2的光軸X偏離而配置。即，表面檢測器3以從來自放射線源2的放射線的出射區(qū)域(放射線束12存在的區(qū)域)相分離的方式配置。由此，防止了來自放射線源2的放射線所引起的表面檢測器3的被曝光，并防止了在表面檢測器3的內(nèi)部產(chǎn)生放射線的直接變換信號而產(chǎn)生噪聲。
[0071]圖7 (a)是表示放射線圖像取得裝置IB中的放射線源2、對象物A、以及波長變換板6的位置關系的立體圖，圖7 (b)是表示放射線源2、對象物A、以及波長變換板6的位置關系的正面圖，圖7 (c)是表示投影到波長變換板6的對象物A的投影圖像E的平面圖。在圖7中，為了容易理解，表示對象物A是立方體形狀的情況。若如圖7 (a)所示，放射線源2從入射面6a的法線B偏離而配置，放射線的光軸X相對于入射面6a的法線B成規(guī)定的角度Θ，則如圖7 (c)所示，在向入射面6a上的投影圖像E上產(chǎn)生透視傾斜。該投影圖像E的透視傾斜，由圖像處理裝置8，根據(jù)需要被校正。還有，在圖7 (a)中，為了說明的方便，放射線源2的主體以相對于光軸X平行的方式圖示，但是，配置放射線源2的朝向能夠根據(jù)裝置的布局而適當設定。
[0072]根據(jù)放射線圖像取得裝置1B，起到了與放射線圖像取得裝置1、1A同樣的作用效
果O
[0073]圖8是第3實施方式所涉及的放射線圖像取得裝置的正面圖。圖8所示的放射線圖像取得裝置IC與圖1所示的第I實施方式的放射線圖像取得裝置I的不同點在于，背面檢測器4被配置于從背面6b的法線C偏離的位置上，經(jīng)由配置于法線C上的反射鏡16將閃爍光進行聚光。更具體而言，反射鏡16以其反射面16a相對于法線C方向成規(guī)定的角度(例如45度)的方式配置，將從背面6b沿著法線C方向出射的閃爍光相對于法線C向規(guī)定的方向反射。作為反射鏡16，例如可以使用光學鏡或棱鏡。背面檢測器4以內(nèi)置的聚光透鏡部4a的光軸G和反射面16a所成的角與法線C和反射面16a所成的角相等的方式配置。該聚光透鏡部4a將從背面6b沿著法線C方向出射并通過反射鏡16而相對于法線C向規(guī)定的方向反射的閃爍光朝向攝像部4b進行聚光。
[0074]如上所述，背面檢測器4以從來自放射線源2的放射線的出射區(qū)域(放射線束12存在的區(qū)域)相分離的方式配置。由此，防止了來自放射線源2的放射線所引起的背面檢測器4的被曝光，并防止了在背面檢測器4的內(nèi)部產(chǎn)生放射線的直接變換信號而產(chǎn)生噪聲。另夕卜，從波長變換板6的入射面6a到表面檢測器3的光路長與從波長變換板6的背面6b到背面檢測器4為止的光路長可以相等。
[0075]根據(jù)放射線圖像取得裝置1C，可以取得與放射線圖像取得裝置1、1A、1B相同的作用效果。另外，防止了由放射線引起的背面檢測器4的被曝光，并防止了背面檢測器4的內(nèi)部的噪聲的產(chǎn)生。再有，能夠調(diào)整從波長變換板6到表面檢測器3以及背面檢測器4的光路長，從而第I以及第2攝像機構(gòu)的定位變得容易。作為其結(jié)果，容易使第I以及第2攝像機構(gòu)的攝像條件(攝像時序的同時性或攝像位置的同一性等)一致。
[0076]圖9是第5實施方式所涉及的放射線圖像取得裝置的正面圖。圖9所示的放射線圖像取得裝置ID與圖1所示的第I實施方式的放射線圖像取得裝置I的不同點在于，在背面6b與背面檢測器4之間與背面6b相對面地配置有錐形光纖17。更具體而言，錐形光纖17以其軸線與背面6b的法線C相一致的方式配置，使從背面6b沿著法線C方向出射的閃爍光引導至背面檢測器4的聚光透鏡部。由該錐形光纖17與背面檢測器4構(gòu)成纖維耦合檢測器18。
[0077]根據(jù)放射線圖像取得裝置1D，起到了與放射線圖像取得裝置1、1A?IC同樣的作用效果。另外，背面6b側(cè)的閃爍光以高的聚光效率被錐形光纖17聚光。通常，波長變換板6的背面6b側(cè)的熒光圖像往往會變暗，但通過采用纖維耦合檢測器18可以減少光學系統(tǒng)的損耗。此外，來自放射線源2的放射線被錐形光纖17截斷，防止了背面檢測器4的被曝光。
[0078]以上，對本實用新型的實施方式進行了說明，但是，本實用新型不限于上述實施方式。例如，如圖10所示，也可以為使放射線源2從入射面6a的法線B偏離而配置，并且將反射鏡15配置于入射面6a側(cè)的放射線圖像取得裝置1E。在該情況下，背面檢測器4以聚光透鏡部4a的光軸G與放射線源2的光軸X位于同一平面上的方式，并且以將法線B、C作為基準而位于相同側(cè)的方式配置。
[0079]另外，在使放射線源2從入射面6a的法線B偏離而配置的情況下，也可以采用圖11所示的各種的變形方式。即，如圖11 (a)所以，也可以為將表面檢測器3配置于入射面6a的法線B上并且以聚光透鏡部4a的光軸G相對于背面6b的法線C成規(guī)定的角度Θ 2的方式配置背面檢測器4的放射線圖像取得裝置1F。在此，背面檢測器4以聚光透鏡部4a的光軸G與放射線源2的光軸X位于同一平面上的方式，并且以將法線B、C作為基準而彼此位于相反側(cè)的方式配置。另外，如圖11 (b)所以，也可以為將反射鏡15配置于入射面6a側(cè)并且以聚光透鏡部4a的光軸G相對于背面6b的法線C成規(guī)定的角度Θ 2的方式配置背面檢測器4的放射線圖像取得裝置1G。在該情況下，背面檢測器4與放射線圖像取得裝置IF相同地配置。在這些放射線圖像取得裝置1F、1G中，表面檢測器3相當于一方的攝像機構(gòu)，背面檢測器4相當于另一方的攝像機構(gòu)。
[0080]另外，在使放射線源2從入射面6a的法線B偏離而配置的情況下，也可以采用圖12所示的各種的變形方式。即，如圖12(a)所以，也可以為以聚光透鏡部3a的光軸F相對于入射面6a的法線B成規(guī)定的角度Θ i的方式配置表面檢測器3并且將背面檢測器4配置于背面6b的法線C上的放射線圖像取得裝置1H。另外，如圖12(b)所以，也可以為以聚光透鏡部3a的光軸F相對于入射面6a的法線B成規(guī)定的角度Θ:的方式配置表面檢測器3并且將反射鏡16配置于背面6b側(cè)的放射線圖像取得裝置1J。另外，如圖12 (c)所以，也可以為以聚光透鏡部3a的光軸F相對于入射面6a的法線B成規(guī)定的角度Θ:的方式配置表面檢測器3并且將纖維耦合檢測器18配置于背面6b側(cè)的放射線圖像取得裝置1K。在這些放射線圖像取得裝置1H、1J、1K中，背面檢測器4相當于一方的攝像機構(gòu)，表面檢測器3相當于另一方的攝像機構(gòu)。
[0081 ] 另外，在上述實施方式中，在由圖像處理裝置8進行的透視傾斜校正中，對于使用投影圖像D的特征部d的圖像校正具有透視傾斜的圖像的情況進行說明，但是，透視傾斜校正的方法不限于此。例如，如圖13所示，也可以在波長變換板6的入射面6a以及背面6b的角部(在圖13的例子中為位于波長變換板6的對角線上的2個地方的角部)附上校正用標記(印)，并使用作為該校正用標記R的圖像的表面?zhèn)刃Ｕ脴擞泩D像Sa以及背面?zhèn)刃Ｕ脴擞泩D像Sb來進行透視傾斜校正。在圖13所示的例子中，表面?zhèn)葓D像Pa作為基準圖像使用來對背面?zhèn)葓D像Pb進行透視傾斜校正，從而得到校正后的背面?zhèn)葓D像Pd。在此，以包含于表面?zhèn)葓D像Pa的表面?zhèn)刃Ｕ脴擞泩D像Sa以及包含于背面?zhèn)葓D像Pd的校正后的背面?zhèn)刃Ｕ脴擞泩D像Sd的間隔以及形狀一致的方式，進行透視傾斜校正。還有，附于波長變換板6的校正用標記可以是如上所述附于相互分離的位置的多個標記，也可以是單一的T 己 O[0082]另外,在上述實施方式中，在使用反射鏡15、16的情況下,對反射鏡15、16以相對于法線B、C成45度的方式配置，聚光透鏡部3a、4a的光軸相對于法線B、C正交的情況進行了說明，但是，并不限于這樣的配置，反射鏡15、16的角度或表面檢測器3以及背面檢測器4的配置可以根據(jù)裝置內(nèi)的布局而適當變更。
[0083]另外，放射線源2、表面檢測器3以及背面檢測器4并不限于光軸X、光軸F以及光軸G配置成同一平面狀的情況，也可以在法線B、C方向的軸線周圍適當配置成三維。
[0084]另外，在上述實施方式中，對于在表面檢測器3將沿著相對于入射面6a的法線B方向傾斜的方向出射的閃爍光進行聚光的情況下，以聚光透鏡部3a的光軸F相對于入射面6a的法線B成規(guī)定的角度Θ i的方式，配置表面檢測器3的方式進行了說明，但是，并不限于這樣的方式。例如，也可以以聚光透鏡部3a的光軸F相對于入射面6a垂直(即平行于法線B)并且其光軸F位于入射面6a的范圍外的方式，配置表面檢測器3。在該情況下，表面檢測器3，作為另一方的攝像機構(gòu)，也可以將從入射面6a沿著相對于法線B方向傾斜的方向出射的閃爍光進行聚光并攝像。
[0085]另外，在上述實施方式中，對于在背面檢測器4將沿著相對于背面6b的法線C方向傾斜的方向出射的閃爍光進行聚光的情況下，以聚光透鏡部4a的光軸G相對于背面6b的法線C成規(guī)定的角度θ2的方式，配置背面檢測器4的方式進行了說明，但是，并不限于這樣的方式。例如，也可以以聚光透鏡部4a的光軸G相對于背面6b垂直(即平行于法線C)并且其光軸G位于背面6b的范圍外的方式，配置背面檢測器4。在該情況下，背面檢測器4，作為另一方的攝像機構(gòu)，也可以將從背面6b沿著相對于法線C方向傾斜的方向出射的閃爍光進行聚光并攝像。
[0086]另外，在上述實施方式中，作為檢測器使用了透鏡耦合型的檢測器，但是，也可以將聚光透鏡部和攝像部分別作為不同個體來具備。
[0087]另外，作為使對象物A為半導體器件且以該半導體器件為檢查對象的半導體故障檢查裝置，如果應用上述實施方式的放射線圖像取得裝置的話是有效的。在該情況下，由于透過了成為檢查對象的半導體器件的放射線不被攝像部(圖像取得用的攝像元件)截斷，因此能夠精度高地檢測半導體器件的故障等。
[0088]產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0089]根據(jù)本實用新型的一個方式，能夠取得不同的能量帶的放射線圖像，并且能夠減小對透過了對象物的放射線產(chǎn)生的影響。
[0090]符號的說明
[0091]1、1A~1H、1J、1K...放射線圖像取得裝置，2...放射線源，3...表面觀察用檢測器(第I攝像機構(gòu))，3a…聚光透鏡部，3b...攝像部，4…背面觀察用光檢測器(第2攝像機構(gòu))，4a…聚光透鏡部，4b...攝像部，6…波長變換板(波長變換構(gòu)件)，6a…入射面，6b...背面(相反側(cè)的面)，8...圖像處理裝置(校正機構(gòu))15...反射鏡，16...反射鏡，17...錐形光纖，A...對象物，B…入射線的法線，0.背面的法線。
【權利要求】
1.一種放射線圖像取得裝置，其特征在于， 具備: 放射線源，出射放射線； 平板狀的波長變換構(gòu)件，對應于從所述放射線源出射并透過了對象物的所述放射線的入射而產(chǎn)生閃爍光； 第I攝像機構(gòu)，對從所述波長變換構(gòu)件的所述放射線的入射面出射的閃爍光進行聚光并攝像；以及 第2攝像機構(gòu)，對從所述波長變換構(gòu)件的所述入射面的相反側(cè)的面出射的閃爍光進行聚光并攝像， 所述第I攝像機構(gòu)以及所述第2攝像機構(gòu)中的一方的攝像機構(gòu)對從所述入射面或者所述相反側(cè)的面沿其法線方向出射的閃爍光進行聚光， 所述第I攝像機構(gòu)以及所述第2攝像機構(gòu)中的另一方的攝像機構(gòu)對從所述入射面或者所述相反側(cè)的面沿相對于其法線方向傾斜的方向出射的閃爍光進行聚光。
2.如權利要求1所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第I攝像機構(gòu)和所述第2攝像機構(gòu)分別具有: 聚光透鏡部，對從所述波長變換構(gòu)件出射的所述閃爍光進行聚光；以及 攝像部，對被聚光了的所述閃爍光進行攝像。
3.如權利要求1所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第I攝像機構(gòu)對在所述入射面的法線方向上出射的閃爍光進行聚光， 并且所述第2攝像機構(gòu)對在相對于所述相反側(cè)的面的法線方向傾斜的方向上出射的閃爍光進行聚光。
4.如權利要求3所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第I攝像機構(gòu)的受光面平行于所述入射面。
5.如權利要求3所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第I攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述入射面正交， 所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述相反側(cè)的面成規(guī)定的角度。
6.如權利要求3所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第I攝像機構(gòu)與所述入射面相對，并且配置于所述入射面的法線上。
7.如權利要求3所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第I攝像機構(gòu)的聚光透鏡部將焦點對準所述入射面，并將從所述入射面沿法線方向出射的閃爍光向攝像部聚光， 所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部將焦點對準所述相反側(cè)的面，并將從所述相反側(cè)的面沿相對于所述相反側(cè)的面的法線傾斜的方向出射的閃爍光向攝像部聚光。
8.如權利要求3所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述放射線源被配置于所述入射面的法線上， 并且所述第I 攝像機構(gòu)被配置于從所述入射面的法線偏離的位置上，并經(jīng)由配置于所述波長變換構(gòu)件與所述放射線源之間的反射鏡而對所述閃爍光進行聚光。
9.如權利要求8所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述反射鏡以其反射面相對于所述入射面的法線方向成規(guī)定的角度的方式配置，將從所述入射面沿法線方向出射的閃爍光相對于所述入射面的法線向規(guī)定的方向反射。
10.如權利要求8所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第I攝像機構(gòu)被配置為，所述第I攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸以及所述反射鏡的反射面所成的角，與所述入射面的法線以及所述反射面所成的角相等。
11.如權利要求3所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述放射線源以放射線的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置， 所述第I攝像機構(gòu)配置于所述入射面的法線上。
12.如權利要求11所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第2攝像機構(gòu)以所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述相反側(cè)的面的法線成規(guī)定的角度的方式配置， 在將所述入射面的法線以及所述相反側(cè)的面的法線作為基準時，所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸位于與所述放射線源的光軸相同的一側(cè)。
13.如權利要求11所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第2攝像機構(gòu)以所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述相反側(cè)的面的法線成規(guī)定的角度的方式配置， 在將所述入射面的法線以及所述相反側(cè)的面的法線作為基準時，所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸位于與所述放射線源的光軸相反的一側(cè)。
14.如權利要求3所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述放射線源以放射線的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置，所述第I攝像機構(gòu)配置于從所述入射面的法線偏離的位置，經(jīng)由配置于所述波長變換構(gòu)件與所述放射線源之間的反射鏡而將閃爍光聚光。
15.如權利要求14所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第2攝像機構(gòu)以所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述相反側(cè)的面的法線成規(guī)定的角度的方式配置， 在將所述入射面的法線以及所述相反側(cè)的面的法線作為基準時，所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸位于與所述放射線源的光軸相同的一側(cè)。
16.如權利要求14所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第2攝像機構(gòu)以所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述相反側(cè)的面的法線成規(guī)定的角度的方式配置， 在將所述入射面的法線以及所述相反側(cè)的面的法線作為基準時，所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸位于與所述放射線源的光軸相反的一側(cè)。
17.如權利要求1所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第I攝像機構(gòu)對沿相對于所述入射面的法線傾斜的方向出射的閃爍光進行聚光， 并且所述第2攝像機構(gòu)對在所述相反側(cè)的面的法線方向上出射的閃爍光進行聚光。
18.如權利要求17所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第2攝像機構(gòu)的受光面平行于所述相反側(cè)的面。
19.如權利要求17所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述相反側(cè)的面正交。
20.如權利要求17所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于，所述第2攝像機構(gòu)與所述相反側(cè)的面相對，并且配置于所述相反側(cè)的面的法線上。
21.如權利要求17所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第I攝像機構(gòu)的聚光透鏡部將焦點對準所述入射面，并將從所述入射面沿相對于所述入射面的法線傾斜的方向出射的閃爍光向攝像部聚光， 所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部將焦點對準所述相反側(cè)的面，并將從所述相反側(cè)的面沿法線方向出射的閃爍光向攝像部聚光。
22.如權利要求17所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述放射線源被配置于所述入射面的法線上， 所述第I攝像機構(gòu)以所述第I攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置， 所述第2攝像機構(gòu)配置于所述相反側(cè)的面的法線上。
23.如權利要求17所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述放射線源以放射線的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置，所述第I攝像機構(gòu)以所述第I攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置， 所述第2攝像機構(gòu)配置于所述相反側(cè)的面的法線上。
24.如權利要求17所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第2攝像機構(gòu)被配置于從所述相反側(cè)的面的法線偏離的位置上，并經(jīng)由配置于所述相反側(cè)的面的法線上的反射鏡而對在所述相反側(cè)的面的法線方向上出射的所述閃爍光進行聚光。
25.如權利要求24所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述反射鏡以其反射面相對于所述相反側(cè)的面的法線方向成規(guī)定的角度的方式配置，將從所述相反側(cè)的面沿法線方向出射的閃爍光相對于所述相反側(cè)的面的法線向規(guī)定的方向反射。
26.如權利要求24所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第2攝像機構(gòu)被配置為，所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸以及所述反射鏡的反射面所成的角與所述相反側(cè)的面的法線以及所述反射面所成的角相等。
27.如權利要求24所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述放射線源被配置于所述入射面的法線上， 所述第I攝像機構(gòu)以所述第I攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置。
28.如權利要求24所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述放射線源以放射線的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置，所述第I攝像機構(gòu)以所述第I攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置。
29.如權利要求17所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 在所述波長變換構(gòu)件的所述相反側(cè)的面與所述第2攝像機構(gòu)之間，與所述相反側(cè)的面相對面而配置有錐形光纖。
30.如權利要求29所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于，所述錐形光纖以其軸線與所述相反側(cè)的面的法線一致的方式配置，將從所述相反側(cè)的面沿所述相反側(cè)的面的法線方向出射的閃爍光引導至所述第2攝像機構(gòu)的聚光透鏡部。
31.如權利要求29所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述放射線源配置于所述入射面的法線上， 所述第I攝像機構(gòu)以所述第I攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置。
32.如權利要求29所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述放射線源以放射線的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置，所述第I攝像機構(gòu)以所述第I攝像機構(gòu)的聚光透鏡部的光軸相對于所述入射面的法線成規(guī)定的角度的方式配置。
33.如權利要求1~32中的任意一項所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 從所述入射面到所述第I攝像機構(gòu)的光路長與從所述相反側(cè)的面到所述第2攝像機構(gòu)的光路長相等。
34.如權利要求1~32中的任意一項所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述第I攝像機構(gòu)以及所述第2攝像機構(gòu)以同時進行攝像的方式構(gòu)成。
35.如權利要求1~32中的任意一項所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 進一步具備校正機構(gòu)，該校正機構(gòu)將由所述一方的攝像機構(gòu)攝像的圖像作為基準圖像，校正由所述另一方的攝像機構(gòu)攝像的圖像。
36.如權利要求1~32中的任一項所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述對象物是半導體器件， 適用于將該半導體器件作為檢查對象的半導體故障檢查裝置中。
37.如權利要求1~32中的任一項所述的放射線圖像取得裝置，其特征在于， 所述對象物是電子部件。
【文檔編號】G01N23/04GK203396723SQ201190001003
【公開日】2014年1月15日 申請日期:2011年10月21日 優(yōu)先權日:2011年1月25日
【發(fā)明者】杉山元胤, 須山敏康 申請人:浜松光子學株式會社