專利名稱：膜材翹曲量測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型提供一種用于量測(cè)膜材翹曲值的裝置，特指ー種量測(cè)含黏著層的光學(xué)膜材翹曲值，其可避免黏著層與裝置沾黏，影響精準(zhǔn)度及造成人員操作不當(dāng)。
背景技術(shù)：
液晶平面顯示器的面板制程中，包含偏光板對(duì)液晶盒精準(zhǔn)對(duì)位的貼合過(guò)程，且面板的光學(xué)表現(xiàn)如對(duì)比、視角、色彩飽和度等，皆需仰賴與偏光板及其上光學(xué)膜的搭配；而偏光板制作方式習(xí)知為多層式膜材彼此貼合，因此若膜材彼此剛性不同，將難以避免地造成偏光板成品的翹曲，但為了面板快速自動(dòng)化量產(chǎn)需求，偏光板成品的翹曲程度需被限定在一定程度內(nèi)，以避免因過(guò)度翹曲使貼合機(jī)臺(tái)無(wú)法吸附固定，造成對(duì)位坐標(biāo)滑動(dòng)偏差，影響面板光學(xué)表現(xiàn)，以及無(wú)法平整貼合造成的氣泡外觀不良；因此，翹曲程度對(duì)于偏光板為一重要評(píng)價(jià)指標(biāo)。 此外，偏光板需貼合于面板液晶盒上，故成品需具備黏著層。請(qǐng)配合參看圖I所示，圖I為習(xí)知量測(cè)偏光板、光學(xué)膜等膜材翹曲的方式，其包含將待測(cè)膜材2靜置于平坦基臺(tái)I的上表面11，待待測(cè)膜材2穩(wěn)定后依序量測(cè)角ー 21、角ニ 22、角三23及角四24相對(duì)于平坦基臺(tái)I上表面11的翹曲高度h，以此為評(píng)估該待測(cè)膜材2是否符合面板廠貼合制程中所需的翹曲限度；若待測(cè)膜材2含黏著層時(shí)，其與上表面11接觸時(shí)，將造成放置未平衡前，因黏附于上表面11，而無(wú)法反映其真實(shí)翹曲程度。因而黏著層將造成在量測(cè)其翹曲吋，因易與量測(cè)平坦基臺(tái)沾黏，造成量測(cè)誤差，使量測(cè)精準(zhǔn)度不佳，無(wú)法精確篩選出適合面板廠快速生產(chǎn)的翹曲限度內(nèi)的偏光板，及人員操作不易，増加人員量測(cè)時(shí)間。

實(shí)用新型內(nèi)容因此，本實(shí)用新型的目的之ー在于提供ー種不易沾粘的膜材翹曲量測(cè)裝置，以期克服現(xiàn)有量測(cè)平坦基臺(tái)的難點(diǎn)。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供的膜材翹曲量測(cè)裝置在一較佳實(shí)施例中，其包含平坦基臺(tái)，其上表面的表面積大于待測(cè)膜材的表面積；及復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)均勻分布于該平坦基臺(tái)的上表面，其中該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)具有相同高度且各具有平坦的頂表面。在本實(shí)用新型的膜材翹曲量測(cè)裝置一較佳實(shí)施例中，該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)為不連續(xù)重復(fù)単元。該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)的頂表面積總和小于該平坦基臺(tái)上表面的表面積。在本實(shí)用新型的膜材翹曲量測(cè)裝置另ー較佳實(shí)施例中，該不連續(xù)重復(fù)単元的寬度相同；同時(shí)該不連續(xù)重復(fù)單元間具有間隔，且該間隔的寬度相同；而上述該不連續(xù)重復(fù)單元的寬度較佳為小于1_ ;上述該不連續(xù)重復(fù)単元的間隔寬度較佳為介于I U m至1_。在本實(shí)用新型提供的膜材翹曲量測(cè)裝置另ー較佳實(shí)施例中，其包含平坦基臺(tái)，其上表面的表面積大于待測(cè)膜材的表面積，且該平坦基臺(tái)可為金屬平坦基臺(tái)或?qū)щ姼叻肿悠教够_(tái)；及復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)均勻分布于該平坦基臺(tái)的上表面，其中該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)具有相同高度且各具有平坦的頂表面。本實(shí)用新型以此實(shí)施例實(shí)施時(shí)，可使膜材所帶靜電荷經(jīng)由導(dǎo)電性平坦基臺(tái)傳導(dǎo)消除，避免靜電吸附而造成翹曲值偏差。在本實(shí)用新型提供的膜材翹曲量測(cè)裝置另ー較佳實(shí)施例中，其包含平坦基臺(tái)，其上表面的表面積大于待測(cè)膜材的表面積；及復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)均勻分布于該平坦基臺(tái)的上表面，其中該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)具有相同高度且各具有平坦的頂表面，且該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)可包含涂層，涂層位于該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)的表面，該涂層可包含金屬層或?qū)щ姼叻肿訉?。本?shí)用新型以此實(shí)施例實(shí)施時(shí)，可使膜材所帶靜電荷經(jīng)由與導(dǎo)電性涂層的傳導(dǎo)而消除，避免靜電吸附而造成翹曲值偏差。關(guān)于本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)與精神可以藉由以下的實(shí)用新型詳述及附圖得到進(jìn)ー步的了解。

圖I為習(xí)知的翹曲量測(cè)平坦基臺(tái)示意圖。圖2為本實(shí)用新型的膜材翹曲量測(cè)裝置的示意圖。圖3為本實(shí)用新型的膜材翹曲量測(cè)裝置ー實(shí)施例的側(cè)視圖。圖4為本實(shí)用新型的膜材翹曲量測(cè)裝置另ー實(shí)施例的側(cè)視圖。
具體實(shí)施方式
請(qǐng)配合參看圖2所示，圖2為本實(shí)用新型所提供的膜材翹曲量測(cè)裝置的一較佳實(shí)施例，膜材翹曲量測(cè)裝置包含平坦基臺(tái)1，其上表面11的表面積大于待測(cè)膜材2的表面積；及復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)3均勻分布于該平坦基臺(tái)I的上表面11，其中該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)3具有相同高度h 3且各具有平坦的頂表面31。其中，本實(shí)用新型的膜材翹曲量測(cè)裝置與現(xiàn)有技術(shù)的膜材翹曲量測(cè)裝置的相同的元件采用相同標(biāo)號(hào)。在本實(shí)用新型的膜材翹曲量測(cè)裝置的一較佳實(shí)施例中，該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)3為不連續(xù)重復(fù)單元。該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)3的頂表面積總和小于該平坦基臺(tái)上表面11的表面積。請(qǐng)配合參看圖3所示，圖3為本實(shí)用新型的膜材翹曲量測(cè)裝置另ー較佳實(shí)施例的側(cè)視圖，該不連續(xù)重復(fù)單元的寬度w3相同；同時(shí)該不連續(xù)重復(fù)單元間具有間隔4，且該間隔4的寬度d4相同，因此對(duì)于含黏著層的待測(cè)膜材接ロ，可得均勻的作用力；而上述該不連續(xù)重復(fù)單元的寬度《3較佳為小于1_，更佳為小于100 ym，該不連續(xù)重復(fù)単元的間隔的寬度d4較佳為介于I y m至Imm之間，以此可大幅降低含黏著層的待測(cè)膜材2對(duì)平坦基臺(tái)I的黏著力。請(qǐng)參見(jiàn)表一,表ー為待測(cè)膜材2為偏光板時(shí),各角所量測(cè)的翅曲值,對(duì)照組一與對(duì)照組ニ為使用圖I所示習(xí)知無(wú)表面微結(jié)構(gòu)平坦基臺(tái)方式的量測(cè)結(jié)果，其中對(duì)照組一為量測(cè)不含黏著層的偏光板，對(duì)照組ニ為量測(cè)含黏著層的偏光板，對(duì)比可知習(xí)知方式量測(cè)含黏著層的偏光板所得翹曲數(shù)據(jù)比未含黏著層的偏光板小，原因除所増加黏著層本身重量的輕微影響外，主要因?yàn)轲ぶ鴮訉?duì)平坦基臺(tái)I的沾黏，使低估此偏光板膜材的實(shí)際翹曲程度，此將造成該偏光板膜材于實(shí)際面板片貼制程中發(fā)生不良機(jī)率増加。請(qǐng)?jiān)賲⒁?jiàn)表一，實(shí)驗(yàn)組一與實(shí)驗(yàn)組ニ皆為使用圖2及圖3所示的本實(shí)用新型ー較佳實(shí)施例的膜材翹曲量測(cè)裝置，且于該不連續(xù)重復(fù)單元的寬度w3為100 ym，該不連續(xù)重復(fù)単元的間隔的寬度d4為1_的條件下所量測(cè)結(jié)果，實(shí)驗(yàn)組一的待測(cè)膜材2為不含黏著層的偏光板，對(duì)比對(duì)照組一可知其翹曲數(shù)值相當(dāng)接近，其顯示本實(shí)用新型的膜材翹曲量測(cè)裝置不影響不含黏著層的偏光板實(shí)際翹曲程度；實(shí)驗(yàn)組ニ的待測(cè)膜材2為含黏著層的偏光板，對(duì)比對(duì)照組ニ的量測(cè)結(jié)果，若排除所増加黏著層本身重量的輕微影響后，其亦相當(dāng)接近此待測(cè)膜材2在對(duì)照組一中的實(shí)際翹曲程度。這是因?yàn)榻逵稍搹?fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)3而減少了平坦基臺(tái)I的上表面11與待測(cè)膜材2的接觸面積，故可避免待測(cè)膜材2含黏著層吋，因直接與平坦基臺(tái)I的上表面11接觸、沾黏，而造成量測(cè)數(shù)據(jù)失真。表一使用本實(shí)用新型的膜材翹曲量測(cè)裝置與習(xí)知翹曲量測(cè)平坦基臺(tái)所量測(cè)翹曲值數(shù)據(jù)表
權(quán)利要求1.ー種膜材翹曲量測(cè)裝置，其特征在于包含 平坦基臺(tái)，其上表面的表面積大于待測(cè)膜材的表面積 '及 復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)，均勻分布于該平坦基臺(tái)的上表面，其中該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)具有相同高度且各具有平坦的頂表面。
2.如權(quán)利要求I所述的膜材翹曲量測(cè)裝置，其特征在于該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)為不連續(xù)重復(fù)單元。
3.如權(quán)利要求2所述的膜材翹曲量測(cè)裝置，其特征在于該不連續(xù)重復(fù)單元的寬度相同。
4.如權(quán)利要求3所述的膜材翹曲量測(cè)裝置，其特征在于該不連續(xù)重復(fù)單元的寬度小于Imm0
5.如權(quán)利要求2所述的膜材翹曲量測(cè)裝置，其特征在于該不連續(xù)重復(fù)單元間具有間隔，且該間隔的寬度相同。
6.如權(quán)利要求5所述的膜材翹曲量測(cè)裝置，其特征在于該不連續(xù)重復(fù)單元的間隔寬度介于I u m至Imm之間。
7.如權(quán)利要求I所述的膜材翹曲量測(cè)裝置，其特征在于該頂表面具有頂表面積，且該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)的頂表面積總和小于該平坦基臺(tái)上表面的表面積。
8.如權(quán)利要求I所述的膜材翹曲量測(cè)裝置，其特征在于該平坦基臺(tái)為金屬平坦基臺(tái)或?qū)щ姼叻肿悠教够_(tái)。
9.如權(quán)利要求I所述的膜材翹曲量測(cè)裝置，其特征在于該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)包含涂層，該涂層位于該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)的表面。
10.如權(quán)利要求9所述的膜材翹曲量測(cè)裝置，其特征在于該涂層包含金屬層或?qū)щ姼叻肿訉印?br> 專利摘要本實(shí)用新型為一種膜材翹曲量測(cè)裝置，其包含平坦基臺(tái)，其上表面的表面積大于待測(cè)膜材的表面積；及復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)均勻分布于該平坦基臺(tái)的上表面，其中該復(fù)數(shù)個(gè)突出微結(jié)構(gòu)具有相同高度且各具有平坦的頂表面。本實(shí)用新型提供的膜材翹曲量測(cè)裝置可避免量測(cè)含黏著層的膜材翹曲值時(shí)，因黏著層與平坦基臺(tái)沾黏，造成量測(cè)誤差。
文檔編號(hào)G01B21/32GK202547636SQ201220022679
公開(kāi)日2012年11月21日 申請(qǐng)日期2012年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月18日
發(fā)明者吳龍海, 楊雯欣, 郭真寬 申請(qǐng)人:明基材料有限公司, 明基材料股份有限公司