專利名稱：光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的光干涉氣體檢測(cè)設(shè)備都是采用50年代日本理研設(shè)計(jì)的光路和機(jī)械結(jié)構(gòu)，其原理為雅敏干涉。這種結(jié)構(gòu)測(cè)量范圍寬、有一定測(cè)量精度、維護(hù)工作量小，但因光學(xué)系統(tǒng)的成像光程較長(zhǎng)和光學(xué)機(jī)械組合結(jié)構(gòu)件較多，產(chǎn)品體積較大，而且由于光源沒(méi)有準(zhǔn)直，有雜光，從而容易產(chǎn)生零點(diǎn)漂移和測(cè)量誤差。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，本實(shí)用新型目的在提供一種光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)更為簡(jiǎn)單，可減小產(chǎn)品體積?！け緦?shí)用新型的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，包括氣室，還包括設(shè)置于氣室一端外，用于將光源發(fā)出的光束分為兩路平行光束射入氣室的分光模塊。進(jìn)一步,所述氣室包括米樣氣室和參考?xì)馐?所述米樣氣室和參考?xì)馐曳謩e與分光模塊射出的兩路平行光束中的一路相對(duì)設(shè)置。進(jìn)一步，所述分光模塊為一塊分光棱鏡。進(jìn)一步，所述分光棱鏡相對(duì)于氣室傾斜放置，以使所述兩路平行光束沿氣室的長(zhǎng)度方向射入氣室。進(jìn)一步，所述光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)還包括一反射模塊，所述反射模塊設(shè)置于氣室與分光模塊相對(duì)的另一端外，用于將分光模塊反射經(jīng)過(guò)氣室的兩路平行光束反射回氣室。進(jìn)一步，所述光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)還包括一合光模塊，所述合光模塊設(shè)置于氣室與反射模塊相對(duì)的另一端外，用于將反射模塊反射經(jīng)過(guò)氣室的兩路平行光合為一束光。進(jìn)一步，所述合光模塊與分光模塊為一體設(shè)置的膠合棱鏡。進(jìn)一步，所述合光模塊與分光模塊為分光平面鏡。進(jìn)一步，所述光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)還包括成像系統(tǒng)，所述成像系統(tǒng)包括感光模塊，所述感光模塊設(shè)置于聚光模塊的光線射出方向上。進(jìn)一步，所述光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)還包括光源模塊，所述光源模塊包括光源和準(zhǔn)直光路，所述準(zhǔn)直光路設(shè)置于光源的發(fā)射方向上，所述準(zhǔn)直光路沿光線發(fā)射方向，依次包括聚光鏡、光欄和準(zhǔn)直鏡，所述光欄設(shè)置于聚光鏡的焦點(diǎn)內(nèi)，所述準(zhǔn)直鏡設(shè)置于聚光鏡的焦點(diǎn)外。本實(shí)用新型的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可減小整機(jī)產(chǎn)品的體積，特別是在進(jìn)一步技術(shù)方案中，合光模塊與分光模塊為膠合棱鏡，結(jié)構(gòu)更為緊湊，使儀器便攜成為可能?？山档彤a(chǎn)品的裝配要求，提高精度；光源設(shè)置兩級(jí)透鏡組成的準(zhǔn)直系統(tǒng)，準(zhǔn)直效果好，提聞檢測(cè)精度。本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)、目標(biāo)和特征在某種程度上將在隨后的說(shuō)明書中進(jìn)行闡述，并且在某種程度上，基于對(duì)下文的考察研究對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員而言將是顯而易見(jiàn)的，或者可以從本實(shí)用新型的實(shí)踐中得到教導(dǎo)。本實(shí)用新型的目標(biāo)和其他優(yōu)點(diǎn)可以通過(guò)下面的說(shuō)明書和權(quán)利要求書來(lái)實(shí)現(xiàn)和獲得。

圖I示出了實(shí)施例I的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)的示意圖；圖2示出了實(shí)施例2的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)另一種實(shí)施方式的示意圖；圖3示出了實(shí)施例3的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)中光源模塊的示意圖。
具體實(shí)施方式
以下將對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)的描述。應(yīng)當(dāng)理解，優(yōu)選實(shí)施例僅為了說(shuō)明本實(shí)用新型，而不是為了限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。參見(jiàn)圖1、2、3，光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng),包括氣室6、分光模塊、合光模塊、反射模塊8、成像系統(tǒng)和光源，所述分光模塊設(shè)置于氣室一端外，用于將光源發(fā)出的光束分為兩路平行光束沿氣室6的長(zhǎng)度方向射入氣室6，兩路平行光在氣室6內(nèi)干涉后，可獲得兩組干涉條紋；所述氣室6包括米樣氣室和參考?xì)馐?所述米樣氣室和參考?xì)馐曳謩e與分光模塊射出的兩路平行光束中的一路相對(duì)設(shè)置，采樣氣室和參考?xì)馐抑g的隔斷可在兩組干涉條紋間形成隔帶；為增加光路在氣室內(nèi)的行程，以減小氣室長(zhǎng)度，在氣室6與分光模塊相對(duì)的另一端外設(shè)置反射模塊8，所述反射模塊8用于將分光模塊反射經(jīng)過(guò)氣室的兩路平行光束反射回氣室；還包括一合光模塊，所述合光模塊設(shè)置于氣室與反射模塊相對(duì)的另一端夕卜，用于將反射模塊反射經(jīng)過(guò)氣室的兩路平行光合為一束光，本實(shí)施例中，合光模塊與分光模塊由分光平面鏡5 —并實(shí)現(xiàn)。所述成像系統(tǒng)包括投影組件和感光模塊13，所述感光模塊13設(shè)置于合光模塊的光線射出方向上，投影組件設(shè)置于合光模塊與感光模塊13之間，所述投影組件由兩塊凸透鏡組成或由一塊凸透鏡11和一塊凹透鏡12組成，所述感光模塊用于將干涉條紋轉(zhuǎn)換為電信號(hào)進(jìn)行下一步處理。參見(jiàn)圖1、3，所述光源模塊包括光源I和準(zhǔn)直光路，所述準(zhǔn)直光路設(shè)置于光源I的發(fā)射方向上。所述準(zhǔn)直光路沿光線發(fā)射方向，依次包括聚光鏡2、光欄3和準(zhǔn)直鏡4,所述光欄3設(shè)置于聚光鏡2的焦點(diǎn)內(nèi)，所述準(zhǔn)直鏡4設(shè)置于聚光鏡2的焦點(diǎn)外。所述聚光鏡2優(yōu)選為凸透鏡，所述準(zhǔn)直鏡4優(yōu)選為膠合透鏡，所述膠合透鏡由一面凸透鏡和一面彎月透鏡組成，準(zhǔn)直鏡4光心與聚光鏡2光心的距離為聚光鏡2的焦距I加上膠合透鏡的焦距f。所述光源I發(fā)射出光線，聚光鏡2將光源I發(fā)出的光纖會(huì)聚后發(fā)散，在此過(guò)程中，光欄3可將雜光去除，準(zhǔn)直鏡4則對(duì)接收的光線進(jìn)行準(zhǔn)直，試透射出的光線為水平光線。所述光干涉甲烷檢測(cè)裝置的光源模塊中的光源I、聚光鏡2、光欄3和準(zhǔn)直鏡4可封裝為一體。參見(jiàn)圖2，圖2中僅畫出部分光路的示意圖，作為另一種實(shí)施方式，合光模塊與分光模塊各為一塊折射棱鏡，兩塊折射棱鏡分別實(shí)現(xiàn)合光與分光。此外，合光模塊與分光模塊還可以為設(shè)置為一體的膠合棱鏡。[0022]最后說(shuō)明的是，以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制，盡管參 照較佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本技術(shù)方案的宗旨和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求1.光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，包括氣室，其特征在于還包括設(shè)置于氣室一端外，用于將光源發(fā)出的光束分為兩路平行光束射入氣室的分光模塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，其特征在于所述氣室包括米樣氣室和參考?xì)馐遥雒讟託馐液蛥⒖細(xì)馐曳謩e與分光模塊射出的兩路平行光束中的一路相對(duì)設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，其特征在于所述分光模塊為一塊分光棱鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，其特征在于所述分光棱鏡相對(duì)于氣室傾斜放置，以使所述兩路平行光束沿氣室的長(zhǎng)度方向射入氣室。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，其特征在于所述光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)還包括一反射模塊，所述反射模塊設(shè)置于氣室與分光模塊相對(duì)的另一端外，用于將分光模塊反射經(jīng)過(guò)氣室的兩路平行光束反射回氣室。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，其特征在于所述光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)還包括一合光模塊，所述合光模塊設(shè)置于氣室與反射模塊相對(duì)的另一端外，用于將反射模塊反射經(jīng)過(guò)氣室的兩路平行光合為一束光。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，其特征在于所述合光模塊與分光模塊為一體設(shè)置的膠合棱鏡。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，其特征在于所述合光模塊與分光模塊為分光平面鏡。
9.根據(jù)權(quán)利要求6-8中任一項(xiàng)所述的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，其特征在于所述光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)還包括成像系統(tǒng)，所述成像系統(tǒng)包括投影組件和感光模塊，所述感光模塊設(shè)置于聚光模塊的光線射出方向上，投影組件設(shè)置于聚光模塊與感光模塊之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，其特征在于所述光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)還包括光源模塊，所述光源模塊包括光源和準(zhǔn)直光路，所述準(zhǔn)直光路設(shè)置于光源的發(fā)射方向上，所述準(zhǔn)直光路沿光線發(fā)射方向，依次包括聚光鏡、光欄和準(zhǔn)直鏡，所述光欄設(shè)置于聚光鏡的焦點(diǎn)內(nèi)，所述準(zhǔn)直鏡設(shè)置于聚光鏡的焦點(diǎn)外。
專利摘要本實(shí)用新型涉及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，提供一種光干涉氣體檢測(cè)裝置光路系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)更為簡(jiǎn)單，可減小產(chǎn)品體積，包括氣室，還包括設(shè)置于氣室一端外，用于將光源發(fā)出的光束分為兩路平行光束射入氣室的分光模塊，還包括反射模塊、合光模塊等，在進(jìn)一步技術(shù)方案中，給出多種合光模塊與分光模塊的組合方式，例如為一體的膠合棱鏡，結(jié)構(gòu)更為緊湊，使儀器便攜成為可能，可降低產(chǎn)品的裝配要求，提高精度；光源設(shè)置兩級(jí)透鏡組成的準(zhǔn)直系統(tǒng)，準(zhǔn)直效果好，提高檢測(cè)精度。
文檔編號(hào)G01N21/45GK202720190SQ20122028437
公開(kāi)日2013年2月6日 申請(qǐng)日期2012年6月15日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月15日
發(fā)明者張晶, 張小平, 劉佳 申請(qǐng)人:重慶同博測(cè)控儀器有限公司