專利名稱：位面計(jì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及用于對(duì)所供給的顆粒進(jìn)行積累的容器中的顆粒的積累量進(jìn)行測(cè)量的位面計(jì)。
背景技術(shù)：
干式脫硫脫硝裝置對(duì)從燒煤鍋爐或燒結(jié)機(jī)等排出廢氣的裝置排出的大量廢氣進(jìn)行處理(凈化)。干式脫硫脫硝裝置具有用于處理廢氣的吸附塔。在該吸附塔中，為了吸附廢氣內(nèi)的有害物質(zhì)而使用碳質(zhì)吸附劑。碳質(zhì)吸附劑包括活性碳、活性木炭、活性焦炭、以及活性褐煤等。干式脫硫脫硝裝置具有用于除去廢氣中的S O x、N O x、二惡英及水銀等有害物質(zhì)的吸附塔、以及用于對(duì)使用完的碳質(zhì)吸附劑進(jìn)行再生處理的再生塔。另外，干式脫硫脫硝裝置具有用于輸送向吸附塔或再生塔供給的碳質(zhì)吸附劑、以及從吸附塔或再生塔排出的碳質(zhì)吸附劑的輸送系統(tǒng)(傳送裝置)。傳送裝置配置在吸附塔及再生塔的附近，對(duì)碳質(zhì)吸附劑進(jìn)行輸送。由傳送裝置輸送來的碳質(zhì)吸附劑向吸附塔或再生塔落下。落下的碳質(zhì)吸附劑在吸附塔或再生塔中積累起來。然而，若吸附塔或再生塔中所積累的碳質(zhì)吸附劑的位面(積累在塔內(nèi)的碳質(zhì)吸附劑的堆的高度)過于下降，則料封消失，而使廢氣流入到吸附塔及再生塔的上部室，引起其殼體受到腐蝕。另外，各塔的碳質(zhì)吸附劑供給機(jī)(例如、回轉(zhuǎn)閥)也有可能發(fā)生腐蝕。因此，例如利用電容式位面計(jì)對(duì)吸附塔或再生塔中的碳質(zhì)吸附劑的位面進(jìn)行測(cè)量。根據(jù)該測(cè)量結(jié)果，控制向再生塔供給新的碳質(zhì)吸附劑。電容式位面計(jì)具有鐵或不銹鋼等金屬等的管材、和用于對(duì)該管材進(jìn)行覆蓋的絕緣體。在各塔內(nèi)，碳質(zhì)吸附劑積累成以中央部為頂點(diǎn)的山形狀。因此，供給到塔內(nèi)的碳質(zhì)吸附劑在該山的斜面上滾動(dòng)，有時(shí)直接與電容式位面計(jì)碰撞。若其反復(fù)發(fā)生，則位面計(jì)的絕緣體受到損傷而使其絕緣性降低。這種情況會(huì)導(dǎo)致電容式位面計(jì)的測(cè)量誤差。進(jìn)而，若絕緣體脫落，則會(huì)露出導(dǎo)電性的管材面。在這種情況下，難于測(cè)定位面。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的位面計(jì)(本位面計(jì))用于測(cè)量對(duì)所供給的顆粒進(jìn)行積累的容器中的顆粒的積累量，其特征在于，具有傳感器部，具有插入到積累的所述顆粒間的下端部和從所述顆粒間伸出的上端部，該傳感器部測(cè)量所述容器中的顆粒的積累量；和保護(hù)罩，以將該傳感器部的距容器中的顆粒的供給部近的一側(cè)覆蓋，而將該傳感器部的距容器中的顆粒的供給部遠(yuǎn)的一側(cè)敞開的方式，沿著該傳感器部延伸。本位面計(jì)對(duì)容器中的顆粒的積累量進(jìn)行測(cè)量。即，本位面計(jì)通過對(duì)容器中所積累的顆粒的山的高度(位面)進(jìn)行測(cè)量，來測(cè)量容器中的顆粒的積累量。[0013]為了進(jìn)行該測(cè)量，本位面計(jì)具有傳感器部。傳感器部的下端部插入到所積累的顆 粒之間。另外，傳感器部的上端部從顆粒間伸出不與顆粒相接觸。即，傳感器部具有與顆粒 相接觸的部分和不相接觸的部分。傳感器部例如測(cè)量與顆粒相接觸的部分的長(zhǎng)度。而且， 根據(jù)測(cè)量結(jié)果測(cè)定容器中的顆粒的積累量。[0014]向容器定期地或不定期地供給顆粒。有可能該顆粒在已經(jīng)積累于容器內(nèi)的顆粒的 山的斜面滾動(dòng)等，而向從顆粒間伸出的傳感器部移動(dòng)。因此，本位面計(jì)具有保護(hù)罩。該保護(hù) 罩設(shè)置成沿傳感器部延伸。而且，該保護(hù)罩覆蓋傳感器部的距容器中的顆粒的供給部近的一側(cè)。[0015]由此，本位面計(jì)抑制了供給到容器的顆粒直接與傳感器部碰撞的情況。其結(jié)果，能 夠抑制由于顆粒而使傳感器部損傷的情況。從而，傳感器部能夠在較長(zhǎng)的期間準(zhǔn)確地持續(xù) 測(cè)定容器中的顆粒的積累量。[0016]另一方面，保護(hù)罩使傳感器部的距容器中的顆粒的供給部遠(yuǎn)的一側(cè)敞開。因此，容 器內(nèi)的顆粒繞過保護(hù)罩而進(jìn)入到保護(hù)罩的內(nèi)部。因此，能夠抑制容器中的顆粒的積累狀態(tài) 受本位面計(jì)的影響的情況。其結(jié)果，傳感器部能夠準(zhǔn)確地測(cè)定容器中的顆粒的積累量。[0017]此外，優(yōu)選所述保護(hù)罩的距容器中的顆粒的供給部遠(yuǎn)的一側(cè)的端部和所述容器的 內(nèi)壁之間的間隙是所述顆粒的直徑的5倍以上。[0018]此外，優(yōu)選所述間隙是所述顆粒的直徑的10倍以上。[0019]此外，優(yōu)選所述間隙是所述顆粒的直徑的35倍以下。[0020]此外，優(yōu)選所述位面計(jì)還具有用于將所述傳感器部及保護(hù)罩安裝于容器的凸緣 部。[0021]此外，優(yōu)選所述位面計(jì)還具有沿所述傳感器部延伸并保持所述傳感器部的框架 部。[0022]此外，優(yōu)選所述傳感器部根據(jù)容器內(nèi)的顆粒的靜電電容和容器內(nèi)的氣氛的靜電電 容之間的差測(cè)定容器中的顆粒的積累量。[0023]此外，優(yōu)選所述容器是對(duì)從上部供給的顆粒進(jìn)行積累的容器。[0024]此外，優(yōu)選所述顆粒是碳質(zhì)吸附劑，所述容器是使用碳質(zhì)吸附劑的移動(dòng)層式脫硫 脫硝裝置中的吸附塔和/或再生塔。


[0025]圖1是表示作為干式脫硫脫硝裝置的一例的廢氣處理裝置的構(gòu)成的說明圖。[0026]圖2是表示廢氣處理裝置的再生塔內(nèi)的、再生塔位面計(jì)的設(shè)置狀態(tài)的說明圖。[0027]圖3是表示再生塔位面計(jì)的構(gòu)成的側(cè)視圖。[0028]圖4是表示再生塔位面計(jì)的構(gòu)成的截面圖。[0029]圖5是表示利用再生塔位面計(jì)的傳感器部進(jìn)行的位面測(cè)定方法的說明圖。
具體實(shí)施方式
[0030]以下對(duì)作為本實(shí)用新型的一實(shí)施方式涉及的干式脫硫脫硝裝置(移動(dòng)層式脫硫脫 硝裝置)的一例的廢氣處理裝置(本裝置)進(jìn)行說明。本裝置對(duì)從使用化石燃料的燒結(jié)機(jī)(未圖示)排出的氣體(廢氣)進(jìn)行處理。圖1是表示本裝置的概略構(gòu)成的說明圖。如該圖所示，本裝置具備碳質(zhì)吸附劑貯槽部(容器)11、吸附塔(容器)13、再生塔(容器)15、篩選機(jī)17、碳質(zhì)吸附劑補(bǔ)充用傳送裝置
21、碳質(zhì)吸附劑供給用傳送裝置23、碳質(zhì)吸附劑回收用傳送裝置25、以及旁路滑槽31。如圖1所示，碳質(zhì)吸附劑貯槽部11具備貯槽部位面計(jì)51。另外，吸附塔13具備吸附塔位面計(jì)53。進(jìn)而，再生塔15具備再生塔位面計(jì)55。這些位面計(jì)51、53及55分別對(duì)碳質(zhì)吸附劑貯槽部11、吸附塔13及再生塔15的碳質(zhì)吸附劑(顆粒)的積累量進(jìn)行測(cè)量。碳質(zhì)吸附劑貯槽部(多級(jí)保持器)11是用于貯藏本裝置所使用的碳質(zhì)吸附劑并且根據(jù)需要向其外部排出的箱。吸附塔13利用被供給的碳質(zhì)吸附劑對(duì)通過自身的廢氣進(jìn)行處理(凈化)。S卩，從水平方向(與吸附塔13的延伸方向垂直的方向)向吸附塔13導(dǎo)入廢氣。吸附塔13內(nèi)的碳質(zhì)吸附劑吸附廢氣中的硫氧化物(S O x)及粉塵等，并且，將氮氧化物(N O x)還原為N 2。由此，從廢氣中除去有害物質(zhì)。然后，廢氣被從吸附塔13排出。另外，吸附塔13把使用完的碳質(zhì)吸附劑(吸附有S O {等的碳質(zhì)吸附劑)從其底部排出。再生塔15對(duì)使用完的碳質(zhì)吸附劑進(jìn)行再生(活化)處理。即，再生塔15將使用完的碳質(zhì)吸附劑加熱到400°C以上，由此，再生為能夠再次使用。再生塔15將再生后的碳質(zhì)吸附劑(再生碳質(zhì)吸附劑)和其他異物從其底部排出。該“其他異物”包括捕集到的粉塵(廢氣中的塵土)、以及由于破碎、磨損等而產(chǎn)生的碳質(zhì)吸附劑微粒和粉(以下、稱為碳質(zhì)吸附劑粉)。篩選機(jī)17從來自再生塔15的排出物中取出再生碳質(zhì)吸附劑。即，篩選機(jī)17通過使來自再生塔15的排出物過篩而從來自再生塔15的排出物中除去捕集粉塵及碳質(zhì)吸附劑粉。而且，篩選機(jī)17排出剩下的再生碳質(zhì)吸附劑。碳質(zhì)吸附劑補(bǔ)充用傳送裝置21接受從碳質(zhì)吸附劑貯槽部11供給的碳質(zhì)吸附劑，并向碳質(zhì)吸附劑回收用傳送裝置25輸送。碳質(zhì)吸附劑回收用傳送裝置25接受從吸附塔13排出的使用完的碳質(zhì)吸附劑。碳質(zhì)吸附劑回收用傳送裝置25將該使用完的碳質(zhì)吸附劑和從碳質(zhì)吸附劑貯槽部11供給的碳質(zhì)吸附劑向再生塔15輸送。碳質(zhì)吸附劑供給用傳送裝置23接受利用篩選機(jī)17篩選出的再生碳質(zhì)吸附劑。碳質(zhì)吸附劑供給用傳送裝置23將該再生碳質(zhì)吸附劑向吸附塔13輸送。旁路滑槽31是用于將通過碳質(zhì)吸附劑回收用傳送裝置25輸送來的碳質(zhì)吸附劑不通過再生塔15而向篩選機(jī)17供給的滑槽。在此，對(duì)本裝置的動(dòng)作簡(jiǎn)單地進(jìn)行說明。從水平方向向吸附塔13導(dǎo)入廢氣。廢氣在被除去S O x、N O x及粉塵等后從吸附塔13排出。另一方面，從吸附塔13的上部供給碳質(zhì)吸附劑。碳質(zhì)吸附劑一邊以規(guī)定的速度降落，一邊吸附廢氣中的S O x及粉塵等。并且，碳質(zhì)吸附劑將N O x還原成N 2。吸附有S O {等的使用完的碳質(zhì)吸附劑被從吸附塔13的底部排出，并被放置于碳質(zhì)吸附劑回收用傳送裝置25上。然后，由碳質(zhì)吸附劑回收用傳送裝置25輸送該碳質(zhì)吸附齊U，并向再生塔15供給。[0045]使用完的碳質(zhì)吸附劑通過在再生塔15中被加熱到400°C以上而再生。再生碳質(zhì)吸附劑在冷卻到150°C以下后被供給到篩選機(jī)17。而且，在除去粉塵及碳質(zhì)吸附劑粉后，再生碳質(zhì)吸附劑被放置于碳質(zhì)吸附劑供給用傳送裝置23并向吸附塔13輸送。[0046]另外，利用再生塔位面計(jì)55測(cè)定再生塔15中的碳質(zhì)吸附劑的積累量。碳質(zhì)吸附劑貯槽部11在再生塔15中的碳質(zhì)吸附劑的積累量成為第I規(guī)定值以下的情況下，向碳質(zhì)吸附劑補(bǔ)充用傳送裝置21新排出碳質(zhì)吸附劑。該新的碳質(zhì)吸附劑經(jīng)由碳質(zhì)吸附劑回收用傳送裝置25等被供給到再生塔15。由此，在本裝置中，總是循環(huán)實(shí)質(zhì)上等量的碳質(zhì)吸附劑。[0047]另外，在再生塔15中的碳質(zhì)吸附劑的積累量成為第2規(guī)定值以上的情況下，使用完的碳質(zhì)吸附劑通過旁路滑槽31被供給到篩選機(jī)17 (如果是數(shù)次的程度，使用完的碳質(zhì)吸附劑，即使不經(jīng)過再生處理也能夠再利用)。另外，在這種情況下，碳質(zhì)吸附劑回收用傳送裝置25也可以停止向再生塔15及旁路滑槽31供給碳質(zhì)吸附劑。[0048]另外，利用吸附塔位面計(jì)53測(cè)定吸附塔13中的碳質(zhì)吸附劑的積累量。碳質(zhì)吸附劑供給用傳送裝置23在吸附塔13中的碳質(zhì)吸附劑的積累量為第3規(guī)定值以下的情況下，繼續(xù)向吸附塔13供給碳質(zhì)吸附劑。另一方面，碳質(zhì)吸附劑供給用傳送裝置23在吸附塔13中的碳質(zhì)吸附劑的積累量成為第4規(guī)定值以上的情況下，停止向吸附塔13供給碳質(zhì)吸附劑。[0049]進(jìn)而，利用貯槽部位面計(jì)51測(cè)定碳質(zhì)吸附劑貯槽部11中的碳質(zhì)吸附劑的積累量。 在碳質(zhì)吸附劑貯槽部11中的碳質(zhì)吸附劑的積累量成為第5規(guī)定值以下的情況下，從外部向碳質(zhì)吸附劑貯槽部11供給碳質(zhì)吸附劑。另一方面，在碳質(zhì)吸附劑貯槽部11中的碳質(zhì)吸附劑的積累量成為第6規(guī)定值以上的情況下，停止向碳質(zhì)吸附劑貯槽部11供給碳質(zhì)吸附劑。[0050]接著，對(duì)本裝置的碳質(zhì)吸附劑位面測(cè)量器(位面計(jì))進(jìn)行說明。此外，位面計(jì)51、53 及55具有相同的構(gòu)成。因此，在以下所示的位面計(jì)的構(gòu)成說明中，作為這些的代表而對(duì)再生塔位面計(jì)55進(jìn)行說明。[0051]再生塔位面計(jì)55是電容式位面計(jì)。圖2是表示再生塔15中的再生塔位面計(jì)55 的設(shè)置狀態(tài)的說明圖。再生塔位面計(jì)55通過后述的凸緣部被安裝在再生塔15的上端部。 再生塔位面計(jì)55的下端部插入到比表示碳質(zhì)吸附劑的斜坡(斜面)的表面線L靠下的碳質(zhì)吸附劑間(碳質(zhì)吸附劑顆粒間)。[0052]另外，如圖2所示，從再生塔15的上部的中央部附近向再生塔15供給碳質(zhì)吸附劑。從而，碳質(zhì)吸附劑積累成具有向再生塔15的內(nèi)壁方向?qū)⑿逼聰U(kuò)展那樣的山形狀。該山形狀的斜坡(斜面)L的角度是接近休止角的角度。在碳質(zhì)吸附劑具有這種山形狀的情況下，再生塔位面計(jì)55能夠更準(zhǔn)確地測(cè)定再生塔15中的碳質(zhì)吸附劑的位面。[0053]圖3是表示再生塔位面計(jì)55的構(gòu)成的側(cè)視圖。另外，圖4是表示保護(hù)罩65的構(gòu)成的截面圖。如這些圖所示，再生塔位面計(jì)55具備傳感器部61、凸緣部63、保護(hù)罩65、框架 (框架部)67、支撐橫梁(框架部)69、及支撐環(huán)(框架部)71。[0054]傳感器部61是再生塔位面計(jì)55的主體(電容式位面計(jì))。如圖5所示，傳感器部 61計(jì)算出碳質(zhì)吸附劑的介電常數(shù)(ε 1)和空氣(再生塔15內(nèi)的氣氛)的介電常數(shù)(εΟ)之間的差(ε 1-εΟ)。而且，再生塔位面計(jì)55基于計(jì)算結(jié)果測(cè)定碳質(zhì)吸附劑的積累量。因此， 傳感器部61具有插入到碳質(zhì)吸附劑的顆粒間的下端部和從碳質(zhì)吸附劑伸出的上端部。該傳感器部61的長(zhǎng)度例如大約為3米。[0055]傳感器部61具有鐵或不銹鋼等金屬等的管材、和用于對(duì)該管材進(jìn)行覆蓋的管狀的絕緣體(表面保護(hù)管)?？紤]再生塔15內(nèi)的氣氛溫度、及在再生塔15內(nèi)存在S O 2或11 CI等腐蝕性氣體來選擇絕緣體的材料。該材料例如包括四氟乙烯或三氟乙烯等氟樹脂。凸緣部63是用于將再生塔位面計(jì)55體安裝于再生塔15的上端部的部件。保護(hù)罩65及框架67固定于該凸緣部63。傳感器部61被安裝為能夠相對(duì)于凸緣部63滑動(dòng)。因此，在再生塔位面計(jì)55被安裝于再生塔15的狀態(tài)下，能夠從凸緣部63的上部抽出傳感器部61。由此，能夠定期地更換傳感器部61的絕緣體?？蚣?7是用于保持傳感器部61的姿態(tài)的部件。即，框架67借助于支撐橫梁69及支撐環(huán)71可滑動(dòng)地保持傳感器部61。保護(hù)罩65是用于抑制碳質(zhì)吸附劑與傳感器部61碰撞的部件。如圖4所示，保護(hù)罩65具有一側(cè)敞開的U字形狀或2字形狀。保護(hù)罩65以覆蓋傳感器部61的距再生塔15的中央部近的一側(cè)，且使傳感器部61的面向再生塔15的內(nèi)壁的部分(距再生塔15的中央部遠(yuǎn)的一側(cè))敞開的方式，沿著傳感器部61延伸。保護(hù)罩65的材料例如是耐腐蝕性、耐磨損性高的物質(zhì)(例如不銹鋼、耐腐蝕磨損銅)。另外，如圖4所示，在再生塔15的內(nèi)壁W和保護(hù)罩65的端部之間形成有間隙。該間隙例如是碳質(zhì)吸附劑的顆粒直徑(例如大約9 mm)的10倍左右。以下對(duì)再生塔位面計(jì)55的作用進(jìn)行說明。如使用圖2所表示的那樣，從再生塔15的上部中央供給的碳質(zhì)吸附劑積累成山形狀且該山形狀具有接近休止角的角度的斜面。若在該狀態(tài)下進(jìn)一步供給碳質(zhì)吸附劑，則碳質(zhì)吸附劑從山的中央落下后向再生塔15的內(nèi)壁(再生塔15的端部)滾動(dòng)。因此，一部分的碳質(zhì)吸附劑與再生塔位面計(jì)55碰撞。這時(shí)，在再生塔位面計(jì)55中，以覆蓋傳感器部61的距再生塔15的中央部近的一側(cè)的方式設(shè)置有保護(hù)罩65。因此，滾動(dòng)而來的碳質(zhì)吸附劑撞到保護(hù)罩65。因此，再生塔位面計(jì)55能夠抑制碳質(zhì)吸附劑直接與傳感器部61碰撞的情況。由此，能夠抑制由于碳質(zhì)吸附劑而使傳感器部61的絕緣部損傷的情況。從而，傳感器部61能夠在較長(zhǎng)的期間準(zhǔn)確地持續(xù)測(cè)定再生塔15中的碳質(zhì)吸附劑的位面。另外，能夠使傳感器部61的絕緣體的更換間隔加長(zhǎng)。另外，如圖4所示，在再生塔15的內(nèi)壁W和保護(hù)罩65的端部之間形成有間隙。因此，再生塔15內(nèi)的碳質(zhì)吸附劑如箭頭B所示那樣，繞過保護(hù)罩65而進(jìn)入到保護(hù)罩65的內(nèi)部。因此，再生塔15內(nèi)的碳質(zhì)吸附劑如圖2所示那樣，能夠不受再生塔位面計(jì)55的影響而形成為山形狀，且山形狀具有接近休止角的角度的斜面。此外，如上所述，所積累的碳質(zhì)吸附劑形成的山形狀的斜面的角度接近休止角。關(guān)于此，休止角是碳質(zhì)吸附劑保持于靜止?fàn)顟B(tài)時(shí)的斜面的最大角度。從而，在新供給的碳質(zhì)吸附劑與已經(jīng)積累的碳質(zhì)吸附劑的山形狀碰撞時(shí)，由于沖擊有時(shí)導(dǎo)致該斜面的角度會(huì)偏離休止角。這種情況會(huì)不定期地發(fā)生。關(guān)于此，對(duì)于再生塔位面計(jì)55，即使在碳質(zhì)吸附劑的山形狀暫時(shí)崩潰的情況下，碳質(zhì)吸附劑也是繞過保護(hù)罩65而到達(dá)并積累在傳感器部61的周圍。因此，能夠使所測(cè)定的位面值穩(wěn)定。這樣，再生塔位面計(jì)55能夠在較長(zhǎng)的期間穩(wěn)定地準(zhǔn)確地測(cè)量再生塔位面計(jì)55中的碳質(zhì)吸附劑的積累量。由此，能夠抑制再生塔位面計(jì)55的測(cè)定錯(cuò)誤。其結(jié)果，能夠抑制再生塔15中的碳質(zhì)吸附劑的積累量變得過少的情況、以及向再生塔15供給過多的碳質(zhì)吸 附劑的情況。[0068]此外，在本實(shí)施方式中，再生塔15的內(nèi)壁W和保護(hù)罩65的端部之間的間隙是碳質(zhì) 吸附劑的顆粒直徑(例如大約9 mm)的10倍左右。但是，不限于此，該間隙是顆粒直徑的 5倍以上即可。如果該間隙是顆粒直徑的5倍以上，則碳質(zhì)吸附劑能夠繞過保護(hù)罩65進(jìn)入 到保護(hù)罩65的內(nèi)部。[0069]另外，若該間隙過大，則所積累的碳質(zhì)吸附劑的山的形狀有可能歪斜。因此，有可 能難于準(zhǔn)確地測(cè)定位面。因此，優(yōu)選該間隙是碳質(zhì)吸附劑的顆粒直徑的35倍以下。[0070]另外，在本實(shí)施方式中，再生塔位面計(jì)55具有用于保持傳感器部61的框架67、支 撐橫梁69及支撐環(huán)71。但是，不限于此，傳感器部61也可以只由凸緣部63保持。在這種 情況下，不需要框架67、支撐橫梁69及支撐環(huán)71。[0071]另外，在本實(shí)施方式中，設(shè)為再生塔位面計(jì)55為電容式位面計(jì)。但是，再生塔位面 計(jì)55是哪種方式的位面計(jì)都可以。再生塔位面計(jì)55例如也可以是包含多個(gè)電極棒的電極 式位面計(jì)。[0072]另外，在本實(shí)施方式中，作為向本裝置導(dǎo)入廢氣的使用化石燃料的設(shè)備例舉了燒 結(jié)機(jī)。但是，不限于此，該設(shè)備也可以是鍋爐。[0073]另外，本實(shí)施方式所示的碳質(zhì)吸附劑(顆粒)例如含有活性碳、活性褐煤、活性木炭 或活性焦炭。[0074]另外，在本實(shí)施方式中，具有圖3及圖4所示的構(gòu)造的位面計(jì)作為貯槽部位面計(jì) 51、吸附塔位面計(jì)53及再生塔位面計(jì)55安裝于干式脫硫脫硝裝置。但是，具有圖3及圖4 所示的構(gòu)造的位面計(jì)能夠?qū)Ψe累顆粒的任意容器(例如對(duì)從上部供給的顆粒進(jìn)行積累的容 器)中的顆粒的積累量進(jìn)行測(cè)量。從而，該位面計(jì)能夠應(yīng)用于具有這種容器的所有的裝置。 另外，該位面計(jì)也可以應(yīng)用于使用輥式給料機(jī)控制顆粒的移送速度的所有的設(shè)備。[0075]另外，該位面計(jì)所適用的容器也可以不是從上部的中央部付近供給顆粒的容器。 這種情況下，也可以將保護(hù)罩設(shè)置成以覆蓋傳感器部的距容器中的顆粒的供給部近的一側(cè) 的方式沿該傳感器部延伸。[0076]另外，本實(shí)用新型的位面計(jì)也可以是用于測(cè)定使用碳質(zhì)吸附劑的移動(dòng)層式脫硫脫 硝裝置中的吸附塔和/或再生塔的碳質(zhì)吸附劑位面的電容式位面計(jì)，且構(gòu)成為具有傳感器 部和沿傳感器部延伸的保護(hù)罩，以使被供給的碳質(zhì)吸附劑不直接與傳感器部碰撞。
權(quán)利要求1.一種位面計(jì)，用于測(cè)量對(duì)所供給的顆粒進(jìn)行積累的容器中的顆粒的積累量，其特征在于，具有傳感器部，具有插入到積累的所述顆粒間的下端部和從所述顆粒間伸出的上端部，該傳感器部測(cè)量所述容器中的顆粒的積累量；和保護(hù)罩，以將該傳感器部的距容器中的顆粒的供給部近的一側(cè)覆蓋，而將該傳感器部的距容器中的顆粒的供給部遠(yuǎn)的一側(cè)敞開的方式，沿著該傳感器部延伸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位面計(jì)，其特征在于，所述保護(hù)罩的距容器中的顆粒的供給部遠(yuǎn)的一側(cè)的端部和所述容器的內(nèi)壁之間的間隙是所述顆粒的直徑的5倍以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的位面計(jì)，其特征在于，所述間隙是所述顆粒的直徑的10倍以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的位面計(jì)，其特征在于，所述間隙是所述顆粒的直徑的35倍以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位面計(jì)，其特征在于，所述位面計(jì)還具有用于將所述傳感器部及保護(hù)罩安裝于容器的凸緣部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位面計(jì)，其特征在于，所述位面計(jì)還具有沿所述傳感器部延伸并保持所述傳感器部的框架部。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位面計(jì)，其特征在于，所述傳感器部根據(jù)容器內(nèi)的顆粒的靜電電容和容器內(nèi)的氣氛的靜電電容之間的差測(cè)定容器中的顆粒的積累量。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位面計(jì)，其特征在于，所述容器是對(duì)從上部供給的顆粒進(jìn)行積累的容器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位面計(jì)，其特征在于，所述顆粒是碳質(zhì)吸附劑，所述容器是使用碳質(zhì)吸附劑的移動(dòng)層式脫硫脫硝裝置中的吸附塔和/或再生塔。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種位面計(jì)，其用于測(cè)量對(duì)所供給的顆粒進(jìn)行積累的容器中的顆粒的積累量，其特征在于，具有傳感器部，具有插入到積累的所述顆粒間的下端部和從所述顆粒間伸出的上端部，該傳感器部測(cè)量所述容器中的顆粒的積累量；和保護(hù)罩，以將該傳感器部的距容器中的顆粒的供給部近的一側(cè)覆蓋，而將該傳感器部的距容器中的顆粒的供給部遠(yuǎn)的一側(cè)敞開的方式，沿著該傳感器部延伸。
文檔編號(hào)G01F23/26GK202869599SQ20122056132
公開日2013年4月10日 申請(qǐng)日期2012年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月29日
發(fā)明者池上真一, 后藤浩平 申請(qǐng)人:住友重機(jī)械工業(yè)株式會(huì)社