專利名稱：Oca光學(xué)膠對(duì)ito膜腐蝕性的測(cè)試方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，屬于觸控面板技術(shù)研究領(lǐng)域，尤指OCA光學(xué)膠對(duì)覆金屬膜材料中的ITO腐蝕性的測(cè)試方法探究。
背景技術(shù)：
目前觸摸屏行業(yè)使用的原材料發(fā)展到ITO導(dǎo)電膜上再濺鍍金屬材料，即覆金屬ITO膜，經(jīng)各種工藝制作成帶金屬引線的ITO Sensor，再用OCA光學(xué)膠將各層粘接，形成TPSensor0所用的OCA光學(xué)膠不僅要求具有高透明度、耐濕熱性，而且不能腐蝕ITO層，所以是否對(duì)ITO層形成腐蝕需要測(cè)試。本發(fā)明是將金屬層選擇性蝕刻掉后，露出下層ΙΤ0，同時(shí)留下邊框的金屬，再在ITO上貼合OCA光學(xué)膠,通過(guò)測(cè)試金屬邊之間的電阻隨環(huán)境的變化,從而確定OCA隨環(huán)境變化對(duì)ITO的腐蝕。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)目的:本發(fā)明是要提供OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，以此判定OCA光學(xué)膠質(zhì)量是否合格，解決OCA原料的測(cè)試。技術(shù)方案:本發(fā)明公開(kāi)OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，包括如下步驟: 步驟一:取大小適中的長(zhǎng)方形覆金屬ITO膜材料，用兩條膠帶平行粘貼到金屬膜兩個(gè)
長(zhǎng)邊；
步驟二:選擇合適的金屬選擇性蝕刻液，將樣片投入金屬選擇性蝕刻液中，將未用膠帶保護(hù)的金屬層選擇性蝕刻掉，留下ITO層；
步驟三:剝離膠帶，露出兩邊覆金屬ITO膜；
步驟四:將欲測(cè)試的OCA裁成條狀，平行于金屬條且居中粘貼到ITO層上，兩邊要露出金屬層，便于測(cè)試；
步驟五:用萬(wàn)用表測(cè)試兩金屬條間的電阻；
步驟六:將樣片進(jìn)行不同環(huán)境放置后再測(cè)試兩金屬條間電阻；
步驟七:計(jì)算不同環(huán)境放置前后的電阻比。有益效果:本發(fā)明公開(kāi)了 OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，通過(guò)該方法可判斷OCA膠對(duì)ITO層的腐蝕性，從而判斷該OCA膠是否可用于電容式觸摸屏生產(chǎn)。


圖1:兩邊貼膠帶的覆金屬ITO膜示意 圖2:兩邊貼膠帶中間ITO層示意 圖3:兩邊覆金屬中間ITO層不意 圖4:兩邊覆金屬中間貼合OCA光學(xué)膠不意 圖5:電阻測(cè)試過(guò)程示意圖； 簡(jiǎn)單符號(hào)說(shuō)明
1、膠帶；2、覆金屬層；3、ITO層；4、OCA光學(xué)膠；5、測(cè)試電阻萬(wàn)用表。
具體實(shí)施例方式下面是本發(fā)明的具體實(shí)施例來(lái)進(jìn)一步描述:
本發(fā)明公開(kāi)OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，包括如下步驟:
步驟一:取大小適中的長(zhǎng)方形覆金屬ITO膜材料，用兩條膠帶平行粘貼到金屬膜兩個(gè)長(zhǎng)邊，如圖1 ;
步驟二:選擇合適的金屬選擇性蝕刻液，將樣片投入選擇性金屬蝕刻液中，將未用膠帶保護(hù)的金屬層選擇性蝕刻掉，不蝕刻ITO層，如圖2 ；
步驟三:剝離膠帶，露出兩邊覆金屬ITO膜，如圖3 ；
步驟四:將欲測(cè)試的OCA裁成條狀，平行于金屬條且居中粘貼到ITO層上，兩邊要露出金屬層，便于測(cè)試，如圖4;
步驟五:用萬(wàn)用表測(cè)試兩金屬條間的電阻，如圖5 ；
步驟六:將樣片進(jìn)行不同環(huán)境放置后再測(cè)試兩金屬條間電阻；
步驟七:計(jì)算不同環(huán)境放置前后的電阻比。實(shí)施例:
步驟一:取某型號(hào)的10*8cm的長(zhǎng)方形覆金屬ITO膜材料，用兩條2.5cm寬的膠帶平行粘貼到材料的兩長(zhǎng)邊，如圖1 ;
步驟二:選擇合適的金屬選擇性蝕刻液，將樣片投入選擇性金屬蝕刻液中，將金屬層蝕刻掉，不蝕刻ITO層，如圖2 ;
步驟三:剝離膠帶，露出兩邊覆金屬ITO膜，如圖3 ；
步驟四:將欲測(cè)試的OCA光學(xué)膠裁成條狀，平行于金屬條且居中粘貼到ITO層上，兩邊要露出金屬層，便于測(cè)試，如圖4 ；
步驟五:用萬(wàn)用表測(cè)試兩金屬條間的電阻為0.54ΚΩ ,如圖5 ;
步驟六:將樣片放置到60°C、90%RH環(huán)境下120小時(shí)后，再測(cè)試兩金屬條間電阻為0.56ΚΩ ；
步驟七:計(jì)算在60°C、90%RH環(huán)境下120小時(shí)前后的電阻比0.56/0.54=1.04。前后電阻變化較小，說(shuō)明此OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性較小，滿足要求。
權(quán)利要求
1.OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，其特征包括如下步驟: 步驟一:取大小適中的長(zhǎng)方形覆金屬ITO膜材料，用兩條膠帶平行粘貼到金屬膜兩個(gè)長(zhǎng)邊； 步驟二:選擇合適的金屬選擇性蝕刻液，將樣片投入金屬選擇性蝕刻液中，將未用膠帶保護(hù)的金屬層選擇性蝕刻掉，留下ITO層； 步驟三:剝離膠帶，露出兩邊覆金屬ITO膜； 步驟四:將欲測(cè)試的OCA裁成條狀，平行于金屬條且居中粘貼到ITO層上，兩邊要露出金屬層，便于測(cè)試； 步驟五:用萬(wàn)用表測(cè)試兩金屬條間的電阻； 步驟六:將樣片進(jìn)行不同環(huán)境放置后再測(cè)試兩金屬條間電阻； 步驟七:計(jì)算不同環(huán)境放置前后的電阻比。
2.按權(quán)利要求1所述的OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，其特征在于: 步驟一中用膠帶保護(hù)好部分金屬層，防止蝕刻。
3.按權(quán)利要求1所述的OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，其特征在于: 步驟二中選擇合適的金屬選擇性蝕刻液將金屬層選擇性蝕刻掉，不蝕刻底部ITO層。
4.按權(quán)利要求1所述的OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，其特征在于:步驟四中將OCA平行于金屬條居中粘貼到ITO膜上，兩邊露出金屬層。
5.按權(quán)利要求1所述的OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，其特征在于:步驟五中用萬(wàn)用表測(cè)試兩金屬條間的電阻代替測(cè)試ITO的電阻，因?yàn)闇y(cè)量金屬層較測(cè)量ITO更容易，ITO本身既透明又容易脆裂，不好測(cè)試。
6.按權(quán)利要求1所述的OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，其特征在于: 步驟七中計(jì)算不同環(huán)境放置前后的電阻比，以此來(lái)判斷OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜是否腐蝕。
全文摘要
本發(fā)明涉及OCA光學(xué)膠對(duì)ITO膜的腐蝕性測(cè)試方法，屬于觸控面板技術(shù)研究領(lǐng)域，尤指OCA光學(xué)膠對(duì)覆金屬膜材料中的ITO腐蝕性的測(cè)試方法探究。本發(fā)明是將金屬層選擇性蝕刻掉后，不腐蝕下層的ITO，同時(shí)留下兩邊框的金屬層，再在ITO上貼合OCA光學(xué)膠，通過(guò)測(cè)試兩金屬之間的電阻隨環(huán)境的變化，從而確定隨環(huán)境變化OCA光學(xué)膠對(duì)覆金屬ITO膜材料中的ITO的腐蝕。
文檔編號(hào)G01N27/04GK103091373SQ201310015210
公開(kāi)日2013年5月8日 申請(qǐng)日期2013年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月16日
發(fā)明者張新玲, 張濱, 唐毅晟, 王連榮, 史小鋒 申請(qǐng)人:煙臺(tái)正?？萍加邢薰?br>