光學(xué)裝置及其運(yùn)作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種光學(xué)裝置及其運(yùn)作方法。光學(xué)裝置包含試片模塊、光學(xué)檢測模塊、輔助模塊及數(shù)據(jù)處理模塊。試片模塊承載包含有檢體的試片。光學(xué)檢測模塊對試片中的檢體進(jìn)行深層組織檢測分析。輔助模塊對試片模塊及光學(xué)檢測模塊的運(yùn)作提供輔助功能。數(shù)據(jù)處理模塊分析處理光學(xué)檢測模塊所傳送的信號以產(chǎn)生關(guān)于檢體的檢測結(jié)果，或根據(jù)輔助模塊所傳送的信息產(chǎn)生相對應(yīng)的調(diào)控指令至光學(xué)檢測模塊或輔助模塊。
【專利說明】光學(xué)裝置及其運(yùn)作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是與光學(xué)裝置有關(guān)，特別是關(guān)于一種通過光學(xué)干涉技術(shù)對檢體試片進(jìn)行非破壞性、非接觸式測量的光學(xué)裝置及其運(yùn)作方法，可省去傳統(tǒng)上將檢體試片切成薄片及染色等繁雜且費(fèi)時(shí)的程序，并能夠在操作過程中提供可調(diào)控的功能。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)上，觀察組織切片的流程通常包含下列步驟:⑴檢體取樣；⑵固化；(3)觀察試片。在觀察組織切片的過程中，由于大多數(shù)組織結(jié)構(gòu)皆為透光材質(zhì)，故通常還需要配合染色及顯影等程序，方能得到較佳的觀察效果，以利后續(xù)分析程序的進(jìn)行。
[0003]此外，由于受到光學(xué)景深(聚焦位置)的限制，上述的組織切片大多為薄型設(shè)計(jì)。首先，將檢體固化后切割成薄片，每個(gè)薄片的厚度大約為10 左右，再加上承載玻片的厚度是以不超過0.1mm為限。接著，再將每個(gè)單獨(dú)的承載玻片分別置于檢測儀器上進(jìn)行檢測后，再將所有檢測結(jié)果進(jìn)行疊合重組，以重現(xiàn)原本整個(gè)檢體的檢測結(jié)果。
[0004]雖然目前已有許多廠商針對上述技術(shù)推出全自動(dòng)或半自動(dòng)的檢測平臺(tái)，以縮短整個(gè)檢測流程，然而，實(shí)際上檢測試片的制作過程相當(dāng)繁復(fù)且耗費(fèi)成本。此外，不同的檢體切片過程所得到的疊合重組結(jié)果可能會(huì)與原本整個(gè)檢體的檢測結(jié)果有所差異。舉例而言，檢體切片的位置是否剛好破壞到檢體中的病變組織就可能得到截然不同的疊合重組結(jié)果，嚴(yán)重影響到其檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性。
[0005]因此，本發(fā)明提出一種光學(xué)裝置及其運(yùn)作方法，以解決上述問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例為一種光學(xué)裝置。于此實(shí)施例中，光學(xué)裝置包含試片模塊、光學(xué)檢測模塊、輔助模塊及數(shù)據(jù)處理模塊。試片模塊是用以承載一試片，該試片包含有一檢體。光學(xué)檢測模塊是用以對該試片中的該檢體進(jìn)行一深層組織檢測分析。輔助模塊是用以對該試片模塊及該光學(xué)檢測模塊的運(yùn)作提供一輔助功能。數(shù)據(jù)處理模塊是耦接光學(xué)檢測模塊及輔助模塊，用以分析處理光學(xué)檢測模塊所傳送的一信號以產(chǎn)生關(guān)于該檢體的一檢測結(jié)果，或根據(jù)輔助模塊所傳送的一信息產(chǎn)生相對應(yīng)的一調(diào)控指令至光學(xué)檢測模塊或輔助模塊。
[0007]于實(shí)際應(yīng)用中，輔助模塊為獨(dú)立設(shè)計(jì)或依附于試片模塊。輔助模塊所提供的輔助功能為試片識(shí)別輔助功能、試片對準(zhǔn)輔助功能、檢測條件調(diào)控輔助功能或檢體儲(chǔ)存狀態(tài)監(jiān)控輔助功能。試片模塊設(shè)計(jì)為有蓋形式或開放形式，且通過物理固化或機(jī)械固定方式限制檢體的移動(dòng)。
[0008]輔助模塊可具有一符號、一顏色、一圖樣、一文字、一數(shù)字、一條碼、一立體識(shí)別區(qū)或一立體對準(zhǔn)區(qū)的設(shè)計(jì)，以提供試片識(shí)別輔助功能及試片對準(zhǔn)輔助功能。輔助模塊可具有單層或多層透光夾層的設(shè)計(jì)，導(dǎo)入具有不同穿透、吸收及反射特性的流體，以提供變換入射該檢體的入射光的波長或能量。輔助模塊可具有聚光及散光特性的設(shè)計(jì)，以提供焦距調(diào)整功能。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的第二具體實(shí)施例為一種光學(xué)裝置運(yùn)作方法。于此實(shí)施例中，光學(xué)裝置包含試片模塊、光學(xué)檢測模塊、輔助模塊及數(shù)據(jù)處理模塊。該方法包含下列步驟:(a)試片模塊承載包含有一檢體的一試片；(b)光學(xué)檢測模塊對試片中的檢體進(jìn)行一深層組織檢測分析；(C)輔助模塊對試片模塊及光學(xué)檢測模塊的運(yùn)作提供一輔助功能；(d)數(shù)據(jù)處理模塊分析處理光學(xué)檢測模塊所傳送的一信號以產(chǎn)生關(guān)于該檢體的一檢測結(jié)果，或根據(jù)輔助模塊所傳送的一信息產(chǎn)生相對應(yīng)的一調(diào)控指令至光學(xué)檢測模塊或輔助模塊。
[0010]相較于現(xiàn)有技術(shù)，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)裝置及其運(yùn)作方法是通過光學(xué)干涉技術(shù)對檢體試片進(jìn)行非破壞性且非接觸式的測量，故可直接對厚度較大的檢體試片進(jìn)行光學(xué)檢測，不僅可省去傳統(tǒng)上將檢體試片切成薄片及染色等繁雜且費(fèi)時(shí)的程序，亦能夠有效避免傳統(tǒng)上將所有薄片檢體試片的檢測結(jié)果進(jìn)行疊合重組時(shí)所可能產(chǎn)生的誤差，由此提升光學(xué)裝置進(jìn)行檢測時(shí)的準(zhǔn)確性及可靠度。此外，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)裝置及其運(yùn)作方法所使用的檢體試片亦可搭配輔助單元的特殊設(shè)計(jì)在操作過程中提供可調(diào)控的功能，故能讓使用者操作上更為方便。
[0011]關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)與精神可以通過以下的發(fā)明詳述及附圖得到進(jìn)一步的了解。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1A為根據(jù)本發(fā)明的一較佳具體實(shí)施例中的光學(xué)裝置的功能方塊圖。
[0013]圖1B為圖1A中的輔助模塊采用依附于試片模塊的設(shè)計(jì)。
[0014]圖2為光學(xué)檢測模塊利用光學(xué)干涉技術(shù)進(jìn)行檢測的示意圖。
[0015]圖3A為采用物理固化方式進(jìn)行檢體固定的示意圖。
[0016]圖3B為采用機(jī)械固定方式進(jìn)行檢體固定的示意圖。
[0017]圖4A為采用直接加壓的設(shè)計(jì)將檢體壓平的示意圖。
[0018]圖4B為采用施加氣壓的設(shè)計(jì)將檢體壓平的示意圖。
[0019]圖5A至圖為輔助模塊提供身份識(shí)別與位置對準(zhǔn)功能的示意圖。
[0020]圖6為直接于試片制作過程中形成立體識(shí)別、對準(zhǔn)區(qū)的示意圖。
[0021]圖7A及圖7B為立體識(shí)別對準(zhǔn)區(qū)搭配外部感測元件進(jìn)行數(shù)字化比對分析的示意圖。
[0022]圖8A及圖SB為輔助模塊采用透光夾層的設(shè)計(jì)提供波長能量變換功能的示意圖。
[0023]圖9A及圖9B為不同型式的變換波長能量設(shè)計(jì)的示意圖。
[0024]圖1OA及圖1OB為輔助模塊采用光學(xué)聚光特性及光學(xué)散光特性設(shè)計(jì)的示意圖。
[0025]圖1lA及圖1lB為將輔助模塊與光學(xué)檢測模塊組合形成連動(dòng)機(jī)制的示意圖。
[0026]圖12為根據(jù)本發(fā)明的另一較佳具體實(shí)施例的光學(xué)裝置運(yùn)作方法的流程圖。
[0027]主要元件符號說明:
[0028]SlO~S18B:流程步驟
[0029]1:光學(xué)裝置10:試片模塊
[0030]12:光學(xué)檢測模塊14:輔助模塊
[0031]16:數(shù)據(jù)處理模塊100:試片
[0032]SA:檢體120:分光/耦合單元[0033]G:膠水(或蠟油)UD:上下結(jié)構(gòu)
[0034]RL:側(cè)邊結(jié)構(gòu)PU:氣壓
[0035]H:立體識(shí)別對準(zhǔn)區(qū)K:外部感測元件
[0036]TL:透光夾層J:相對應(yīng)的對準(zhǔn)區(qū)
【具體實(shí)施方式】
[0037]根據(jù)本發(fā)明的一較佳具體實(shí)施例為一種光學(xué)裝置。請參照圖1A，圖1A為本實(shí)施例的光學(xué)裝置的功能方塊圖。如圖1A所示，光學(xué)裝置I包含試片模塊10、光學(xué)檢測模塊12、輔助模塊14及數(shù)據(jù)處理模塊16。其中，試片模塊10是承載包含有檢體SA的試片100 ;數(shù)據(jù)處理模塊16分別耦接至光學(xué)檢測模塊12及輔助模塊14。需說明的是，輔助模塊14除了可以如同圖1A采用獨(dú)立設(shè)計(jì)而與試片模塊10分離之外，輔助模塊14亦可如同圖1B采用依附于試片模塊10的設(shè)計(jì)，并無特定的限制。
[0038]接下來，將分別針對光學(xué)裝置I所包含的各模塊及其具有的功能進(jìn)行詳細(xì)的介紹。
[0039]于此實(shí)施例中，光學(xué)檢測模塊12是用以對試片模塊10所承載的試片100上的檢體SA進(jìn)行深層組織檢測分析。更詳細(xì)地說，光學(xué)檢測模塊12是利用光學(xué)干涉技術(shù)對試片100上的檢體SA進(jìn)行深層組織檢測分析。請參照圖2，圖2為光學(xué)檢測模塊12利用光學(xué)干涉技術(shù)進(jìn)行檢測的示意圖。如圖2所示，光學(xué)檢測模塊12是通過其分光/耦合單元120實(shí)現(xiàn)光學(xué)干涉技術(shù)以輸出經(jīng)光學(xué)干涉后的光信號SMt。其中，Lin為光源，Lr為參考光，Ld為檢測光。需說明的是，光學(xué)干涉技術(shù)可以是時(shí)域(time domain)設(shè)計(jì)或頻域(frequencydomain)設(shè)計(jì)，并無特定的限制。
[0040]至于此實(shí)施例中的試片模塊10除了承載包含有檢體SA的試片100，以便光學(xué)檢測模塊12對試片100上的檢體SA進(jìn)行光學(xué)檢測的功能外，試片模塊10還可如圖1B所示采用與輔助模塊14結(jié)合的設(shè)計(jì)，于操作或儲(chǔ)存狀態(tài)下提供特殊的輔助功能。舉例而言，上述輔助功能可以是試片識(shí)別輔助功能、試片對準(zhǔn)輔助功能、檢測條件調(diào)控輔助功能或檢體儲(chǔ)存狀態(tài)監(jiān)控輔助功能等，但不以此為限。
[0041]于此實(shí)施例中，由于光學(xué)檢測模塊12可直接對試片模塊10所承載的試片100上的檢體SA進(jìn)行深度組織檢測(大約2-3mm深)，可省略傳統(tǒng)試片制作過程中的固化、切片、染色顯影等步驟，故能大幅減少試片制作時(shí)間與成本上的浪費(fèi)。此外，試片模塊10的外觀可采用有蓋形式或開放形式的設(shè)計(jì)。若試片模塊10是采用有蓋形式的設(shè)計(jì)，只需上蓋為透光材質(zhì)即可(壓克力、玻璃、塑膠片…)。
[0042]然而，在實(shí)際應(yīng)用中，考慮到試片模塊10所承載的試片100上的檢體SA可能會(huì)受到外在因素產(chǎn)生晃動(dòng)，或是需要旋轉(zhuǎn)試片100以對檢體SA進(jìn)行不同角度的檢測，因此，本發(fā)明亦可采用物理固化、機(jī)械固定等方式將檢體SA固定住，使其不會(huì)產(chǎn)生晃動(dòng)。
[0043]舉例而言，如圖3A所示，若采用物理固化方式，可選擇通過膠水(或蠟油)G進(jìn)行檢體SA的固定。此外，如圖3B所示，若采用機(jī)械固定方式，可將試片模塊10的上下結(jié)構(gòu)UD及側(cè)邊結(jié)構(gòu)RL均設(shè)計(jì)為可調(diào)尺寸的型式，用以限制住檢體SA的移動(dòng)。又，前述的物理固化及機(jī)械固定兩種方式更可混合實(shí)施，以獲得更佳的固定效果，并無特定的限制。
[0044]此外，若采用機(jī)械固定方式進(jìn)行檢體SA的固定，還可包含有一種加壓設(shè)計(jì)，例如通過上下結(jié)構(gòu)UD直接加壓的設(shè)計(jì)(如圖4A所示)或是通過施加氣壓的設(shè)計(jì)(如圖4B所示，可另配合通氣孔與外部加壓閥)，以將檢體SA壓平后，利于后續(xù)的觀察檢測。
[0045]接下來，將就試片模塊10與輔助模塊14結(jié)合的設(shè)計(jì)作說明。由于在實(shí)際檢測過程中，可能需要進(jìn)行例如試片身份識(shí)別、試片位置對準(zhǔn)、檢測區(qū)域選定、波長變換、焦距調(diào)整等程序，因此，若采用試片模塊10與輔助模塊14結(jié)合的設(shè)計(jì)，可于操作或儲(chǔ)存狀態(tài)下提供特殊的輔助功能。除了可用于檢體操作過程的輔助，若經(jīng)特殊設(shè)計(jì)還可提供檢體儲(chǔ)存條件調(diào)控、儲(chǔ)存狀態(tài)監(jiān)控的效果。以下將就各功能進(jìn)行說明。
[0046]如圖5A至圖所示，輔助模塊14是用以提供身份識(shí)別與位置對準(zhǔn)的功能。實(shí)際上，輔助模塊14可具有符號、顏色、圖樣、文字、數(shù)字、條碼、立體識(shí)別區(qū)或立體對準(zhǔn)區(qū)等不同的設(shè)計(jì)，以提供試片識(shí)別輔助功能及試片對準(zhǔn)輔助功能。
[0047]舉例而言,輔助模塊14可設(shè)計(jì)為簡單符號(正、負(fù)號)、顏色(紅色成人、綠色小孩)、圖案(動(dòng)物圖案、植物圖案)、阿拉伯?dāng)?shù)字、文字(M男性、F女性)、幾何圖形(三角或圓形等)，作為試片來源的身份識(shí)別。若輔助模塊14搭配上外加的條碼讀取機(jī)，還可直接以條碼標(biāo)示于試片上。此外，上述的身份識(shí)別手段還可與位置對準(zhǔn)功能相結(jié)合，但不以此為限。
[0048]此外，本發(fā)明的識(shí)別與對準(zhǔn)機(jī)制不限上述的平面標(biāo)示設(shè)計(jì)，還可直接于試片100的制作過程中形成立體識(shí)別對準(zhǔn)區(qū)H，以與相對應(yīng)的對準(zhǔn)區(qū)J對準(zhǔn)，如圖6所示。此外，上述立體識(shí)別對準(zhǔn)區(qū)H還可搭配外部感測元件K進(jìn)行數(shù)字化比對分析，如圖7A及圖7B所示。
[0049]如圖8A及圖SB所示，輔助模塊14是用以提供波長能量變換的功能。此時(shí)，輔助模塊14可采用透光夾層TL的設(shè)計(jì)(單層或多層)，通過導(dǎo)入不同穿透、吸收、反射特性的流體(氣、液體)后，即可達(dá)到變換實(shí)際入射至檢體SA的波長或能量的效果。此外，上述變換波長能量的設(shè)計(jì)亦可為陣列化、模塊化或堆迭化等不同設(shè)計(jì)，以形成更多樣化的使用彈性，如圖9A及圖9B所示。
[0050]如圖1OA及圖1OB所示，輔助模塊14是用以提供焦距調(diào)整的功能。此時(shí)，輔助模塊14可采用具有光學(xué)聚光特性(如圖1OA所示的凸出部14A)或光學(xué)散光特性(如圖1OB所示的凹陷部14B)的設(shè)計(jì)，或是將上述輔助模塊14設(shè)計(jì)為模塊化可更換的型式，以調(diào)整得到不同的光學(xué)效果。此外，如圖1lA及圖1lB所示，亦可進(jìn)一步將輔助模塊14與光學(xué)檢測模塊12組合形成連動(dòng)機(jī)制，以方便進(jìn)行檢體的檢測。
[0051]需說明的是，上述連動(dòng)機(jī)制還可提供電子信息的傳輸，如此情況下可利用透明電極所形成的微電極驅(qū)動(dòng)機(jī)制(或陣列)提供液體驅(qū)動(dòng)機(jī)制，例如電泳、電濕、電毛細(xì)等手段直接調(diào)控焦距變化效果與焦距作用區(qū)域，但不以此為限。
[0052]于實(shí)際應(yīng)用中，輔助模塊14亦可用以提供儲(chǔ)存狀態(tài)調(diào)控的功能。此時(shí)，輔助模塊14可與光學(xué)檢測模塊12或儲(chǔ)存設(shè)備(圖未示)耦合，以提供下列數(shù)種功能:
[0053](I)抽真空:此時(shí)，輔助模塊14可直接將上述圖4B所示的氣壓調(diào)控方式反向進(jìn)行操作，將試片100內(nèi)氣體抽出，避免空氣中微生物或水氣濕度等與檢體SA接觸，以提高檢體SA的保存期限。
[0054](2)溫度調(diào)控:此時(shí)，輔助模塊14可包含有溫度調(diào)控元件，例如熱電元件或加溫元件。當(dāng)試片100由儲(chǔ)存設(shè)備取出，輔助模塊14的溫度調(diào)控元件可協(xié)助縮短回溫過程以加速檢體SA解凍，并可避免觀察操作過程中產(chǎn)生霧化現(xiàn)象。若溫度調(diào)控元件為熱電元件，還可在儲(chǔ)存狀態(tài)下提供每一試片100獨(dú)立的局部降溫效果。
[0055](3)檢體狀態(tài)監(jiān)控:此時(shí)，輔助模塊14可包含有化學(xué)檢測元件，例如酸堿檢測元件。當(dāng)檢體SA儲(chǔ)存狀態(tài)不佳，不適合進(jìn)行后續(xù)檢測時(shí)，即可通過顏色指標(biāo)作變色指示，以指示使用者更換檢體SA的恰當(dāng)時(shí)機(jī)。
[0056]根據(jù)本發(fā)明的另一較佳具體實(shí)施例為一種光學(xué)裝置運(yùn)作方法。于此實(shí)施例中，光學(xué)裝置包含試片模塊、光學(xué)檢測模塊、輔助模塊及數(shù)據(jù)處理模塊。請參照圖12，圖12為此實(shí)施例的光學(xué)裝置運(yùn)作方法的流程圖。
[0057]如圖12所示，首先，于步驟SlO中，試片模塊承載包含有一檢體的一試片。接著，于步驟S12中，光學(xué)檢測模塊對試片中的檢體進(jìn)行一深層組織檢測分析。然后，于步驟S14中，輔助模塊對試片模塊及光學(xué)檢測模塊的運(yùn)作提供一輔助功能。之后，該方法將會(huì)執(zhí)行步驟S16，數(shù)據(jù)處理模塊判斷其接收到的是光學(xué)檢測模塊所傳送的信號或輔助模塊所傳送的信息。若步驟S16的判斷結(jié)果為數(shù)據(jù)處理模塊所接收到的是光學(xué)檢測模塊所傳送的信號，該方法將會(huì)執(zhí)行步驟S18A，數(shù)據(jù)處理模塊分析處理光學(xué)檢測模塊所傳送的信號以產(chǎn)生關(guān)于檢體的一檢測結(jié)果；若步驟S16的判斷結(jié)果為數(shù)據(jù)處理模塊所接收到的是輔助模塊所傳送的信息，該方法將會(huì)執(zhí)行步驟S18B，數(shù)據(jù)處理模塊根據(jù)輔助模塊所傳送的信息產(chǎn)生相對應(yīng)的一調(diào)控指令至光學(xué)檢測模塊或輔助模塊。
[0058]于實(shí)際應(yīng)用中，于步驟S14中，輔助模塊可以是獨(dú)立設(shè)計(jì)或依附于試片模塊，并且輔助模塊所提供的輔助功能可以是試片識(shí)別輔助功能、試片對準(zhǔn)輔助功能、檢測條件調(diào)控輔助功能或檢體儲(chǔ)存狀態(tài)監(jiān)控輔助功能，但不以此為限。于步驟S12中，光學(xué)檢測模塊是利用一光學(xué)干涉技術(shù)對檢體進(jìn)行深層組織檢測分析，并且光學(xué)干涉技術(shù)可以是時(shí)域(timedomain)設(shè)計(jì)或步頁域(frequency domain)設(shè)計(jì)。
[0059]相較于現(xiàn)有技術(shù)，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)裝置及其運(yùn)作方法是通過光學(xué)干涉技術(shù)對檢體試片進(jìn)行非破壞性且非接觸式的測量，故可直接對厚度較大的檢體試片進(jìn)行光學(xué)檢測，不僅可省去傳統(tǒng)上將檢體試片切成薄片及染色等繁雜且費(fèi)時(shí)的程序，亦能夠有效避免傳統(tǒng)上將所有薄片檢體試片的檢測結(jié)果進(jìn)行疊合重組時(shí)所可能產(chǎn)生的誤差，由此提升光學(xué)裝置進(jìn)行檢測時(shí)的準(zhǔn)確性及可靠度。此外，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)裝置及其運(yùn)作方法所使用的檢體試片亦可搭配輔助單元的特殊設(shè)計(jì)在操作過程中提供可調(diào)控的功能，故能讓使用者操作上更為方便。
[0060]通過以上較佳具體實(shí)施例的詳述，是希望能更加清楚描述本發(fā)明的特征與精神，而并非以上述所公開的較佳具體實(shí)施例來對本發(fā)明的范疇加以限制。相反地，其目的是希望能涵蓋各種改變及具相等性的安排于本發(fā)明所欲申請的專利范圍的范疇內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種光學(xué)裝置，其特征在于，該裝置包含有: 一試片模塊，用以承載一試片，且該試片包含有一檢體； 一光學(xué)檢測模塊，用以對該試片中的該檢體進(jìn)行一深層組織檢測分析； 一輔助模塊，用以對該試片模塊及該光學(xué)檢測模塊的運(yùn)作提供一輔助功能；以及 一數(shù)據(jù)處理模塊，耦接該光學(xué)檢測模塊及該輔助模塊，用以分析處理該光學(xué)檢測模塊所傳送的一信號以產(chǎn)生關(guān)于該檢體的一檢測結(jié)果，或根據(jù)該輔助模塊所傳送的一信息產(chǎn)生相對應(yīng)的一調(diào)控指令至該光學(xué)檢測模塊或該輔助模塊。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置，其特征在于，該輔助模塊為獨(dú)立設(shè)計(jì)或依附于該試片模塊，該輔助模塊所提供的該輔助功能為試片識(shí)別輔助功能、試片對準(zhǔn)輔助功能、檢測條件調(diào)控輔助功能或檢體儲(chǔ)存狀態(tài)監(jiān)控輔助功能。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置，其特征在于，該光學(xué)檢測模塊是利用一光學(xué)干涉技術(shù)對該檢體進(jìn)行該深層組織檢測分析，且該光學(xué)干涉技術(shù)為時(shí)域設(shè)計(jì)或頻域設(shè)計(jì)。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置，其特征在于，該試片模塊為有蓋形式或開放形式，且通過物理固化或機(jī)械固定方式限制該檢體的移動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置，其特征在于，該輔助模塊是具有一符號、一顏色、一圖樣、一文字、一數(shù)字、一條碼、一立體識(shí)別區(qū)或一立體對準(zhǔn)區(qū)的設(shè)計(jì)，以提供試片識(shí)別輔助功能及試片對準(zhǔn)輔助功能。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置，其特征在于，該輔助模塊是具有單層或多層透光夾層的設(shè)計(jì)，導(dǎo)入具有不同穿透、吸收及反射特性的流體，以提供變換入射該檢體的入射光的波長或能量。
7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置，其特征在于，該輔助模塊是具有聚光及散光特性的設(shè)計(jì)，以提供焦距調(diào)整功能。
8.一種運(yùn)作一光學(xué)裝置的方法，該光學(xué)裝置包含一試片模塊、一光學(xué)檢測模塊、一輔助模塊及一數(shù)據(jù)處理模塊，其特征在于，該方法包含下列步驟: (a)該試片模塊承載包含有一檢體的一試片； (b)該光學(xué)檢測模塊對該試片中的該檢體進(jìn)行一深層組織檢測分析； (C)該輔助模塊對該試片模塊及該光學(xué)檢測模塊的運(yùn)作提供一輔助功能；以及 (d)該數(shù)據(jù)處理模塊分析處理該光學(xué)檢測模塊所傳送的一信號以產(chǎn)生關(guān)于該檢體的一檢測結(jié)果，或根據(jù)該輔助模塊所傳送的一信息產(chǎn)生相對應(yīng)的一調(diào)控指令至該光學(xué)檢測模塊或該輔助模塊。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，于步驟(c)中，該輔助模塊為獨(dú)立設(shè)計(jì)或依附于該試片模塊，該輔助模塊所提供的該輔助功能為試片識(shí)別輔助功能、試片對準(zhǔn)輔助功能、檢測條件調(diào)控輔助功能或檢體儲(chǔ)存狀態(tài)監(jiān)控輔助功能。
10.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，于步驟(b)中，該光學(xué)檢測模塊是利用一光學(xué)干涉技術(shù)對該檢體進(jìn)行該深層組織檢測分析，且該光學(xué)干涉技術(shù)為時(shí)域設(shè)計(jì)或頻域設(shè)計(jì)。
【文檔編號】G01N21/45GK103575700SQ201310283723
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年7月8日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月27日
【發(fā)明者】王威, 顏孟新, 周忠誠 申請人:明達(dá)醫(yī)學(xué)科技股份有限公司