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      電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置制造方法

      文檔序號:6178536閱讀:332來源:國知局
      電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置制造方法
      【專利摘要】本發(fā)明提供一種電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置,包括轉(zhuǎn)盤、放置待測產(chǎn)品的臺面、兩個豎立的支撐架,所述臺面位于兩個支撐架的頂端,支撐架下端與轉(zhuǎn)盤連接,轉(zhuǎn)盤與一伺服電機同步轉(zhuǎn)動,轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動方向垂直于支撐架豎立方向,支撐架通過步進電機驅(qū)動,所述伺服電機與步進電機均與一監(jiān)控主機連接。本發(fā)明的有益效果是具有待測物安裝角度可調(diào)、支撐架高度可調(diào)和轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速可調(diào)的功能,是一種智能化待測物支撐裝置。
      【專利說明】電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明屬于電磁兼容(EMC)測試【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其是涉及一種用于電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置。

      【背景技術(shù)】
      [0002]電磁波在日常生活中無時不在,不同形式的電磁波雖然他們的本質(zhì)完全相同,但其波長和頻率有很大的差別,這就給電磁干擾的抑制和防止帶來了一定的困難。電磁兼容(EMC)是指電氣及電子設(shè)備在共同的電磁環(huán)境下能執(zhí)行各自功能的共存狀態(tài),即要求在同一電磁環(huán)境中的上述各種設(shè)備都能正常工作又互不干擾,達到“兼容”狀態(tài)。EMC包括兩個方面的要求:一方面是指設(shè)備在正常運行過程中對所在環(huán)境產(chǎn)生的電磁干擾不能超過一定的限值;另一方面是指器具對所在環(huán)境中存在的電磁干擾具有一定程度的抗干擾度,即電磁敏感性。
      [0003]現(xiàn)有的技術(shù)中在暗室內(nèi)對待測物進行檢測時采用天線升降的方式對待測物發(fā)射出的信號進行采集,對于測試不同的待測物時需要更換不同的支撐物,然而更換支撐物會產(chǎn)生位置偏差從而導(dǎo)致測量結(jié)果偏差的問題,移動支撐架的位置也耗費人力,影響支架使用壽命。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明要解決的問題是提供一種電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置,尤其是具有待測物安裝角度可調(diào)、支撐架高度可調(diào)和轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速可調(diào)的待測物支撐裝置。
      [0005]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置,包括轉(zhuǎn)盤、放置待測產(chǎn)品的臺面、兩個豎立的支撐架,所述臺面位于兩個支撐架的頂端,支撐架下端與轉(zhuǎn)盤連接,轉(zhuǎn)盤與一伺服電機同步轉(zhuǎn)動,轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動方向垂直于支撐架豎立方向,支撐架通過步進電機驅(qū)動,所述伺服電機與步進電機均與一監(jiān)控主機連接;
      [0006]按上述方案,所述轉(zhuǎn)盤包括第一轉(zhuǎn)盤面和第二轉(zhuǎn)盤面,第一轉(zhuǎn)盤面和第二轉(zhuǎn)盤面相互平行且通過至少一個連接桿固定連接,所述伺服電機位于第二轉(zhuǎn)盤面下方與第二轉(zhuǎn)盤面固定連接,第二轉(zhuǎn)盤面帶動第一轉(zhuǎn)盤面同軸轉(zhuǎn)動,所述步進電機位固定于第二轉(zhuǎn)盤面上,所述第一轉(zhuǎn)盤面底面上具有吸波材料層;所述臺面為矩形平面,該矩形平面的兩相對邊中心分別與兩支撐架頂端鉸接,該矩形平面的一頂角一上連接一活動支撐桿一,該活動支撐桿一另一端活動連接在相近的支撐架上,所述矩形平面上的另一頂角二上具有與頂角一上相同的活動支撐桿二,該活動支撐桿二的另一端活動連接在相近的支撐架上,所述頂角一與頂角二位于該矩形平面的一條對角線上;所述支撐架為伸縮軸,通過步進電機驅(qū)動支撐架的伸縮,該支撐架上具有固定活動支撐桿的螺釘孔,所述支撐架的底端穿過所述第一轉(zhuǎn)盤面與步進電機連接。
      [0007]本發(fā)明具有的優(yōu)點和積極效果是:由于采用上述技術(shù)方案,待測物體的支撐裝置轉(zhuǎn)速更加穩(wěn)定,高度可準確調(diào)節(jié),該支撐裝置具有水平和豎立承載待測物進行EMC檢測的功能;具有結(jié)構(gòu)簡單,維修方便,可智能調(diào)節(jié),生產(chǎn)效率高等優(yōu)點。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0008]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖
      [0009]圖中:
      [0010]1、轉(zhuǎn)盤2、臺面3、支撐架
      [0011]4、伺服電機5、步進電機6、監(jiān)控主機
      [0012]11、第一轉(zhuǎn)盤面12、第二轉(zhuǎn)盤面13、連接桿
      [0013]14、吸波材料層21、活動支撐桿31、螺釘孔

      【具體實施方式】
      [0014]如圖1所示,本發(fā)明涉及一種電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置,包括轉(zhuǎn)盤1、放置待測產(chǎn)品的臺面2、兩個豎立的支撐架3,所述臺面2位于兩個支撐架3的頂端,支撐架3下端與轉(zhuǎn)盤I連接,轉(zhuǎn)盤與一伺服電機4同步轉(zhuǎn)動,轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動方向垂直于支撐架豎立方向,支撐架3通過步進電機5驅(qū)動,所述伺服電機4與步進電機5均與一監(jiān)控主機6連接;所述轉(zhuǎn)盤I包括第一轉(zhuǎn)盤面11和第二轉(zhuǎn)盤面12,第一轉(zhuǎn)盤面和第二轉(zhuǎn)盤面相互平行且通過至少一個連接桿13固定連接,所述伺服電機4位于第二轉(zhuǎn)盤面12下方與第二轉(zhuǎn)盤面固定連接,第二轉(zhuǎn)盤面12帶動第一轉(zhuǎn)盤面11同軸轉(zhuǎn)動,所述步進電機5位固定于第二轉(zhuǎn)盤面12上,所述第一轉(zhuǎn)盤面11底面上具有吸波材料層14 ;所述臺面2為矩形平面,該矩形平面的兩相對邊中心分別與兩支撐架3頂端鉸接,該矩形平面的一頂角一上連接一活動支撐桿21 —,該活動支撐桿一另一端活動連接在相近的支撐架3上,所述矩形平面上的另一頂角二上具有與頂角一上相同的活動支撐桿二,該活動支撐桿二的另一端活動連接在相近的支撐架3上,所述頂角一與頂角二位于該矩形平面的一條對角線上;所述支撐架3為伸縮軸,通過步進電機5驅(qū)動支撐架的伸縮,該支撐架上具有固定活動支撐桿的螺釘孔31,所述支撐架的底端穿過所述第一轉(zhuǎn)盤面11與步進電機5連接。
      [0015]本實例的工作過程:將臺面兩頂角處的支撐桿活動端固定到支撐架上的某些固定點的螺釘孔中,此時整個臺面與地面呈現(xiàn)水平位置,將待測物固定到水平臺面中心處,通過監(jiān)控主機控制步進電機調(diào)整支撐架高度達到所需位置,通過監(jiān)控主機啟動伺服電機調(diào)整其轉(zhuǎn)速至預(yù)定值,即完成了電磁兼容測試中待測物的安裝;當(dāng)待測物的測試條件要求發(fā)生變化時,如待測物所在臺面要求為豎立的情況,那么可通過改變活動支撐桿活動端在支撐架上固定的位置即可實現(xiàn)豎立安裝,同樣也可以達到與水平面呈現(xiàn)不同角度的安裝的要求,支撐架高度可調(diào),轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速可調(diào)。
      [0016]以上對本發(fā)明的一個實施例進行了詳細說明,但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實施例,不能被認為用于限定本發(fā)明的實施范圍。凡依本發(fā)明申請范圍所作的均等變化與改進等,均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
      【權(quán)利要求】
      1.一種電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置,其特征在于:包括轉(zhuǎn)盤、放置待測產(chǎn)品的臺面、兩個豎立的支撐架,所述臺面位于兩個支撐架的頂端,支撐架下端與轉(zhuǎn)盤連接,轉(zhuǎn)盤與一伺服電機同步轉(zhuǎn)動,轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動方向垂直于支撐架豎立方向,支撐架通過步進電機驅(qū)動,所述伺服電機與步進電機均與一監(jiān)控主機連接。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置,其特征在于:所述轉(zhuǎn)盤包括第一轉(zhuǎn)盤面和第二轉(zhuǎn)盤面,第一轉(zhuǎn)盤面和第二轉(zhuǎn)盤面相互平行且通過至少一個連接桿固定連接,所述伺服電機位于第二轉(zhuǎn)盤面下方與第二轉(zhuǎn)盤面固定連接,第二轉(zhuǎn)盤面帶動第一轉(zhuǎn)盤面同軸轉(zhuǎn)動,所述步進電機位固定于第二轉(zhuǎn)盤面上,所述第一轉(zhuǎn)盤面底面上具有吸波材料層。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置,其特征在于:所述臺面為矩形平面,該矩形平面的兩相對邊中心分別與兩支撐架頂端鉸接,該矩形平面的一頂角一上連接一活動支撐桿一,該活動支撐桿一另一端活動連接在相近的支撐架上,所述矩形平面上的另一頂角二上具有與頂角一上相同的活動支撐桿二,該活動支撐桿二的另一端活動連接在相近的支撐架上,所述頂角一與頂角二位于該矩形平面的一條對角線上。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電磁兼容暗室測試系統(tǒng)待測樣品的支撐裝置,其特征在于:所述支撐架為伸縮軸,通過步進電機驅(qū)動支撐架的伸縮,該支撐架上具有固定活動支撐桿的螺釘孔,所述支撐架的底端穿過所述第一轉(zhuǎn)盤面與步進電機連接。
      【文檔編號】G01R31/00GK104459218SQ201310459589
      【公開日】2015年3月25日 申請日期:2013年9月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月25日
      【發(fā)明者】馬強, 李陽, 田磊 申請人:天津天維移動通訊終端檢測有限公司
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