保護(hù)膜檢測(cè)裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】一種保護(hù)膜檢測(cè)裝置，在被加工物的加工面覆蓋保護(hù)膜時(shí)，能確認(rèn)是否整面地覆蓋了保護(hù)膜。具備：保持工作臺(tái)，保持在表面覆蓋有保護(hù)膜的被加工物；水蒸氣噴射構(gòu)件，向在保持工作臺(tái)上保持的被加工物的表面噴射水蒸氣；攝像構(gòu)件，對(duì)利用水蒸氣噴射構(gòu)件噴射過(guò)水蒸氣的被加工物的整個(gè)表面進(jìn)行攝像；檢測(cè)構(gòu)件，根據(jù)攝像構(gòu)件拍攝到的表面的圖像信息，通過(guò)圖像處理來(lái)基于覆蓋區(qū)域與非覆蓋區(qū)域的光的強(qiáng)度差來(lái)檢測(cè)非覆蓋區(qū)域，覆蓋區(qū)域是覆蓋有保護(hù)膜的區(qū)域，而在非覆蓋區(qū)域，由于未覆蓋保護(hù)膜而有水蒸氣附著，因而形成水滴的凹凸，產(chǎn)生光的散射；和報(bào)知構(gòu)件，在由檢測(cè)構(gòu)件檢測(cè)到非覆蓋區(qū)域時(shí)報(bào)知這一信息，該保護(hù)膜檢測(cè)裝置防止在存在非覆蓋區(qū)域的狀態(tài)下從被加工物的表面?zhèn)葘?shí)施激光加工而導(dǎo)致碎屑附著在非覆蓋區(qū)域。
【專(zhuān)利說(shuō)明】保護(hù)膜檢測(cè)裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及對(duì)在被加工物的表面是否覆蓋有保護(hù)膜進(jìn)行檢測(cè)的保護(hù)膜檢測(cè)裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 作為沿著間隔道對(duì)半導(dǎo)體晶片和光器件晶片等被加工物進(jìn)行分割的方法，提出有 下述方法：通過(guò)沿形成于各種被加工物的間隔道照射脈沖激光光線(xiàn)來(lái)形成激光加工槽，并 使用機(jī)械破斷裝置沿該激光加工槽進(jìn)行斷裂(例如，參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。
[0003] 在該加工方法中，存在這樣的問(wèn)題：由于沿間隔道照射激光光線(xiàn)，在被照射的區(qū)域 熱能集中而產(chǎn)生碎屑，該碎屑附著于在被加工物上形成的器件的表面，從而使器件的品質(zhì) 下降。
[0004] 因此，為了解決所述問(wèn)題，還提出有下述激光加工機(jī)：在被加工物的照射激光光線(xiàn) 的一側(cè)的面(加工面）上，覆蓋由聚乙烯醇等構(gòu)成的保護(hù)膜，透過(guò)保護(hù)膜向被加工物照射激 光光線(xiàn)(例如，參照專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。在該激光加工機(jī)中，具備對(duì)被加工物供給液態(tài)樹(shù)脂的噴嘴， 通過(guò)從該噴嘴滴落液態(tài)樹(shù)脂，并使被加工物旋轉(zhuǎn)，來(lái)在被加工物的加工面整面形成保護(hù)膜。 [0005] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006] 專(zhuān)利文獻(xiàn)1 :日本特開(kāi)平10-305420號(hào)公報(bào)
[0007] 專(zhuān)利文獻(xiàn)2 :日本特開(kāi)2007-201178號(hào)公報(bào)
[0008] 但是，在從噴嘴向被加工物滴落液態(tài)樹(shù)脂的結(jié)構(gòu)中，由于液態(tài)樹(shù)脂固結(jié)在噴嘴上， 所以液態(tài)樹(shù)脂無(wú)法充分地滴落，從而在被加工物的加工面中局部地產(chǎn)生未覆蓋液態(tài)樹(shù)脂的 部分。并且，當(dāng)在這樣的狀態(tài)下實(shí)施激光加工時(shí)，碎屑堆積在該部分，有可能導(dǎo)致產(chǎn)品不良。 因此，在覆蓋保護(hù)膜之后，需要掌握保護(hù)膜是否是被無(wú)間隙地進(jìn)行了整面覆蓋。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 本發(fā)明正是鑒于上述情況而完成的，其主要的技術(shù)課題在于，當(dāng)在被加工物的加 工面覆蓋保護(hù)膜時(shí)，能夠確認(rèn)是否整面地覆蓋了保護(hù)膜。
[0010] 本發(fā)明為一種保護(hù)膜檢測(cè)裝置，其對(duì)在被加工物的表面是否覆蓋有保護(hù)膜進(jìn)行檢 測(cè)，所述保護(hù)膜檢測(cè)裝置具備：保持工作臺(tái)，其保持在表面覆蓋有保護(hù)膜的被加工物；水蒸 氣噴射構(gòu)件，其向在保持工作臺(tái)上保持的被加工物的表面噴射水蒸氣；攝像構(gòu)件，其對(duì)利用 水蒸氣噴射構(gòu)件噴射過(guò)水蒸氣的被加工物的整個(gè)表面進(jìn)行攝像；檢測(cè)構(gòu)件，其根據(jù)由攝像 構(gòu)件拍攝到的表面的圖像信息，通過(guò)圖像處理基于覆蓋區(qū)域與非覆蓋區(qū)域的光的強(qiáng)度差， 來(lái)檢測(cè)非覆蓋區(qū)域，所述覆蓋區(qū)域是覆蓋有保護(hù)膜的區(qū)域，在所述非覆蓋區(qū)域由于未覆蓋 保護(hù)膜而有水蒸氣附著，因而形成水滴的凹凸，產(chǎn)生光的散射；以及報(bào)知構(gòu)件，其在由檢測(cè) 構(gòu)件檢測(cè)到了非覆蓋區(qū)域的情況下，報(bào)知這一信息。
[0011] 優(yōu)選的是，攝像構(gòu)件為線(xiàn)傳感器（line sensor)，所述線(xiàn)傳感器具有長(zhǎng)度與被加工 物的外徑相等的測(cè)量視野，水蒸氣噴射構(gòu)件具備噴射孔，所述噴射孔具有長(zhǎng)度與被加工物 的外徑相等的噴射區(qū)域，攝像構(gòu)件和水蒸氣噴射構(gòu)件在保持工作臺(tái)的移動(dòng)方向上并列地配 設(shè)，保持有被加工物的保持工作臺(tái)依次通過(guò)水蒸氣噴射構(gòu)件和攝像構(gòu)件的下方，由此，在向 被加工物的整個(gè)表面噴射水蒸氣之后，立即進(jìn)行被加工物的整個(gè)表面的攝像。
[0012] 發(fā)明效果
[0013] 本發(fā)明的保護(hù)膜檢測(cè)裝置具備：水蒸氣噴射構(gòu)件，其向保護(hù)膜覆蓋后的被加工物 的表面噴射水蒸氣；攝像構(gòu)件，其對(duì)噴射過(guò)水蒸氣的被加工物的整個(gè)表面進(jìn)行攝像；以及 檢測(cè)構(gòu)件，其根據(jù)由攝像構(gòu)件拍攝到的表面的圖像信息，通過(guò)圖像處理基于覆蓋區(qū)域與非 覆蓋區(qū)域的光的強(qiáng)度差來(lái)檢測(cè)非覆蓋區(qū)域，所述覆蓋區(qū)域是覆蓋有保護(hù)膜的區(qū)域，在所述 非覆蓋區(qū)域由于未覆蓋保護(hù)膜而有水蒸氣附著，因而形成水滴的凹凸，產(chǎn)生光的散射，因 此，能夠掌握在晶片的表面是否存在非覆蓋區(qū)域。因此，能夠防止在存在非覆蓋區(qū)域的狀態(tài) 下直接從晶片的表面?zhèn)葘?shí)施激光加工而導(dǎo)致碎屑附著在非覆蓋區(qū)域。
[0014] 并且，攝像構(gòu)件為線(xiàn)傳感器，所述線(xiàn)傳感器具有長(zhǎng)度與被加工物的外徑相等的測(cè) 量視野，水蒸氣噴射構(gòu)件具備噴射孔，所述噴射孔具有長(zhǎng)度與被加工物的外徑相等的噴射 區(qū)域，攝像構(gòu)件和水蒸氣噴射構(gòu)件在保持工作臺(tái)的移動(dòng)方向上并列地配設(shè)，保持有被加工 物的保持工作臺(tái)依次通過(guò)水蒸氣噴射構(gòu)件和攝像構(gòu)件的下方，由此，向被加工物的整個(gè)表 面噴射水蒸氣之后立即進(jìn)行被加工物的整個(gè)表面的攝像，從而能夠隨著保持工作臺(tái)的一連 串的移動(dòng)來(lái)連續(xù)地進(jìn)行從水蒸氣的噴射到攝像的操作，因此效率高。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015] 圖1是表示搭載有保護(hù)膜檢測(cè)裝置的激光加工裝置的例子的立體圖。
[0016] 圖2是表示保護(hù)膜檢測(cè)裝置的例子的立體圖。
[0017] 圖3是表示支承于框架并在表面形成有保護(hù)膜的晶片的立體圖。
[0018] 圖4是表示晶片通過(guò)水蒸氣噴射構(gòu)件和攝像構(gòu)件的下方的狀態(tài)的立體圖。
[0019] 圖5是表示晶片通過(guò)水蒸氣噴射構(gòu)件和攝像構(gòu)件的下方的狀態(tài)的主視圖。
[0020] 圖6是表示攝像構(gòu)件所取得的圖像的例子的照片。
[0021] 圖7是表示保護(hù)膜檢測(cè)裝置的另一例子的主視圖。
[0022] 標(biāo)號(hào)說(shuō)明
[0023] 1 :激光加工裝置；
[0024] 2 :保持工作臺(tái)；
[0025] 20 :抽吸部；
[0026] 21:固定部；
[0027] 210 :按壓部；
[0028] 3 :激光照射構(gòu)件；
[0029] 30 :基座；
[0030] 31 :照射頭；
[0031] 4:加工進(jìn)給構(gòu)件；
[0032] 40 :滾珠絲杠；
[0033] 41 :導(dǎo)軌；
[0034] 42 :馬達(dá)；
[0035] 43 :滑動(dòng)部；
[0036] 5 :分度進(jìn)給構(gòu)件；
[0037] 50 :滾珠絲杠；
[0038] 51 :導(dǎo)軌；
[0039] 52 :馬達(dá)；
[0040] 53 :基座；
[0041] 6 :盒載置區(qū)域；
[0042] 60 :盒；
[0043] 61:臨時(shí)放置區(qū)域；
[0044] 62:引導(dǎo)部；
[0045] 7 :搬入搬出構(gòu)件；
[0046] 70 :夾持部；
[0047] 8 :保護(hù)膜覆蓋構(gòu)件；
[0048] 80 :保護(hù)膜覆蓋用工作臺(tái)；
[0049] 81:固定部；
[0050] 82 :樹(shù)脂供給部；
[0051] 820 :噴嘴；
[0052] 821 :臂部；
[0053] 9 :搬送機(jī)構(gòu)；
[0054] 90 :轉(zhuǎn)動(dòng)軸；
[0055] 91 :伸縮臂；
[0056] 92 :吸附部；
[0057] 10 :保護(hù)膜檢測(cè)裝置；
[0058] 100 :水蒸氣噴射構(gòu)件；
[0059] 100a:噴射區(qū)域；
[0060] 101 :攝像構(gòu)件；
[0061] 102 :檢測(cè)構(gòu)件；
[0062] 103 :報(bào)知構(gòu)件；
[0063] W:晶片；
[0064] Wa :表面；
[0065] L :分割預(yù)定線(xiàn)；
[0066] D :器件；
[0067] Wb :背面；
[0068] T :帶；
[0069] F:框架。

【具體實(shí)施方式】
[0070] 圖1所示的激光加工裝置1具備：盒載置區(qū)域6,在該盒載置區(qū)域6載置有盒60， 該盒60收納成為激光加工的對(duì)象的被加工物即晶片W ;搬入搬出構(gòu)件7,其進(jìn)行晶片W相對(duì) 于盒60的搬入和搬出；保護(hù)膜覆蓋構(gòu)件8,其在從盒60搬出的晶片W的表面覆蓋保護(hù)膜； 保持工作臺(tái)2,其保持在表面覆蓋有保護(hù)膜的晶片W ;以及激光照射構(gòu)件3,其對(duì)在表面覆蓋 有保護(hù)膜并保持于保持工作臺(tái)2的晶片W照射激光光線(xiàn)。
[0071] 盒載置區(qū)域6構(gòu)成為能夠升降。在盒60的內(nèi)部形成有多層的槽（slot)，盒載置區(qū) 域6進(jìn)行升降，從而將成為晶片的搬出和搬入的對(duì)象的槽定位在規(guī)定的高度。在收納于盒 60的晶片W的表面Wa，利用分割預(yù)定線(xiàn)L劃分開(kāi)地形成有器件D，通過(guò)將晶片W的背面Wb 粘貼于帶T，晶片W在表面Wa露出的狀態(tài)下隔著帶T而支承于框架F。
[0072] 搬入搬出構(gòu)件7構(gòu)成為能夠在裝置的前后方向（Y軸方向）上移動(dòng)，并具備夾持部 70,該夾持部70夾持用于支承晶片W的框架F。在夾持部70夾持框架F的狀態(tài)下，能夠?qū)?晶片W與框架F -起從盒60中搬出。此外，搬入搬出構(gòu)件7將框架F向Y軸方向近前側(cè)推 入，由此能夠?qū)⒕琖搬入到盒60的規(guī)定的槽中。盒載置區(qū)域6的Y軸方向的后方側(cè)成為 臨時(shí)放置區(qū)域61，在該臨時(shí)放置區(qū)域61臨時(shí)載置被搬入搬出的晶片W，在臨時(shí)放置區(qū)域61 具備引導(dǎo)部62,該引導(dǎo)部62對(duì)框架F進(jìn)行引導(dǎo)并將其定位在固定的位置。
[0073] 保護(hù)膜覆蓋構(gòu)件8具備保護(hù)膜覆蓋用工作臺(tái)80,該保護(hù)膜覆蓋用工作臺(tái)80抽吸保 持晶片W。在保護(hù)膜覆蓋用工作臺(tái)80的周?chē)湓O(shè)有用于固定框架F的固定部81。而且，在 保護(hù)膜覆蓋用工作臺(tái)80的附近設(shè)置有樹(shù)脂供給部82,該樹(shù)脂供給部82朝向保持于保護(hù)膜 覆蓋用工作臺(tái)80的晶片滴落液態(tài)樹(shù)脂。樹(shù)脂供給部82具備噴嘴820和臂部821，該噴嘴 820使液態(tài)樹(shù)脂朝向下方滴落，該臂部821使噴嘴820移動(dòng)。
[0074] 在臨時(shí)放置區(qū)域61和保護(hù)膜覆蓋構(gòu)件8之間配設(shè)有搬送機(jī)構(gòu)9。搬送機(jī)構(gòu)9具 備：轉(zhuǎn)動(dòng)軸90,其具有上下方向的軸心；伸縮臂91，其從轉(zhuǎn)動(dòng)軸90的上端沿水平方向延伸； 以及吸附部92,其設(shè)置于伸縮臂91的末端，用于吸附框架F。吸附部92借助于轉(zhuǎn)動(dòng)軸90 的轉(zhuǎn)動(dòng)和伸縮臂91的伸縮來(lái)進(jìn)行X-Y平面內(nèi)的位置調(diào)節(jié)，并借助于轉(zhuǎn)動(dòng)軸90的上下移動(dòng) 來(lái)進(jìn)行高度方向（Z軸方向）的位置調(diào)節(jié)。
[0075] 保持工作臺(tái)2具備抽吸保持晶片W的抽吸部20。并且，在抽吸部20的周?chē)湓O(shè)有 固定部21，該固定部21用于固定支承晶片W的框架F。固定部21具備按壓部210,該按壓 部210從上方按壓框架F。
[0076] 保持工作臺(tái)2被支承為能夠借助于加工進(jìn)給構(gòu)件4而在加工進(jìn)給方向（X軸方向） 上移動(dòng)，并且，被支承為能夠借助于分度進(jìn)給構(gòu)件5而在分度進(jìn)給方向（Y軸方向）上移動(dòng)， 該分度進(jìn)給方向是相對(duì)于X軸方向在水平方向上正交的方向。
[0077] 加工進(jìn)給構(gòu)件4由以下部分構(gòu)成：滾珠絲杠40,其配設(shè)在平板狀的基座53上，并 具有X軸方向的軸心；一對(duì)導(dǎo)軌41，它們與滾珠絲杠40平行地配設(shè)；馬達(dá)42,其與滾珠絲杠 40的一端連結(jié)；以及滑動(dòng)部43,其未圖示的內(nèi)部的螺母與滾珠絲杠40螺合，并且該滑動(dòng)部 43的下部與導(dǎo)軌41滑動(dòng)接觸。該加工進(jìn)給構(gòu)件4構(gòu)成為，隨著滾珠絲杠40被馬達(dá)42驅(qū)動(dòng) 而轉(zhuǎn)動(dòng)，滑動(dòng)部43在導(dǎo)軌41上沿X軸方向滑動(dòng)，從而使保持工作臺(tái)2在X軸方向上移動(dòng)。
[0078] 保持工作臺(tái)2和加工進(jìn)給構(gòu)件4被支承為能夠借助于分度進(jìn)給構(gòu)件5而在Y軸方 向上移動(dòng)。分度進(jìn)給構(gòu)件5由以下部分構(gòu)成：滾珠絲杠50,其具有Y軸方向的軸心；一對(duì)導(dǎo) 軌51，它們與滾珠絲杠50平行地配設(shè)；馬達(dá)52,其與滾珠絲杠50的一端連結(jié)；以及基座53， 其未圖示的內(nèi)部的螺母與滾珠絲杠50螺合，并且基座53的下部與導(dǎo)軌51滑動(dòng)接觸。該分 度進(jìn)給構(gòu)件5構(gòu)成為，隨著滾珠絲杠50被馬達(dá)52驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)，基座53在導(dǎo)軌51上沿Y軸 方向滑動(dòng)，從而使保持工作臺(tái)2和加工進(jìn)給構(gòu)件4在X軸方向上移動(dòng)。
[0079] 激光照射構(gòu)件3具備固定于壁部la的基座30和固定于基座30的末端部的照射 頭31。照射頭31具有照射激光光線(xiàn)的功能，該激光光線(xiàn)具有Z軸方向的光軸。
[0080] 另外，在圖1所示的激光加工裝置1中，構(gòu)成為，加工進(jìn)給構(gòu)件4和分度進(jìn)給構(gòu)件 5使保持工作臺(tái)2在X軸方向和Y軸方向上移動(dòng)，激光照射構(gòu)件3不移動(dòng)，但只要構(gòu)成為保 持工作臺(tái)2和激光照射構(gòu)件3相對(duì)地在X軸方向上進(jìn)行加工進(jìn)給并在Y軸方向上進(jìn)行分度 進(jìn)給，則不限定于圖1的例子，例如，可以構(gòu)成為保持工作臺(tái)2在X軸方向上移動(dòng)，激光照射 構(gòu)件3在Y軸方向上移動(dòng)，也可以構(gòu)成為保持工作臺(tái)2不移動(dòng)，激光照射構(gòu)件3在X軸方向 和Y軸方向上移動(dòng)。
[0081] 激光加工裝置1具備保護(hù)膜檢測(cè)裝置10,該保護(hù)膜檢測(cè)裝置10對(duì)在晶片W的表 面Wa是否覆蓋有保護(hù)膜進(jìn)行檢測(cè)。如圖2所示，保護(hù)膜檢測(cè)裝置10具備：水蒸氣噴射構(gòu)件 100,其向保持于保持工作臺(tái)上的晶片W的表面Wa噴射水蒸氣；攝像構(gòu)件101，其對(duì)利用水 蒸氣噴射構(gòu)件100噴射過(guò)水蒸氣的晶片w的整個(gè)表面Wa進(jìn)行攝像；檢測(cè)構(gòu)件102,其對(duì)該 表面Wa中的未覆蓋保護(hù)膜的區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)；以及報(bào)知構(gòu)件103,其在被檢測(cè)構(gòu)件102檢測(cè) 到了未形成保護(hù)膜的區(qū)域的情況下，報(bào)知該信息。
[0082] 如圖1所示，水蒸氣噴射構(gòu)件100和攝像構(gòu)件101配設(shè)在保持工作臺(tái)2的X軸方 向的移動(dòng)路徑的上方，并在與X軸方向的該移動(dòng)路徑的平面方向正交的方向（Y軸方向）上 形成為長(zhǎng)條的形狀。水蒸氣噴射構(gòu)件100和攝像構(gòu)件101的Y軸方向的長(zhǎng)度與構(gòu)成保持工 作臺(tái)2的抽吸部20的直徑相等，或者在Y軸方向上比該直徑長(zhǎng)。
[0083] 水蒸氣噴射構(gòu)件100具備噴射區(qū)域100a，該噴射區(qū)域100a例如具有在Y軸方向上 排列的多個(gè)微細(xì)的噴射孔，該噴射區(qū)域l〇〇a具有與被加工物的外徑相等的長(zhǎng)度或者其以 上的長(zhǎng)度，該噴射區(qū)域l〇〇a能夠朝向X軸方向且Z軸方向下方噴射水蒸氣。另一方面，攝 像構(gòu)件101例如為線(xiàn)傳感器，其Y軸方向的長(zhǎng)度與構(gòu)成保持工作臺(tái)2的抽吸部20的直徑相 等，從而具有長(zhǎng)度與晶片W的外徑相等的測(cè)量視野。攝像構(gòu)件101的攝像部朝向下方配設(shè)， 能夠?qū)ξ挥谙路降木琖進(jìn)行攝像。水蒸氣噴射構(gòu)件100和攝像構(gòu)件101在保持工作臺(tái)的 移動(dòng)方向即X軸方向上并列地配設(shè)。
[0084] 下面，對(duì)圖1所示的激光加工裝置1的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。
[0085] 經(jīng)帶T而與環(huán)狀的框架F -體化的晶片W被收納于盒60。關(guān)于收納于盒60的晶 片W，框架F被搬入搬出構(gòu)件7的夾持部70夾持，并被搬入搬出構(gòu)件7抽出而載置在臨時(shí)放 置區(qū)域61。然后，當(dāng)晶片W被定位在固定的位置之后，利用搬送機(jī)構(gòu)9搬送到保護(hù)膜覆蓋構(gòu) 件8。
[0086] 在保護(hù)膜覆蓋構(gòu)件8中，晶片W被保持于保護(hù)膜覆蓋用工作臺(tái)80,框架F被固定 部81固定，成為晶片W的表面Wa朝向上方露出的狀態(tài)。然后，從噴嘴820向晶片W的表面 Wa上滴落液態(tài)樹(shù)脂，使保護(hù)膜覆蓋用工作臺(tái)80下降之后進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，由此使液態(tài)樹(shù)脂擴(kuò)展到 整個(gè)表面Wa，從而如圖3所示那樣覆蓋保護(hù)膜83。作為液態(tài)樹(shù)脂，例如使用含有吸收劑的 聚乙烯醇（PVA)等水溶性樹(shù)脂，其中，所述吸收劑能夠吸收在后續(xù)過(guò)程中從激光照射構(gòu)件3 照射的激光的波長(zhǎng)的光。在該情況下，在使用了紫外線(xiàn)波長(zhǎng)區(qū)域的激光光線(xiàn)(例如355nm的 波長(zhǎng))進(jìn)行加工時(shí)，作為吸收劑，添加有吸收紫外區(qū)域的范圍(例如250nm以上且380nm以下 的波長(zhǎng)）的光的紫外線(xiàn)吸收劑。作為該情況下的紫外線(xiàn)吸收劑，例如使用二苯甲酮系、苯并 三唑系、三嗪系、苯甲酸系的塑料添加劑。此外，在使用了可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的激光光線(xiàn)(例 如533nm的波長(zhǎng)）進(jìn)行加工時(shí)，作為吸收劑，添加有吸收可見(jiàn)光的范圍（例如460nm以上且 650nm以下的波長(zhǎng))的光的光吸收劑。作為該情況下的紫外線(xiàn)吸收劑，例如使用水溶性染料 化合物、水溶性色素化合物。
[0087] 在由于固化的樹(shù)脂附著于噴嘴820等原因，而無(wú)法從噴嘴820充分地噴出液態(tài)樹(shù) 脂的情況下，如圖3所示，在表面Wa，不僅形成有覆蓋了保護(hù)膜83的具有光澤的覆蓋區(qū)域 830,還可能局部地形成有未覆蓋保護(hù)膜83的非覆蓋區(qū)域831。
[0088] 接下來(lái)，借助于搬送機(jī)構(gòu)8將晶片W搬送到保持工作臺(tái)2。在保持工作臺(tái)2,晶片 W在抽吸部20被抽吸，并且框架F被固定部21固定。然后，加工進(jìn)給構(gòu)件4使保持于保持 工作臺(tái)2的晶片W在X軸方向上移動(dòng)。
[0089] 如圖4所示，在晶片W的X軸方向（圖4中的+ X方向）的移動(dòng)途中，晶片W通過(guò)水 蒸氣噴射構(gòu)件1〇〇和攝像構(gòu)件101的下方。在所述通過(guò)的過(guò)程中，如圖5所示，從水蒸氣噴 射構(gòu)件100的噴射區(qū)域100a噴射水蒸氣104。然后，如圖3和圖4所示，當(dāng)在晶片W的表面 Wa上存在非覆蓋區(qū)域831時(shí)，噴射的水蒸氣進(jìn)入非覆蓋區(qū)域831。
[0090] 當(dāng)水蒸氣進(jìn)入非覆蓋區(qū)域831時(shí)，如圖5所示，水滴83a附著在晶片W的表面Wa 上，因此在非覆蓋區(qū)域831形成凹凸。如圖6所示，當(dāng)微細(xì)的水滴83a附著在表面Wa而形成 凹凸時(shí)，表面Wa成為梨皮面(斑紋面）那樣。另一方面，關(guān)于朝向覆蓋區(qū)域830噴射的水蒸 氣，由于保護(hù)膜83的親水性而水滴的濕潤(rùn)性(濡Λ性)高，不會(huì)作為水滴殘留。即，在覆蓋區(qū) 域830沒(méi)有凹凸，而在非覆蓋區(qū)域831形成有凹凸。因此，在用攝像構(gòu)件101進(jìn)行晶片W的 攝像時(shí)，當(dāng)攝像構(gòu)件101朝向保護(hù)膜83照射光時(shí)，在非覆蓋區(qū)域831發(fā)生光的散射，因此， 在圖像中產(chǎn)生光的強(qiáng)度差。具體來(lái)說(shuō)，覆蓋區(qū)域830由于幾乎沒(méi)有由水蒸氣形成的凹凸，因 此光的強(qiáng)度均一而且明亮。另一方面，在非覆蓋區(qū)域831，由于凹凸而發(fā)生光散射，因此，與 正常覆蓋保護(hù)膜83的覆蓋區(qū)域830相比顯現(xiàn)得暗。
[0091] 在圖2所示的檢測(cè)構(gòu)件103中，根據(jù)由攝像構(gòu)件101拍攝到的表面Wa的圖像信 息，通過(guò)圖像處理基于覆蓋區(qū)域830與非覆蓋區(qū)域831的光的強(qiáng)度差，來(lái)檢測(cè)非覆蓋區(qū)域 831，其中，覆蓋區(qū)域830是覆蓋有保護(hù)膜的區(qū)域，而在非覆蓋區(qū)域831由于未覆蓋保護(hù)膜而 有水蒸氣附著，因而形成水滴的凹凸而產(chǎn)生光的散射。當(dāng)檢測(cè)構(gòu)件103檢測(cè)到非覆蓋區(qū)域 831時(shí)，點(diǎn)亮警告燈或在顯示部進(jìn)行警告顯示等，將檢測(cè)到非覆蓋區(qū)域831這一情況報(bào)知作 業(yè)人員。收到所述報(bào)知的作業(yè)人員將晶片W再次搬送到保護(hù)膜覆蓋構(gòu)件8,使液態(tài)樹(shù)脂滴落 到非覆蓋區(qū)域831等，從而在表面Wa整面覆蓋保護(hù)膜83。另外，在圖6所示的圖像中，表示 出在晶片W的表面Wa形成的斑塊（bump) B。
[0092] 如圖5所示，在激光加工裝置1中，保持有晶片W的保持工作臺(tái)2依次通過(guò)水蒸氣 噴射構(gòu)件1〇〇和攝像構(gòu)件101的下方，由此，能夠在向晶片w的整個(gè)表面Wa噴射水蒸氣之 后立即進(jìn)行被加工物的整個(gè)表面Wa的攝像，因此，能夠連續(xù)地進(jìn)行由水蒸氣噴射構(gòu)件100 實(shí)現(xiàn)的水蒸氣的噴射、以及由攝像構(gòu)件101實(shí)現(xiàn)的攝像，因此效率高。
[0093] 在表面Wa覆蓋了保護(hù)膜83之后，進(jìn)行晶片W的規(guī)定的分割預(yù)定線(xiàn)L與圖1所示 的激光照射構(gòu)件3的照射頭31在Y軸方向上的位置對(duì)準(zhǔn)。然后，在該狀態(tài)下，晶片W -邊 在X軸方向上移動(dòng)而通過(guò)照射頭31的正下方，一邊從照射頭31沿分割預(yù)定線(xiàn)L受到激光 光線(xiàn)的照射。該激光光線(xiàn)透過(guò)覆蓋在晶片W的表面Wa的保護(hù)膜83,聚光在晶片W的表面 Wa。
[0094] 即使由于激光光線(xiàn)的照射而產(chǎn)生碎屑，該碎屑也會(huì)被保護(hù)膜83阻擋，不會(huì)附著于 晶片W。并且，利用檢測(cè)構(gòu)件102預(yù)先檢測(cè)非覆蓋區(qū)域831，以不存在非覆蓋區(qū)域831的方 式覆蓋保護(hù)膜83,由此，能夠防止碎屑局部地附著在晶片W的表面Wa而使器件的品質(zhì)下降。 [0095] 保護(hù)膜檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)不限定于圖1、圖2、圖4和圖5所示的例子。例如，如圖7 所示，也可以構(gòu)成為，檢測(cè)構(gòu)件105例如由COX Charge Coupled Device :電荷f禹合元件)照 相機(jī)那樣的區(qū)域傳感器構(gòu)成，所述檢測(cè)構(gòu)件105 -邊局部地對(duì)晶片W的表面Wa進(jìn)行攝像， 一邊例如在Y軸方向上移動(dòng)。在該情況下，保持工作臺(tái)2在X軸方向上移動(dòng)，檢測(cè)構(gòu)件105 一邊在Y軸方向上移動(dòng)一邊進(jìn)行攝像，從而能夠?qū)琖的整個(gè)表面Wa進(jìn)行攝像。并且， 水蒸氣噴射構(gòu)件106也構(gòu)成為相對(duì)于保持工作臺(tái)2相對(duì)地在X軸方向上移動(dòng)即可。水蒸氣 噴射構(gòu)件106也可以構(gòu)成為以廣角的方式噴射水蒸氣。
[0096] 另外，在本實(shí)施方式中，對(duì)保護(hù)膜檢測(cè)裝置9搭載于激光加工裝置1的例子進(jìn)行了 說(shuō)明，但保護(hù)膜檢測(cè)裝置9既可以作為單體存在，并且也可以搭載于其他裝置。
【權(quán)利要求】
1. 一種保護(hù)膜檢測(cè)裝置，其對(duì)在被加工物的表面是否覆蓋有保護(hù)膜進(jìn)行檢測(cè)，所述保 護(hù)膜檢測(cè)裝置具備： 保持工作臺(tái)，其保持在表面覆蓋有該保護(hù)膜的被加工物； 水蒸氣噴射構(gòu)件，其向在該保持工作臺(tái)上保持的被加工物的該表面噴射水蒸氣； 攝像構(gòu)件，其對(duì)利用該水蒸氣噴射構(gòu)件噴射過(guò)水蒸氣的該被加工物的整個(gè)該表面進(jìn)行 攝像； 檢測(cè)構(gòu)件，其根據(jù)由該攝像構(gòu)件拍攝到的該表面的圖像信息，通過(guò)圖像處理基于覆蓋 區(qū)域與非覆蓋區(qū)域的光的強(qiáng)度差，來(lái)檢測(cè)該非覆蓋區(qū)域，所述覆蓋區(qū)域是覆蓋有保護(hù)膜的 區(qū)域，在所述非覆蓋區(qū)域由于未覆蓋該保護(hù)膜而有水蒸氣附著，因而形成水滴的凹凸，產(chǎn)生 光的散射；以及 報(bào)知構(gòu)件，其在由該檢測(cè)構(gòu)件檢測(cè)到了該非覆蓋區(qū)域的情況下，報(bào)知這一信息。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜檢測(cè)裝置，其中， 所述攝像構(gòu)件為線(xiàn)傳感器，所述線(xiàn)傳感器具有長(zhǎng)度與被加工物的外徑相等的測(cè)量視 野， 所述水蒸氣噴射構(gòu)件具備噴射孔，所述噴射孔具有長(zhǎng)度與該被加工物的外徑相等的噴 射區(qū)域， 該攝像構(gòu)件和該水蒸氣噴射構(gòu)件在保持工作臺(tái)的移動(dòng)方向上并列地配設(shè)， 保持有被加工物的該保持工作臺(tái)依次通過(guò)該水蒸氣噴射構(gòu)件和該攝像構(gòu)件的下方，由 此，在向該被加工物的整個(gè)該表面噴射水蒸氣之后，立即進(jìn)行被加工物的整個(gè)該表面的攝 像。
【文檔編號(hào)】G01N21/49GK104122229SQ201410157271
【公開(kāi)日】2014年10月29日 申請(qǐng)日期:2014年4月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月23日
【發(fā)明者】高橋邦充, 大浦幸伸 申請(qǐng)人:株式會(huì)社迪思科