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      低檢出限原子譜線分析儀的制作方法

      文檔序號(hào):6228616閱讀:431來源:國(guó)知局
      低檢出限原子譜線分析儀的制作方法
      【專利摘要】低檢出限原子譜線分析儀,主要包括:樣品導(dǎo)入裝置,高溫等離子分解裝置,光譜反射裝置,波束衍射裝置,波譜分離裝置,光束篩選裝置,信號(hào)轉(zhuǎn)換裝置,穩(wěn)定傳輸裝置,儀表顯示裝置;其中,高溫等離子分解裝置含有等離子發(fā)射電極,該電極材料為氧化锎合金,光譜反射裝置含有雙聚焦反射透鏡,該反射透鏡表面鍍有兩層厚度為1.6um的反射膜,該反射膜材料為偏磷酸溴化鍆納米復(fù)合膜,波束衍射裝置含有六狹縫衍射器,七棱柱型偏光衍射透鏡,半凹型透鏡,其中,六狹縫衍射器含有六個(gè)縫寬為10um的衍射孔,六個(gè)衍射孔按照正六邊形方式排列;上述三者排列方式為:直線串聯(lián)排列,六狹縫衍射器位于前端,七棱柱型偏光衍射透鏡居中,半凹型透鏡置于后端。
      【專利說明】 低檢出限原子譜線分析儀
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及譜線分析領(lǐng)域,尤其涉及低檢出限原子譜線分析儀。
      【背景技術(shù)】
      [0002]原子譜線分析技術(shù),在天體物理、氣體放電和等離子體物理等領(lǐng)域內(nèi)有廣泛的應(yīng)用。譜線分析主要是通過改變發(fā)光原子受所處環(huán)境物理狀態(tài)引起譜線增寬,發(fā)光原子作無規(guī)熱運(yùn)動(dòng),運(yùn)動(dòng)的原子發(fā)出的光波產(chǎn)生多普勒頻移,頻移的大小依賴于原子運(yùn)動(dòng)速度沿觀測(cè)方向的分量,趨近的原子發(fā)光頻率增大,遠(yuǎn)離的原子發(fā)光頻率減?。徊煌俣确至康脑影l(fā)光頻移大小不同。疊加的總效果造成譜線的多普勒增寬,其值與絕對(duì)溫度的平方根成正t匕。通常多普勒增寬比自然寬度大2?3個(gè)量級(jí)。光源中眾多的發(fā)光原子之間相互作用,干擾了原子的發(fā)光過程,造成譜線的增寬,或者是彼此碰撞阻斷原子發(fā)光,或者是帶電離子的電場(chǎng)對(duì)發(fā)光原子的斯塔克效應(yīng),增寬與原子的數(shù)密度有關(guān)。在天體、大氣及一切其他光源中,輻射原子處在原子氣體或電離氣體中,由于各種粒子之間始終存在著相互作用,使得輻射原子的發(fā)射光譜線出現(xiàn)了增寬和移位的現(xiàn)象,這些都影響了原子譜線分析技術(shù)的精確度提高,因此,有必要對(duì)現(xiàn)有譜線分析技術(shù)加以改進(jìn)。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]為了克服現(xiàn)有裝置的不足之處,本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:
      [0004]低檢出限原子譜線分析儀,其特征在于,主要包括:
      [0005]1-樣品導(dǎo)入裝置,2-高溫等離子分解裝置,3-光譜反射裝置,
      [0006]4—波束衍射裝置,5—波譜分離裝置,6—光束篩選裝置,
      [0007]7-信號(hào)轉(zhuǎn)換裝置,8—穩(wěn)定傳輸裝置,9一儀表顯示裝置;
      [0008]其中,
      [0009]高溫等離子分解裝置(2)含有等離子發(fā)射電極,該電極材料為氧化锎合金材料,
      [0010]光譜反射裝置(3)含有雙聚焦反射透鏡,該反射透鏡表面鍍有兩層厚度為1.6um的反射膜,該反射膜材料為偏磷酸溴化鍆納米復(fù)合膜,
      [0011]波束衍射裝置(4)含有六狹縫衍射器,七棱柱型偏光衍射透鏡,半凹型透鏡,其中,六狹縫衍射器含有六個(gè)縫寬為IOum的衍射孔,六個(gè)衍射孔按照正六邊形的方式排列;上述三者排列方式為:直線串聯(lián)排列,六狹縫衍射器位于前端,七棱柱型偏光衍射透鏡居中,半凹型透鏡置于后端。
      [0012]樣品導(dǎo)入裝置(I)主要用于分析樣品的導(dǎo)入和預(yù)加熱處理,高溫等離子分解裝置
      (2)主要用于裂解等離子束的產(chǎn)生,為樣品的高溫處理提供原子分析能量,光譜反射裝置
      (3)主要用于光束的傳導(dǎo)路徑調(diào)整與控制,便于光譜波段的分離,波束衍射裝置(4)主要用于光譜衍射波段的產(chǎn)生,便于光譜的疊加分析,加強(qiáng)光譜特征分析波段的產(chǎn)生,波譜分離裝置(5)主要用于光束衍射譜段分離,實(shí)現(xiàn)原子特征結(jié)構(gòu)譜線分析量化,光束篩選裝置(6)主要用于原子結(jié)構(gòu)圖譜特征篩選,便于原子特征譜線分析,信號(hào)轉(zhuǎn)換裝置(7)主要用于原子離子束分析信號(hào)的轉(zhuǎn)換與傳導(dǎo),穩(wěn)定傳輸裝置(8)主要用于轉(zhuǎn)換信號(hào)的波形穩(wěn)定與變化幅度控制,儀表顯示裝置(9)主要用于原子譜線分析結(jié)果的顯示與記錄。
      [0013]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的有益效果是:
      [0014](I)通過高溫等離子分解裝置實(shí)現(xiàn)裂解等離子束的產(chǎn)生,為樣品的高溫處理提供原子分析能量;
      [0015](2)通過波束衍射裝置光譜衍射波段進(jìn)行的產(chǎn)生,便于光譜的疊加分析,加強(qiáng)光譜特征分析波段;
      [0016](3)通過波譜分離裝置進(jìn)行光束衍射譜段分離,實(shí)現(xiàn)原子特征結(jié)構(gòu)譜線分析量化?!緦@綀D】

      【附圖說明】
      [0017]圖1是低檢出限原子譜線分析儀的示意圖
      [0018]如圖1所示,本發(fā)明所述的低檢出限原子譜線分析儀,主要包括:
      [0019]1-樣品導(dǎo)入裝置,2-高溫等離子分解裝置,3-光譜反射裝置,
      [0020]4-波束衍射裝置,5-波譜分離裝置,6—光束篩選裝置,
      [0021]7—信號(hào)轉(zhuǎn)換裝置,8—穩(wěn)定傳輸裝置,9一儀表顯示裝置;
      [0022]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)的描述。
      【具體實(shí)施方式】
      [0023]首先,通過樣品導(dǎo)入裝置(I)進(jìn)行分析樣品的導(dǎo)入和預(yù)加熱處理,采用高溫等離子分解裝置(2)實(shí)現(xiàn)裂解等離子束的產(chǎn)生,為樣品的高溫處理提供原子分析能量,結(jié)合光譜反射裝置(3)進(jìn)行光束的傳導(dǎo)路徑調(diào)整與控制,便于光譜波段的分離,借助于波束衍射裝置(4)實(shí)現(xiàn)光譜衍射波段的產(chǎn)生,便于光譜的疊加分析,加強(qiáng)光譜特征分析波段的產(chǎn)生,通過波譜分離裝置(5)實(shí)現(xiàn)光束衍射譜段分離,實(shí)現(xiàn)原子特征結(jié)構(gòu)譜線分析量化,采用光束篩選裝置(6)進(jìn)行原子結(jié)構(gòu)圖譜特征篩選,便于原子特征譜線分析,借助于信號(hào)轉(zhuǎn)換裝置(7)用于原子離子束分析信號(hào)的轉(zhuǎn)換與傳導(dǎo),通過穩(wěn)定傳輸裝置(8)進(jìn)行轉(zhuǎn)換信號(hào)的波形穩(wěn)定與變化幅度控制,最后,結(jié)合儀表顯示裝置(9)實(shí)現(xiàn)原子譜線分析結(jié)果的顯示與記錄。
      【權(quán)利要求】
      1.低檢出限原子譜線分析儀,其特征在于,主要包括: 1-樣品導(dǎo)入裝置,2--高溫等離子分解裝置,3-光譜反射裝置,4一波束衍射裝置,5-波譜分離裝置,6—光束篩選裝置,7-信號(hào)轉(zhuǎn)換裝置,8—穩(wěn)定傳輸裝置,9一儀表顯示裝置; 其中, 高溫等離子分解裝置(2)含有等離子發(fā)射電極,該電極材料為氧化.锎合金材料,光譜反射裝置(3)含有雙聚焦反射透鏡,該反射透鏡表面鍍有兩層厚度為1.6um的反射膜,該反射膜材料為偏磷酸溴化鍆.納米復(fù)合膜, 波束衍射裝置(4)含有六狹縫衍射器,七棱柱型偏光衍射透鏡,半凹型透鏡,其中,六狹縫衍射器含有六個(gè)縫寬為IOum的衍射孔,六個(gè)衍射孔按照正六邊形的方式排列;上述三者排列方式為:直線串聯(lián)排列,六狹縫衍射器位于前端,七棱柱型偏光衍射透鏡居中,半凹型透鏡置于后端。
      【文檔編號(hào)】G01N21/73GK104020156SQ201410230718
      【公開日】2014年9月3日 申請(qǐng)日期:2014年5月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月29日
      【發(fā)明者】?jī)?chǔ)冬紅, 彭飛, 郭睦庚 申請(qǐng)人:成都中遠(yuǎn)千葉科技有限公司
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