一種介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置及方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置及方法，其特點(diǎn)是：該裝置設(shè)計(jì)了屏蔽板機(jī)構(gòu)，通過(guò)組合屏蔽板的厚度獲得不同輻照劑量率。其裝置主要包括承載機(jī)構(gòu)、真空抽氣設(shè)備、真空靶室、劑量率標(biāo)定設(shè)備、屏蔽板機(jī)構(gòu)和數(shù)據(jù)測(cè)試設(shè)備。本發(fā)明的裝置可以用于測(cè)量在不同輻照劑量率下的介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率的功能，能夠在提高測(cè)試效率、降低試驗(yàn)成本的情況下，測(cè)得介質(zhì)材料受到不同劑量率輻照的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率，為介質(zhì)材料內(nèi)帶電的機(jī)理及其效應(yīng)研究提供重要的材料特性參數(shù)。
【專利說(shuō)明】一種介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置及方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及屬于測(cè)量領(lǐng)域，尤其涉及一種介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置及方法，特別是測(cè)量在不同輻射劑量率下介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率變化。

【背景技術(shù)】
[0002]介質(zhì)材料充放電效應(yīng)是引起中、高軌道衛(wèi)星異常現(xiàn)象的重要原因之一。由于在中、高軌道存在大量的空間高能電子，這些高通量高能電子可直接穿透衛(wèi)星結(jié)構(gòu)和儀器設(shè)備等的屏蔽層，進(jìn)入衛(wèi)星內(nèi)部的電路板、導(dǎo)線絕緣層等介質(zhì)材料中，導(dǎo)致絕緣介質(zhì)材料深層電荷沉積,從而形成介質(zhì)材料內(nèi)帶電。介質(zhì)材料內(nèi)帶電過(guò)程包括電荷沉積和電荷泄放兩個(gè)過(guò)程，其中高能電子輻照將引起的介質(zhì)輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率(RIC)是影響電荷泄放速率的重要因素。RIC的產(chǎn)生引起電荷泄漏速率的增大，解決了沉積電荷導(dǎo)電通道的問(wèn)題，使得沉積在介質(zhì)體內(nèi)電荷量減小，進(jìn)而使得介質(zhì)內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度的減小以及達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)的時(shí)間同數(shù)量級(jí)的減小。因此，介質(zhì)材料的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率在決定內(nèi)帶電程度及擊穿可能性中起重要作用，是介質(zhì)內(nèi)帶電研究的重要材料特性參數(shù)。
[0003]新型通信衛(wèi)星運(yùn)行于高軌道，其空間輻射環(huán)境十分惡劣，空間軌道電子和質(zhì)子通量密度高，衛(wèi)星內(nèi)帶電效應(yīng)問(wèn)題異常突出，因此亟需開(kāi)展介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率參數(shù)的測(cè)試，在衛(wèi)星設(shè)計(jì)和研制階段，給衛(wèi)星帶電仿真模擬分析和防護(hù)設(shè)計(jì)工作提供可靠的材料性能參數(shù)，使其危害降到最低。
[0004]其中一種可行的簡(jiǎn)單的測(cè)試方法是，經(jīng)介質(zhì)材料置于輻照室，開(kāi)啟6tlCo (鈷60)輻照源，輻照一段時(shí)間后，拿出輻照室進(jìn)行輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率的參數(shù)測(cè)量。
[0005]但是上述測(cè)試方法的問(wèn)題是:1)不能在線測(cè)量，介質(zhì)材料拿出輻照室進(jìn)行參數(shù)測(cè)量時(shí)不僅浪費(fèi)時(shí)間，而且由于介質(zhì)材料中的電荷會(huì)泄放，影響測(cè)量的準(zhǔn)確性。2)當(dāng)需要接受不同劑量率下的輻照時(shí)，需要在兩次輻照之間關(guān)閉輻照源，移動(dòng)介質(zhì)材料在輻照室中的位置(不同位置上的劑量率不同)，然后再打開(kāi)輻照源。輻照源開(kāi)啟一次成本上千，因此這種測(cè)試方法會(huì)大大增加試驗(yàn)成本，降低試驗(yàn)效率。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]有鑒于此，本發(fā)明提供了一種介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置及方法，能夠在提高測(cè)試效率、降低試驗(yàn)成本的情況下，測(cè)得介質(zhì)材料受到不同劑量率輻照的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率。
[0007]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0008]一種介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置，包括:可移動(dòng)承載機(jī)構(gòu)、真空靶室、具有夾持和電傳遞功能的樣品夾具、屏蔽板機(jī)構(gòu)、屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器、劑量率測(cè)試探頭、真空抽氣系統(tǒng)、劑量計(jì)和具有施加電壓和測(cè)量電流功能的測(cè)試設(shè)備；
[0009]屏蔽板機(jī)構(gòu)連接屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器，劑量率測(cè)試探頭連接劑量計(jì)，劑量計(jì)通過(guò)樣品夾具與被測(cè)介質(zhì)材料樣品電連接；真空抽氣系統(tǒng)與真空靶室連通；
[0010]樣品夾具和劑量率測(cè)試探頭固定于真空靶室內(nèi)部；真空靶室、真空抽氣系統(tǒng)和屏蔽板機(jī)構(gòu)置于可移動(dòng)承載機(jī)構(gòu)上；當(dāng)可移動(dòng)承載機(jī)構(gòu)置于輻照室時(shí)，令屏蔽板機(jī)構(gòu)位于真空靶室與輻照源之間；屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器、劑量計(jì)和測(cè)試設(shè)備置于輻照室外部；
[0011]所述屏蔽板機(jī)構(gòu)包括相互連通的有效屏蔽艙和儲(chǔ)存艙和多塊鉛制屏蔽板，鉛制屏蔽板之間相互平行且與被測(cè)介質(zhì)材料樣品的接受輻照面平行，每塊屏蔽板均可在屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器的控制下在有效屏蔽艙和儲(chǔ)存艙之間進(jìn)行位置切換；有效屏蔽艙作為真空靶室與輻照源之間的有效屏蔽面。
[0012]優(yōu)選地，屏蔽板機(jī)構(gòu)中，有效屏蔽艙在上，儲(chǔ)存艙在下，有效屏蔽艙和儲(chǔ)存艙之間通過(guò)定位機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)屏蔽板從有效屏蔽艙到存儲(chǔ)艙的位置切換；且定位機(jī)構(gòu)能夠獨(dú)立控制各個(gè)屏蔽板。
[0013]優(yōu)選地，所述定位機(jī)構(gòu)為開(kāi)關(guān)門(mén)。
[0014]優(yōu)選地，該裝置進(jìn)一步包括屏蔽殼，真空抽氣系統(tǒng)置于屏蔽殼內(nèi)部；屏蔽板機(jī)構(gòu)以屏蔽殼作為支撐進(jìn)行安裝。
[0015]本發(fā)明還提供了一種介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試方法，該方法采用如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置，該方法包括如下步驟:
[0016]步驟1、將被測(cè)介質(zhì)材料樣品放置于真空靶室中的樣品夾具上，并進(jìn)行電連接，然后關(guān)閉真空靶室；
[0017]步驟2、開(kāi)啟真空抽氣系統(tǒng)給真空靶室抽真空；
[0018]步驟3、開(kāi)啟輻射源模擬空間輻照環(huán)境；
[0019]步驟4、利用屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器控制屏蔽板機(jī)構(gòu)，通過(guò)設(shè)置獲得所需的屏蔽板組合厚度；
[0020]步驟5、利用劑量率測(cè)試探頭和劑量計(jì)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)在當(dāng)前屏蔽板組合厚度下被測(cè)介質(zhì)材料樣品接受的輻照劑量率；
[0021]步驟6、利用所述測(cè)試設(shè)備向被測(cè)介質(zhì)材料樣品施加電壓，并從被測(cè)介質(zhì)材料樣品測(cè)得泄漏電流，根據(jù)所施加的電壓值和測(cè)得的泄漏電流值，采用數(shù)據(jù)處理方法獲得在當(dāng)前輻照劑量率下被測(cè)介質(zhì)材料樣品的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率，并對(duì)應(yīng)記錄；
[0022]步驟7、利用屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器控制屏蔽板機(jī)構(gòu)，改變屏蔽板組合厚度為不同值，重復(fù)執(zhí)行步驟5和步驟6，獲得在不同輻照劑量率下被測(cè)介質(zhì)材料樣品的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率；
[0023]步驟8、獲得所有所需輻照劑量率下被測(cè)介質(zhì)材料樣品的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率后，關(guān)閉輻射源。
[0024]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的有益效果是:
[0025](I)采用屏蔽板機(jī)構(gòu)和屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器，可以模擬不同劑量率下的輻照，并且在試驗(yàn)過(guò)程中只需要開(kāi)啟和關(guān)閉一次輻照源，大大提升試驗(yàn)的效率，有效降低試驗(yàn)成本；
[0026](2)此介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置及方法可操作性強(qiáng)，該試驗(yàn)系統(tǒng)工作穩(wěn)定，適用于測(cè)量在不同輻照劑量率下的介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0027]圖1是本發(fā)明的介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置結(jié)構(gòu)圖。
[0028]圖中:1_承載機(jī)構(gòu)、2-真空靶室、3-樣品夾具、4-被測(cè)介質(zhì)材料樣品、5-屏蔽板機(jī)構(gòu)、6-屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器、7-屏蔽殼、8-劑量率測(cè)試探頭、9-真空抽氣系統(tǒng)、10-劑量計(jì)、Il-測(cè)試設(shè)備。
[0029]圖2為屏蔽板機(jī)構(gòu)5的一種實(shí)施方式。

【具體實(shí)施方式】
[0030]下面結(jié)合附圖并舉實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0031]如圖1所示，為本發(fā)明的介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置，它包括承載機(jī)構(gòu)1、真空靶室2、樣品夾具3、屏蔽板機(jī)構(gòu)5、屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器6、劑量率測(cè)試探頭8、真空抽氣系統(tǒng)9、劑量計(jì)10和測(cè)試設(shè)備11。
[0032]連接關(guān)系為:真空抽氣系統(tǒng)9與真空靶室2連通；屏蔽板機(jī)構(gòu)5連接屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器6，劑量率測(cè)試探頭8連接劑量計(jì)10，劑量計(jì)10通過(guò)樣品夾具3與被測(cè)介質(zhì)材料樣品4電連接。其中，樣品夾具3需要具有夾持和電傳遞功能，因此可以采用三電極夾具設(shè)計(jì)；測(cè)試設(shè)備11需要具有施加電壓和測(cè)量電流功能的，從而通過(guò)樣品夾具3向被測(cè)介質(zhì)材料樣品4施加電壓，被測(cè)介質(zhì)材料樣品4在帶電的情況下才能進(jìn)行測(cè)試，同時(shí)測(cè)試設(shè)備11還通過(guò)樣品夾具3測(cè)量被測(cè)介質(zhì)材料樣品4上的泄漏電流，因此，測(cè)試設(shè)備11可以采用型號(hào)為Keithley 6517B 的靜電計(jì)。
[0033]樣品夾具3和劑量率測(cè)試探頭8固定于真空靶室2內(nèi)部；真空靶室2、真空抽氣系統(tǒng)9和屏蔽板機(jī)構(gòu)5置于可移動(dòng)承載機(jī)構(gòu)I上，從而方便將本裝置移動(dòng)到輻照室中。當(dāng)可移動(dòng)承載機(jī)構(gòu)I置于輻照室時(shí)，令屏蔽板機(jī)構(gòu)5位于真空靶室2與輻照源之間，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)入射到被測(cè)介質(zhì)材料樣品4上的輻照量進(jìn)行部分屏蔽，且由于本發(fā)明屏蔽板機(jī)構(gòu)5的特殊設(shè)計(jì)，使得屏蔽量可調(diào)，從而在無(wú)需多次開(kāi)關(guān)輻照源的情況下，使得多種劑量率的輻照。屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器6、劑量計(jì)10和測(cè)試設(shè)備11屬于電子設(shè)備，置于輻照室外部，這三個(gè)電子設(shè)備通過(guò)輻照室外部的謎道接入到輻照室內(nèi)部的測(cè)試裝置上。由于謎道長(zhǎng)度較長(zhǎng)，且具有多個(gè)彎道，可以保證電子設(shè)備不受干擾同時(shí)保證人員安全。
[0034]屏蔽板機(jī)構(gòu)5包括相互連通的有效屏蔽艙和儲(chǔ)存艙和多塊鉛制屏蔽板，鉛制屏蔽板之間相互平行且與被測(cè)介質(zhì)材料樣品4的接受輻照面平行，每塊屏蔽板均可在屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器6的控制下在有效屏蔽艙和儲(chǔ)存艙之間進(jìn)行位置切換；有效屏蔽艙作為真空靶室2與輻照源之間的有效屏蔽面，即只需有效屏蔽艙置于真空靶室2與輻照源之間即可。
[0035]屏蔽板機(jī)構(gòu)5的實(shí)現(xiàn)方式有多種，一種最為簡(jiǎn)單的實(shí)現(xiàn)方式為:如圖2所示，屏蔽板機(jī)構(gòu)5中，有效屏蔽艙在上，儲(chǔ)存艙在下，有效屏蔽艙和儲(chǔ)存艙之間通過(guò)諸如開(kāi)關(guān)門(mén)的定位機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)屏蔽板從有效屏蔽艙到存儲(chǔ)艙的位置切換，且定位機(jī)構(gòu)能夠獨(dú)立控制各個(gè)屏蔽板。該屏蔽板機(jī)構(gòu)5的設(shè)計(jì)利用了重力，實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單，但是只能有一個(gè)方向的位置切換，在測(cè)試時(shí)需要安排好屏蔽板的調(diào)整方案，從厚到薄進(jìn)行測(cè)試，則還需要設(shè)計(jì)升降機(jī)構(gòu)，當(dāng)然這也是容易實(shí)現(xiàn)的。
[0036]經(jīng)過(guò)對(duì)實(shí)驗(yàn)需求的研究發(fā)現(xiàn)，每塊屏蔽板的厚度可以設(shè)置為1cm，通過(guò)組合，可以滿足絕大多數(shù)劑量率的測(cè)試要求。當(dāng)然，還可以將屏蔽板設(shè)計(jì)為不同厚度，從而提供更為豐富的組合關(guān)系。
[0037]在一較佳實(shí)施例中，進(jìn)一步設(shè)置屏蔽殼7,真空抽氣系統(tǒng)9置于屏蔽殼7內(nèi)部,從而保證了真空抽氣系統(tǒng)(9)的工作可靠性。但由于真空抽氣系統(tǒng)9的工作精度并不要求嚴(yán)格，而且可以將真空抽氣系統(tǒng)9和輻照源的工作時(shí)間錯(cuò)開(kāi)，因此該屏蔽殼7并非必須。如圖1所示的實(shí)施例中，將屏蔽板機(jī)構(gòu)5依靠屏蔽殼7安裝，借助屏蔽殼7作為支撐，從而可以減少所需支撐結(jié)構(gòu)。
[0038]基于上述測(cè)試裝置，本發(fā)明介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試方法具體包括如下步驟:
[0039]步驟1、將被測(cè)介質(zhì)材料樣品4放置于真空靶室2中的樣品夾具3上，按照三電極的要求連接線路，檢查無(wú)誤后關(guān)閉真空靶室2。
[0040]步驟2、開(kāi)啟真空抽氣系統(tǒng)9給真空靶室2抽真空，使真空度優(yōu)于5.0X 10_3Pa。
[0041]步驟3、開(kāi)啟6tlCo源模擬空間輻照環(huán)境。
[0042]步驟4、利用屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器6控制屏蔽板機(jī)構(gòu)5，通過(guò)設(shè)置獲得所需屏蔽板組合厚度，例如第一次屏蔽板組合的厚度為9cm。
[0043]步驟5、利用劑量率測(cè)試探頭8和劑量計(jì)10實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)在當(dāng)前屏蔽板組合厚度下被測(cè)介質(zhì)材料樣品4接受的福照劑量率；
[0044]步驟6、利用測(cè)試設(shè)備11向被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)施加電壓，并從被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)測(cè)得泄漏電流，根據(jù)所施加的電壓值和測(cè)得的泄漏電流值，通過(guò)數(shù)據(jù)處理方法獲得在當(dāng)前輻照劑量率下被測(cè)介質(zhì)材料樣品4的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率，并對(duì)應(yīng)記錄。
[0045]步驟7、利用屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器6控制屏蔽板機(jī)構(gòu)5，改變屏蔽板組合厚度為不同值，重復(fù)執(zhí)行步驟5和步驟6，獲得在不同輻照劑量率下被測(cè)介質(zhì)材料樣品4的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率。
[0046]步驟8、獲得所有所需輻照劑量率下被測(cè)介質(zhì)材料樣品4的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率后，測(cè)試結(jié)束，關(guān)閉6°Co輻射源。
[0047]至此，本測(cè)試流程結(jié)束。
[0048]綜上所述，以上僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非用于限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置，其特征在于，包括:可移動(dòng)承載機(jī)構(gòu)(I)、真空靶室(2)、具有夾持和電傳遞功能的樣品夾具(3)、屏蔽板機(jī)構(gòu)(5)、屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器(6)、劑量率測(cè)試探頭(8)、真空抽氣系統(tǒng)(9)、劑量計(jì)(10)和具有施加電壓和測(cè)量電流功能的測(cè)試設(shè)備(11); 屏蔽板機(jī)構(gòu)(5)連接屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器(6)，劑量率測(cè)試探頭⑶連接劑量計(jì)(10)，劑量計(jì)(10)通過(guò)樣品夾具(3)與被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)電連接；真空抽氣系統(tǒng)(9)與真空靶室⑵連通； 樣品夾具(3)和劑量率測(cè)試探頭(8)固定于真空靶室(2)內(nèi)部；真空靶室(2)、真空抽氣系統(tǒng)(9)和屏蔽板機(jī)構(gòu)(5)置于可移動(dòng)承載機(jī)構(gòu)(I)上；當(dāng)可移動(dòng)承載機(jī)構(gòu)(I)置于輻照室時(shí)，令屏蔽板機(jī)構(gòu)(5)位于真空靶室(2)與輻照源之間；屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器(6)、劑量計(jì)(10)和測(cè)試設(shè)備(11)置于輻照室外部； 所述屏蔽板機(jī)構(gòu)(5)包括相互連通的有效屏蔽艙和儲(chǔ)存艙和多塊鉛制屏蔽板，鉛制屏蔽板之間相互平行且與被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)的接受輻照面平行，每塊屏蔽板均可在屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器(6)的控制下在有效屏蔽艙和儲(chǔ)存艙之間進(jìn)行位置切換；有效屏蔽艙作為真空靶室(2)與輻照源之間的有效屏蔽面。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，每塊屏蔽板的厚度為1cm。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，屏蔽板數(shù)量為10。
4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述樣品夾具(3)采用三電極夾具設(shè)計(jì)。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述測(cè)試設(shè)備(11)采用型號(hào)為Keithley6517B的靜電計(jì)。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，屏蔽板機(jī)構(gòu)(5)中，有效屏蔽艙在上，儲(chǔ)存艙在下，有效屏蔽艙和儲(chǔ)存艙之間通過(guò)定位機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)屏蔽板從有效屏蔽艙到存儲(chǔ)艙的位置切換；且定位機(jī)構(gòu)能夠獨(dú)立控制各個(gè)屏蔽板。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述定位機(jī)構(gòu)為開(kāi)關(guān)門(mén)。
8.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括屏蔽殼(7)，真空抽氣系統(tǒng)(9)置于屏蔽殼(7)內(nèi)部；屏蔽板機(jī)構(gòu)(5)以屏蔽殼(7)作為支撐進(jìn)行安裝。
9.一種介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試方法，其特征在于，該方法采用如權(quán)利要求1至8任意一項(xiàng)所述的介質(zhì)材料輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率測(cè)試裝置，該方法包括如下步驟: 步驟1、將被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)放置于真空靶室(2)中的樣品夾具(3)上，并進(jìn)行電連接，然后關(guān)閉真空靶室(2); 步驟2、開(kāi)啟真空抽氣系統(tǒng)(9)給真空靶室(2)抽真空； 步驟3、開(kāi)啟輻射源模擬空間輻照環(huán)境； 步驟4、利用屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器(6)控制屏蔽板機(jī)構(gòu)(5)，通過(guò)設(shè)置獲得所需的屏蔽板組合厚度； 步驟5、利用劑量率測(cè)試探頭(8)和劑量計(jì)(10)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)在當(dāng)前屏蔽板組合厚度下被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)接受的輻照劑量率； 步驟6、利用所述測(cè)試設(shè)備(11)向被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)施加電壓，并從被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)測(cè)得泄漏電流，根據(jù)所施加的電壓值和測(cè)得的泄漏電流值，采用數(shù)據(jù)處理方法獲得在當(dāng)前輻照劑量率下被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率，并對(duì)應(yīng)記錄； 步驟7、利用屏蔽板機(jī)構(gòu)控制器(6)控制屏蔽板機(jī)構(gòu)(5)，改變屏蔽板組合厚度為不同值，重復(fù)執(zhí)行步驟5和步驟6，獲得在不同輻照劑量率下被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)的輻射誘導(dǎo)r4zf Fzl1、各/ 步驟8、獲得所有所需輻照劑量率下被測(cè)介質(zhì)材料樣品(4)的輻射誘導(dǎo)電導(dǎo)率后，關(guān)閉輻射源。
【文檔編號(hào)】G01N27/04GK104237641SQ201410445783
【公開(kāi)日】2014年12月24日 申請(qǐng)日期:2014年9月3日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月3日
【發(fā)明者】王俊, 柳青, 陳益峰, 史亮, 湯道坦, 李得天, 楊生勝, 秦曉剛, 趙呈選 申請(qǐng)人:蘭州空間技術(shù)物理研究所