一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法及應(yīng)用的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法及應(yīng)用。該方法具體采用二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯作為抗體捕獲基底，其優(yōu)良的導(dǎo)電性和大的比表面積能有效減小背景信號。利用Cd2+功能化的多孔TiO2納米顆粒作為半抗原標(biāo)記物載體，通過在電極表面直接滴加Na2S，原位生成高光電轉(zhuǎn)換率的窄帶隙CdS，通過可見光波長的LED燈照射CdS，產(chǎn)生光電流信號。載體TiO2與CdS能帶匹配度良好，能進(jìn)一步提高CdS的光電轉(zhuǎn)換信號，從而制備超靈敏檢測玉米赤霉烯酮，α-玉米赤霉醇，黃曲霉毒素B1、B2，赭曲霉毒素A、B等多種真菌毒素的競爭型光電化學(xué)免疫傳感器。
【專利說明】—種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法及應(yīng)用

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法及應(yīng)用，具體涉及一種原位生成CdS的競爭型真菌毒素光電化學(xué)傳感器的制備方法及應(yīng)用，屬于新型功能材料與食品安全檢測【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002]近年來，食品污染日趨嚴(yán)重和頻繁，不僅造成巨額的經(jīng)濟(jì)損失，還會(huì)嚴(yán)重影響人類的身體健康。真菌毒素是其中的一類主要的食品污染物，它是一種由霉菌或真菌產(chǎn)生的次生代謝物，由于分布廣泛，很容易污染農(nóng)作物，通過污染的糧食或飼料以及該飼料喂養(yǎng)的動(dòng)物等進(jìn)入食物鏈，間接地進(jìn)入人體內(nèi)，最終造成神經(jīng)和內(nèi)分泌紊亂、免疫抑制、肝腎損傷、繁殖障礙、致癌致畸致突變等嚴(yán)重后果。
[0003]監(jiān)測是保證食品安全的重要環(huán)節(jié)，建立一種快速、簡便、靈敏的檢測方法十分重要。目前國內(nèi)外對真菌毒素污染物的分析方法主要包括生物鑒定法、化學(xué)分析法、高效液相色譜法、氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用技術(shù)和酶聯(lián)免疫分析法等。但是，這些檢測方法多數(shù)存在靶標(biāo)物單一、樣品前處理復(fù)雜、操作繁瑣、所需樣品用量大、耗時(shí)長等缺點(diǎn)，不能很好地滿足定量分析的需求。因此，為了解決上述方法的不足之處，本發(fā)明提供了一種簡單準(zhǔn)確、快速、靈敏度和選擇性高的光電化學(xué)免疫分析方法。
[0004]光電化學(xué)傳感器是基于物質(zhì)的光電轉(zhuǎn)換特性來確定待測物濃度的一類檢測裝置。光電化學(xué)檢測方法具有靈敏度高、設(shè)備簡單、易于微型化的特點(diǎn)，已經(jīng)成為一種極具應(yīng)用潛力的分析方法，在食品、環(huán)境、醫(yī)藥等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
[0005]本發(fā)明采用二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯作為抗體捕獲基底，其優(yōu)良的導(dǎo)電性和大的比表面積能有效減小背景信號。利用Cd2+功能化的多孔T12納米顆粒標(biāo)記真菌毒素，通過在電極表面直接滴加Na2S，原位生成高光電轉(zhuǎn)換率的窄帶隙CdS。本發(fā)明制備的基于原位生成CdS的競爭型光電化學(xué)傳感器，具有低成本、高靈敏、特異性好、快速檢測等優(yōu)點(diǎn)，且制備過程簡單，在可見光區(qū)域?qū)崿F(xiàn)了對多種真菌毒素的快速、靈敏檢測，有效克服了目前真菌毒素檢測方法的不足。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的之一是利用導(dǎo)電性好、比表面積大的二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯作為抗體捕獲基底，制備了一種靈敏度高、特異性強(qiáng)、檢測速度快的傳感器。
[0007]本發(fā)明的目的之二是通過原位生成的窄帶隙CdS與真菌毒素載體T12之間的能帶匹配，實(shí)現(xiàn)了可見光區(qū)域?qū)Χ喾N真菌毒素超靈敏檢測目的。
[0008]本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
1.一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法及應(yīng)用，其特征在于，包括以下步驟: (1)將導(dǎo)電玻璃依次用丙酮、乙醇和超純水超聲清洗,氮?dú)獯蹈?；?μ?、2?4mg/mL 二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料滴加到導(dǎo)電玻璃的導(dǎo)電面，室溫下晾干，40(T500°C煅燒3(T60min，冷卻，得到二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料GS-CeO2修飾的玻璃電極；
(2)在GS-CeO2修飾的玻璃電極表面，滴加5μ?、0.Γ? Pg/mL的真菌毒素抗體溶液，超純水沖洗電極表面，40C冰箱中晾干；
(3)繼續(xù)滴加3PL、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為廣3%的BSA溶液，封閉電極表面上非特異性活性位點(diǎn)，超純水沖洗電極表面，40C冰箱中晾干；
(4)繼續(xù)滴加5PL真菌毒素混合溶液，超純水沖洗電極表面，4°C冰箱中晾干，制得了真菌毒素光電化學(xué)傳感器。
[0009]所述真菌毒素混合溶液，是由等體積的T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液分別與不同濃度待測的真菌毒素溶液混合制得；
所述不同濃度待測的真菌毒素溶液，其濃度為0.1 pg/πιΠθ ng/mL。
[0010]2.二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料的制備
所述二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料，其特征在于，制備步驟如下:配制I mg/mL的氧化石墨烯水溶液,超聲5?10 h,取20、0 mL與硝酸鋪溶液混合攪拌5 min,轉(zhuǎn)移至高壓釜中，100°C加熱反應(yīng)2(T30 h，離心洗滌，50°C真空干燥，制得粉末材料，置于馬弗爐中400°C煅燒2?4 h，得到GS/Ce02復(fù)合納米材料；
所述硝酸鋪溶液是由0.2 g六水合硝酸鋪、8 mL超純水和20 μ L、2 mol/L的氫氧化鈉溶液混合而成
3.T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液的制備
(1)T12的制備
鈦酸四丁酯與乙二醇以體積比1:15?30混合，攪拌6?10 h，向50 mL混合液中加入150^200 mL丙酮，攪拌0.5?2 h，在乙醇中離心洗滌3次，加入10^30 mL水，100°C回流攪拌Γ3 h，離心水洗3次，50°C真空干燥，在馬弗爐中400°C煅燒2?4 h，制得T12 ；
(2)T12OCd2+溶液的制備
取lmL、20 mg/mL的T12水溶液，加入10 HiMCd(NO3)2.4Η20水溶液共混，50°C水浴振蕩4?24 h，離心洗滌，制得的T12OCd2+ ;將其分散于水中，配制成10 mg/mL的T12OCd2+溶液；
(3)T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液的制備
取10mL、10mg/mL的T12OCd2+溶液與I mL、體積分?jǐn)?shù)為2.5?5%的戊二醛水溶液，振蕩Γ3 h，加入100?500 yLUO μ g/mL真菌毒素抗原，在4°C冰箱中振蕩孵化20 h，離心，用pH為7.4的PBS洗滌，分散在I mL pH為7.4的PBS中，制得T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液，4°C下保存?zhèn)溆谩?br> [0011]4.如上所述的制備的一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器,用于真菌毒素的檢測，步驟如下:
(1)在所制備的光電化學(xué)傳感器電極表面，滴加5μ?、0.7 mol/L的Na2S溶液，放置30?80 min ；
(2)使用電化學(xué)工作站以三電極體系進(jìn)行測試，飽和甘汞電極為參比電極，鉬絲電極為輔助電極，所制備的光電化學(xué)傳感器電極為工作電極，在10 mL、pH 7.(Γ7.5的含0.lmol/L抗壞血酸的PBS緩沖溶液中進(jìn)行測試；
(3)用時(shí)間-電流法對分析物標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行檢測，設(shè)置電壓為0.1 V，運(yùn)行時(shí)間100 S，照射LED燈波長為400?450 nm ；
(4)當(dāng)背景電流趨于穩(wěn)定后，每隔20s開燈持續(xù)照射10 S，然后記錄光電流，繪制工作曲線；
(5 )將待測的真菌毒素樣品溶液代替真菌毒素標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行檢測。
[0012]5.如權(quán)利要求1所述的一種CdS敏化T12光電化學(xué)傳感器制備方法，其特征在于，所述真菌毒素選自下列之一:玉米赤霉烯酮，α -玉米赤霉醇，黃曲霉毒素B1，黃曲霉毒素B2，赭曲霉毒素Α，赭曲霉毒素B。
[0013]本發(fā)明的有益成果
(I)利用導(dǎo)電性好、比表面積大的二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯作為抗體捕獲基底，有效降低背景信號2倍，顯著提高了檢測的靈敏度。
[0014](2)利用Cd2+功能化的T12納米顆粒作為真菌毒素標(biāo)記物，采用在電極表面直接滴加Na2S原位生成窄帶隙的CdS半導(dǎo)體納米材料,原料低廉、方法簡單,使電極修飾更加均勻，并縮短了傳感器的制作時(shí)間。
[0015](3)電極表面原位生成的CdS與作為真菌毒素載體的T12具有良好的能帶匹配，有效的提高了 CdS的光電轉(zhuǎn)換效率，使制得的傳感器實(shí)現(xiàn)了對真菌毒素的超靈敏檢測。
[0016](5)本發(fā)明利用抗原、抗體的免疫反應(yīng)，提高了檢測方法的特異性。
[0017](6)本發(fā)明制備的競爭型光電化學(xué)免疫傳感器，用于多種真菌毒素的檢測，響應(yīng)時(shí)間短，檢測限低，線性范圍寬，可以實(shí)現(xiàn)簡單、快速、高靈敏和特異性檢測。

【具體實(shí)施方式】
[0018]實(shí)施例1 一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法及應(yīng)用
(1)將導(dǎo)電玻璃依次用丙酮、乙醇和超純水超聲清洗，氮?dú)獯蹈?；?μ?、2 mg/mL 二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料滴加到導(dǎo)電玻璃的導(dǎo)電面，室溫下晾干，400°C煅燒30min，冷卻，得到二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料GS-CeO2修飾的玻璃電極；
(2)在GS-CeO2修飾的玻璃電極表面，滴加5μ?、0.1 Pg/mL的真菌毒素抗體溶液，超純水沖洗電極表面，4°C冰箱中晾干；
(3)繼續(xù)滴加3PL、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%的BSA溶液，封閉電極表面上非特異性活性位點(diǎn)，超純水沖洗電極表面，40C冰箱中晾干；
(4)繼續(xù)滴加5PL真菌毒素混合溶液，超純水沖洗電極表面，4°C冰箱中晾干，制得了真菌毒素光電化學(xué)傳感器。
[0019]所述真菌毒素混合溶液，是由等體積的T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液分別與不同濃度待測的真菌毒素溶液混合制得；
所述不同濃度待測的真菌毒素溶液，其濃度為0.1 pg/πιΠθ ng/mL。
[0020]實(shí)施例2 —種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法及應(yīng)用
(I)將導(dǎo)電玻璃依次用丙酮、乙醇和超純水超聲清洗，氮?dú)獯蹈桑蝗? μ?、3 mg/mL 二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料滴加到導(dǎo)電玻璃的導(dǎo)電面，室溫下晾干，450°C煅燒45 min,冷卻，得到二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料GS-CeO2修飾的玻璃電極；
(2)在GS-CeO2修飾的玻璃電極表面，滴加5μ?、0.5 Pg/mL的真菌毒素抗體溶液，超純水沖洗電極表面，4°C冰箱中晾干；
(3)繼續(xù)滴加3PL、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2%的BSA溶液，封閉電極表面上非特異性活性位點(diǎn)，超純水沖洗電極表面，40C冰箱中晾干；
(4)繼續(xù)滴加5PL真菌毒素混合溶液，超純水沖洗電極表面，4°C冰箱中晾干，制得了真菌毒素光電化學(xué)傳感器。
[0021]所述真菌毒素混合溶液，是由等體積的T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液分別與不同濃度待測的真菌毒素溶液混合制得；
所述不同濃度待測的真菌毒素溶液，其濃度為0.1 pg/πιΠθ ng/mL。
[0022]實(shí)施例3 —種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法及應(yīng)用
(1)將導(dǎo)電玻璃依次用丙酮、乙醇和超純水超聲清洗，氮?dú)獯蹈?；?PL、4mg/mL 二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料滴加到導(dǎo)電玻璃的導(dǎo)電面，室溫下晾干，500°C煅燒60min，冷卻，得到二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料GS-CeO2修飾的玻璃電極；
(2)在GS-CeO2修飾的玻璃電極表面，滴加5μ?、I Pg/mL的真菌毒素抗體溶液，超純水沖洗電極表面，4°C冰箱中晾干；
(3)繼續(xù)滴加3PL、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%的BSA溶液，封閉電極表面上非特異性活性位點(diǎn)，超純水沖洗電極表面，40C冰箱中晾干；
(4)繼續(xù)滴加5PL真菌毒素混合溶液，超純水沖洗電極表面，4°C冰箱中晾干，制得了真菌毒素光電化學(xué)傳感器。
[0023]所述真菌毒素混合溶液，是由等體積的T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液分別與不同濃度待測的真菌毒素溶液混合制得；
所述不同濃度待測的真菌毒素溶液，其濃度為0.1 pg/πιΠθ ng/mL。
[0024]實(shí)施例4 二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料的制備
配制I mg/mL的氧化石墨烯水溶液,超聲5 h,取20 mL與硝酸鋪溶液混合攪拌5 min,轉(zhuǎn)移至高壓釜中，100°C加熱反應(yīng)20 h，離心洗滌，50°C真空干燥，制得粉末材料，置于馬弗爐中400°C煅燒2 h，得到GS/Ce02復(fù)合納米材料；
所述硝酸鋪溶液是由0.2 g六水合硝酸鋪、8 mL超純水和20 μ L、2 mol/L的氫氧化鈉溶液混合而成。
[0025]實(shí)施例5 二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料的制備
配制I mg/mL的氧化石墨烯水溶液,超聲8 h,取30 mL與硝酸鋪溶液混合攪拌5 min,轉(zhuǎn)移至高壓釜中，100°C加熱反應(yīng)25 h，離心洗滌，50°C真空干燥，制得粉末材料，置于馬弗爐中400°C煅燒3 h，得到GS/Ce02復(fù)合納米材料；
所述硝酸鋪溶液是由0.2 g六水合硝酸鋪、8 mL超純水和20 μ L、2 mol/L的氫氧化鈉溶液混合而成。
[0026]實(shí)施例6 二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料的制備
配制I mg/mL的氧化石墨烯水溶液,超聲10 h,取50 mL與硝酸鋪溶液混合攪拌5 min,轉(zhuǎn)移至高壓釜中，100°c加熱反應(yīng)30 h，離心洗滌，50°C真空干燥，制得粉末材料，置于馬弗爐中400°C煅燒4 h，得到GS/Ce02復(fù)合納米材料；
所述硝酸鋪溶液是由0.2 g六水合硝酸鋪、8 mL超純水和20 μ L、2 mol/L的氫氧化鈉溶液混合而成。
[0027]實(shí)施例7 T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液的制備
(1)T12的制備
鈦酸四丁酯與乙二醇以體積比1:15混合,攪拌6 h,向50 mL混合液中加入150 mL丙酮，攪拌0.5 h，在乙醇中離心洗滌3次，加入10 mL水，100°C回流攪拌I h，離心水洗3次，50°C真空干燥，在馬弗爐中400°C煅燒2 h，制得T12 ；
(2)T12OCd2+溶液的制備
取lmL、20 mg/mL的T12水溶液，加入10 HiMCd(NO3)2.4Η20水溶液共混，50°C水浴振蕩4 h，離心洗滌，制得的T12OCd2+ ;將其分散于水中，配制成10 mg/mL的T12OCd2+溶液；
(3)T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液的制備
取10mL、10mg/mL的T12OCd2+溶液與I mL、體積分?jǐn)?shù)為2.5%的戊二醛水溶液，振蕩Ih，加入100 μ L、10 μ g/mL真菌毒素抗原，在4°C冰箱中振蕩孵化20h，離心，用pH為7.4的PBS洗滌，分散在I mL pH為7.4的PBS中，制得T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液，4°C下保存?zhèn)溆谩?br> [0028]實(shí)施例8 T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液的制備
(1)T12的制備
鈦酸四丁酯與乙二醇以體積比1:20混合,攪拌8 h,向50 mL混合液中加入170 mL丙酮，攪拌I h，在乙醇中離心洗滌3次，加入20 mL水，100°C回流攪拌2 h，離心水洗3次，50°C真空干燥，在馬弗爐中400°C煅燒3 h，制得T12 ；
(2)T12OCd2+溶液的制備
取lmL、20 mg/mL的T12水溶液，加入10 HiMCd(NO3)2.4Η20水溶液共混，50°C水浴振蕩18 h，離心洗滌，制得的T12OCd2+ ;將其分散于水中，配制成10 mg/mL的T12OCd2+溶液；
(3)T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液的制備
取10mL、10mg/mL的T12OCd2+溶液與I mL、體積分?jǐn)?shù)為3.5%的戊二醛水溶液，振蕩2h，加入300 yLUO μ g/mL真菌毒素抗原，在4°C冰箱中振蕩孵化20 h，離心，用pH為7.4的PBS洗滌，分散在I mL pH為7.4的PBS中，制得T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液，4°C下保存?zhèn)溆谩?br> [0029]實(shí)施例OT12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液的制備
(1)T12的制備
鈦酸四丁酯與乙二醇以體積比1:30混合,攪拌10 h,向50 mL混合液中加入200 mL丙酮，攪拌2 h，在乙醇中離心洗滌3次，加入30 mL水，100°C回流攪拌3 h，離心水洗3次，50°C真空干燥，在馬弗爐中400°C煅燒4 h，制得T12 ；
(2)T12OCd2+溶液的制備
取lmL、20 mg/mL的T12水溶液，加入10 HiMCd(NO3)2.4Η20水溶液共混，50°C水浴振蕩24 h，離心洗滌，制得的T12OCd2+ ;將其分散于水中，配制成10 mg/mL的T12OCd2+溶液；
(3)T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液的制備取10mL、10mg/mL的T12OCd2+溶液與I mL、體積分?jǐn)?shù)為5%的戊二醛水溶液，振蕩3 h，加入500 μ L、10 μ g/mL真菌毒素抗原，在4°C冰箱中振蕩孵化20h，離心，用pH為7.4的PBS洗滌，分散在I mL pH為7.4的PBS中，制得T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液，4°C下保存?zhèn)溆谩?br> [0030]實(shí)施例10玉米赤霉烯酮的檢測
(1)在所制備的光電化學(xué)傳感器電極表面，滴加5μ?、0.7 mol/L的Na2S溶液，放置30?80 min ；
(2)使用電化學(xué)工作站以三電極體系進(jìn)行測試，飽和甘汞電極為參比電極，鉬絲電極為輔助電極，所制備的光電化學(xué)傳感器電極為工作電極，在10 mL、pH 7.(Γ7.5的含0.1 mol/L抗壞血酸的PBS緩沖溶液中進(jìn)行測試；
(3)用時(shí)間-電流法對分析物標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行檢測，設(shè)置電壓為0.1 V，運(yùn)行時(shí)間100 S，照射LED燈波長為400?450 nm ；
(4)當(dāng)背景電流趨于穩(wěn)定后，每隔20s開燈持續(xù)照射10 S，然后記錄光電流，繪制工作曲線；
(5)按照繪制工作曲線的方法進(jìn)行玉米赤霉烯酮樣品分析，測得線性范圍為0.5 pg/mL?10 ng/mL,檢測限為 0.2pg/mL。
[0031 ] 實(shí)施例1la-玉米赤霉醇的檢測
繪制工作曲線步驟同實(shí)施例10，按照繪制工作曲線的方法進(jìn)行α-玉米赤霉醇樣品分析，測得線性范圍為0.5 pg/mL、ng/mL,檢測限為0.15pg/mL。
[0032]實(shí)施例12黃曲霉毒素B1的檢測
繪制工作曲線步驟同實(shí)施例10，按照繪制工作曲線的方法進(jìn)行黃曲霉毒素B1樣品分析，測得線性范圍為0.lpg/mL?5ng/mL,檢測限為0.04pg/mL。
[0033]實(shí)施例13黃曲霉毒素B2的檢測
繪制工作曲線步驟同實(shí)施例10，按照繪制工作曲線的方法進(jìn)行黃曲霉毒素B2樣品分析，測得線性范圍為0.lpg/mL?7ng/mL,檢測限為0.05pg/mL。
[0034]實(shí)施例14赭曲霉毒素A的檢測
繪制工作曲線步驟同實(shí)施例10，按照繪制工作曲線的方法進(jìn)行赭曲霉毒素A樣品分析，測得線性范圍為0.2pg/mL?7ng/mL,檢測限為0.08pg/mL。
[0035]實(shí)施例14赭曲霉毒素B的檢測
繪制工作曲線步驟同實(shí)施例10，按照繪制工作曲線的方法進(jìn)行赭曲霉毒素B樣品分析，測得線性范圍為0.3pg/mL?7ng/mL,檢測限為0.lpg/mL。
【權(quán)利要求】
1.一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法，其特征在于，包括以下步驟: (1)將導(dǎo)電玻璃依次用丙酮、乙醇和超純水超聲清洗,氮?dú)獯蹈?；?μ?、2?4 mg/mL 二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料滴加到導(dǎo)電玻璃的導(dǎo)電面，室溫下晾干，40(T50(TC煅燒3(T60 min,冷卻，得到二氧化鈰摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料GS-CeO2修飾的玻璃電極； (2)在GS-CeO2修飾的玻璃電極表面，滴加5μ?、0.Γ? Pg/mL的真菌毒素抗體溶液，超純水沖洗電極表面，40C冰箱中晾干； (3)繼續(xù)滴加3PL、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為廣3%的BSA溶液，封閉電極表面上非特異性活性位點(diǎn)，超純水沖洗電極表面，40C冰箱中晾干； (4)繼續(xù)滴加5PL真菌毒素混合溶液，超純水沖洗電極表面，4°C冰箱中晾干，制得了真菌毒素光電化學(xué)傳感器； 所述真菌毒素混合溶液，是由等體積的T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液分別與不同濃度待測的真菌毒素溶液混合制得； 所述不同濃度待測的真菌毒素溶液，其濃度為0.1 pg/πιΠθ ng/mL。
2.如權(quán)利要求1所述的一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法，所述二氧化鋪摻雜的還原氧化石墨烯復(fù)合納米材料，其特征在于，制備步驟如下:配制I mg/mL的氧化石墨烯水溶液，超聲5?10 h，取2(T50 mL與硝酸鈰溶液混合攪拌5 min，轉(zhuǎn)移至高壓釜中，100°C加熱反應(yīng)2(T30 h，離心洗滌，50°C真空干燥，制得粉末材料，置于馬弗爐中400°C煅燒2?4 h，得到GS/Ce02復(fù)合納米材料； 所述硝酸鋪溶液是由0.2 g六水合硝酸鋪、8 mL超純水和20 μ L、2 mol/L的氫氧化鈉溶液混合而成。
3.如權(quán)利要求1所述的一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法，所述T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液，其特征在于，制備步驟如下: (1)T12的制備 鈦酸四丁酯與乙二醇以體積比1: 15?30混合，攪拌6?10 h，向50 mL混合液中加入150^200 mL丙酮，攪拌0.5?2 h，在乙醇中離心洗滌3次，加入10^30 mL水，100°C回流攪拌Γ3 h，離心水洗3次，50°C真空干燥，在馬弗爐中400°C煅燒2?4 h，制得T12; (2)T12OCd2+溶液的制備 取I mL、20 mg/mL的T12水溶液，加入10 mM Cd (NO3) 2.4Η20水溶液共混，50°C水浴振蕩4?24 h，離心洗滌，制得的T12OCd2+ ;將其分散于水中，配制成10 mg/mL的T12OCd2+溶液； (3)T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液的制備 取10 mL、10 mg/mL的T12OCd2+溶液與I mL、體積分?jǐn)?shù)為2.5?5%的戊二醛水溶液，振蕩I?3 h，加入100?500 yLUO μ g/mL真菌毒素抗原，在4°C冰箱中振蕩孵化20 h，離心，用pH為7.4的PBS洗滌，分散在I mL pH為7.4的PBS中，制得T12OCd2+-Ag真菌毒素標(biāo)記物溶液，4°C下保存?zhèn)溆谩?br> 4.如權(quán)利要求1所述的制備方法制得的一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法，其特征在于，用于真菌毒素的檢測，檢測步驟如下: (I)在所制備的光電化學(xué)傳感器電極表面，滴加5 μ?、0.7 mol/L的Na2S溶液，放置30?80 min ； (2)使用電化學(xué)工作站以三電極體系進(jìn)行測試，飽和甘汞電極為參比電極，鉬絲電極為輔助電極，所制備的光電化學(xué)傳感器電極為工作電極，在10 mL、pH 7.(Γ7.5的含0.1 mol/L抗壞血酸的PBS緩沖溶液中進(jìn)行測試； (3)用時(shí)間-電流法對真菌毒素標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行檢測，設(shè)置電壓為0.1 V，運(yùn)行時(shí)間100s，照射LED燈波長為400?450 nm ； (4)當(dāng)背景電流趨于穩(wěn)定后，每隔20s開燈持續(xù)照射10 S，然后記錄光電流，繪制工作曲線； (5)將待測的真菌毒素樣品溶液代替真菌毒素標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行檢測。
5.如權(quán)利要求1所述的一種原位生成CdS真菌毒素光電化學(xué)傳感器制備方法,其特征在于，所述真菌毒素選自下列之一:玉米赤霉烯酮，α-玉米赤霉醇，黃曲霉毒素B1，黃曲霉毒素B2，赭曲霉毒素Α，赭曲霉毒素B。
【文檔編號】G01N27/327GK104297464SQ201410451338
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年9月6日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月6日
【發(fā)明者】魏琴, 黎榮霞, 杜斌, 馬洪敏, 吳丹, 胡麗華 申請人:濟(jì)南大學(xué)