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      簾布x射線檢測裝置制造方法

      文檔序號:6057343閱讀:276來源:國知局
      簾布x射線檢測裝置制造方法
      【專利摘要】一種簾布X射線檢測裝置,該裝置包括機架、X射線發(fā)射裝置和傳感器,其中,機架中部開設(shè)有供簾布穿過的通道,所述X射線發(fā)射裝置安裝在通道上方,所述傳感器安裝在通道下方,該裝置還包括固定設(shè)置在機架上的標(biāo)定裝置,所述標(biāo)定裝置用于對待測簾布進(jìn)行標(biāo)記。本實用新型在準(zhǔn)確判斷簾布缺陷的同時標(biāo)定裝置能夠標(biāo)記出簾布缺陷的區(qū)域,方便工作人員根據(jù)標(biāo)定的位置裁剪掉有缺陷部分的簾布,提高了操作效率,節(jié)約了成本。
      【專利說明】簾布X射線檢測裝置

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本實用新型涉及輪胎生產(chǎn)過程中的檢測裝置,具體地說是一種用于檢測簾布內(nèi)部 結(jié)構(gòu)的X射線檢測裝置。

      【背景技術(shù)】
      [0002] 在輪胎生產(chǎn)過程中,國內(nèi)外主要是利用X射線檢測設(shè)備對成品輪胎進(jìn)行檢測,即 采用X射線檢測設(shè)備對硫化后的輪胎進(jìn)行斷層、氣泡、鋼絲斷裂、鋼絲分布不均等缺陷檢 測,如果檢測出缺陷,則該輪胎只能作為廢品處理,這不僅影響了生產(chǎn)效率,占用了后續(xù)生 產(chǎn)資源,而且造成了大量浪費。因此,在輪胎成型之前對簾布進(jìn)行X射線檢測,并對缺陷位 置進(jìn)行標(biāo)記以去除缺陷,對提高輪胎成型質(zhì)量具有重要意義。
      [0003] 目前,輪胎廠對簾布的檢測主要靠磁感檢測,利用磁感應(yīng)原理,且安裝傳感器的基 座振幅過大會影響傳感器正常工作,工作時振幅絕對位移需控制在0. 01mm以內(nèi),易受到干 擾;畫面只顯示波形,看不到簾布內(nèi)部結(jié)構(gòu);只能檢測到鋼絲排列異常,不能檢測非金屬雜 質(zhì)、氣泡等缺陷,檢測精度、效率低,不能準(zhǔn)確判斷缺陷位置。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004] 為了克服現(xiàn)有簾布檢測手段的不足,本實用新型提供了一種X射線簾布檢測裝 置。該裝置通過對簾布進(jìn)行X射線在線檢測并成像,能夠清晰的觀察簾布的內(nèi)部結(jié)構(gòu),當(dāng)簾 布存在缺陷時,檢測裝置的打標(biāo)系統(tǒng)準(zhǔn)確的標(biāo)定出缺陷存在的位置,方便后續(xù)對缺陷部分 進(jìn)行裁剪。避免了對缺陷品進(jìn)行后續(xù)成型、硫化等工藝,節(jié)省了成本,大大檢測降低了成品 輪胎的廢品率,提高了輪胎的質(zhì)量。
      [0005] 為解決上述技術(shù)問題,本專利申請采用這樣的技術(shù)方案:
      [0006] -種簾布X射線檢測裝置,該裝置包括機架、X射線發(fā)射裝置和傳感器,其中,機架 中部開設(shè)有供簾布穿過的通道,所述X射線發(fā)射裝置安裝在通道上方,所述傳感器安裝在 通道下方,其特征在于,該裝置還包括固定設(shè)置在機架上的標(biāo)定裝置,所述標(biāo)定裝置用于對 待測簾布進(jìn)行標(biāo)記。
      [0007] 所述標(biāo)定裝置設(shè)置在機架外側(cè)靠近通道出口處。
      [0008] 所述標(biāo)定裝置由氣缸、支架及標(biāo)記裝置;支架一端固定在氣缸活塞桿上,另一端連 接標(biāo)記裝置。
      [0009] 所述支架為片彈簧。
      [0010] 所述標(biāo)記裝置為畫筆。
      [0011] 本實用新型所述的簾布X射線檢測裝置的工作過程是這樣的:當(dāng)簾布經(jīng)前級傳送 線進(jìn)入機架的通道后,通道上方的X射線發(fā)射裝置發(fā)射X射線,照射正下方的簾布,通道下 方的傳感器接收信號并將簾布的內(nèi)部結(jié)構(gòu)傳輸?shù)斤@示屏上顯示,當(dāng)檢測到缺陷時,簾布上 的缺陷位置隨簾布傳送到標(biāo)定裝置正下方時,標(biāo)定裝置上氣缸推動活塞桿向下運動,標(biāo)記 裝置隨活塞桿一起向下運動,標(biāo)記裝置與簾布接觸,簾布隨傳送線運動,這樣標(biāo)記裝置就在 簾布上劃出一條直線,當(dāng)缺陷位置通過標(biāo)定裝置時,氣缸控制活塞桿向上運動,標(biāo)記裝置脫 離簾布,標(biāo)記裝置在簾布上劃出的直線即為缺陷所在的位置,工作人員根據(jù)標(biāo)定的位置裁 剪掉有缺陷部分的簾布,避免了缺陷簾布的成型、硫化等工藝,提高了輪胎的質(zhì)量,節(jié)約了 成本。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0012] 圖1為本實用新型所述簾布X射線檢測裝置的軸測圖;
      [0013] 圖2為本實用新型所述簾布X射線檢測裝置的主體內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖;
      [0014] 圖3為本實用新型所述簾布X射線檢測裝置的標(biāo)定裝置的結(jié)構(gòu)圖;
      [0015] 其中:
      [0016] 1一通道;2-機架;3 -X射線發(fā)射裝置;4一傳感器;5-標(biāo)定裝置;6-顯不屏; 7-輸入傳送線;8-輸出傳送線;9一X射線;10-聲光報警裝置;501-氣缸;502-支架; 503一標(biāo)記裝置。

      【具體實施方式】
      [0017] 如圖1所示為本實用新型所述簾布X射線檢測裝置的軸測視圖,圖2為簾布X射 線檢測裝置的主題內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖,結(jié)合圖1與圖2,所述的簾布X射線裝置安裝在輸入傳送線 7和輸出傳送線8之間,該裝置包括機架2、X射線發(fā)射裝置3和傳感器4,其中,機架中部開 設(shè)有供待測簾布穿過的通道1,所述X射線發(fā)射裝置3安裝在通道上方的箱體內(nèi),所述傳感 器4安裝在通道下方的箱體內(nèi),標(biāo)定裝置5設(shè)置在靠近輸出傳送線8 -側(cè)的機架外側(cè),所述 標(biāo)定裝置5用于標(biāo)記待測簾布的缺陷位置。
      [0018] 如圖3所示,標(biāo)定裝置5由氣缸501、支架502和標(biāo)記裝置503構(gòu)成,標(biāo)記裝置503 通過支架502與氣缸501的活塞桿連接,從而標(biāo)記裝置503可沿活塞桿上下運動。
      [0019] 本實用新型所述的簾布X射線檢測裝置按以下方法進(jìn)行檢查:當(dāng)簾布經(jīng)輸入傳 送線進(jìn)入機架2中部的通道1穿過X射線發(fā)射裝置3時,X光發(fā)射裝置發(fā)射X射線9至 被檢測的簾布上,同時通道1下方的傳感器4接收透過簾布的X射線并將其轉(zhuǎn)化為檢測信 號,信號通過計算機及其相應(yīng)的軟件處理轉(zhuǎn)換后將信息傳遞至圖像顯示屏6上,從圖像顯 示屏6顯示當(dāng)前簾布的內(nèi)部簾線質(zhì)量狀態(tài),同時通過計算機圖像控制軟件設(shè)定胎體鋼絲 簾布裁斷件缺陷判斷標(biāo)準(zhǔn),系統(tǒng)根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)實施自動判定,若沒有缺陷,則簾布直接經(jīng)輸 出傳送線輸出;一旦檢測結(jié)果不達(dá)標(biāo)時,計算機控制軟件將此異常信號傳遞至聲光報警 裝置10上報警,同時簾布上的缺陷位置隨簾布傳送到標(biāo)定裝置5正下方,此時,標(biāo)定裝置5 上的氣缸501推動活塞桿向下運動,通過支架502與活塞桿連接的標(biāo)記裝置503隨活塞桿 一起向下運動,標(biāo)記裝置5與簾布由分離變成接觸;此處標(biāo)記裝置5采用記號筆或者畫筆, 簾布隨傳送線運動,標(biāo)記裝置5在簾布上劃出一條直線;當(dāng)缺陷位置通過標(biāo)定裝置5后,氣 缸501控制活塞桿向上運動;標(biāo)記裝置503隨活塞桿向上運動脫離簾布,標(biāo)記裝置5在簾布 上劃出的直線即為簾布上的缺陷所在的區(qū)域。工作人員可根據(jù)標(biāo)記的缺陷位置,剪裁掉該 段簾布,避免了因簾布缺陷問題后續(xù)工藝造成廢胎的產(chǎn)生,從而節(jié)省了成本,保證了成品胎 的質(zhì)量。
      【權(quán)利要求】
      1. 一種簾布X射線檢測裝置,該裝置包括機架、X射線發(fā)射裝置和傳感器,其中,機架中 部開設(shè)有供簾布穿過的通道,所述X射線發(fā)射裝置安裝在通道上方,所述傳感器安裝在通 道下方,其特征在于,該裝置還包括固定設(shè)置在機架上的標(biāo)定裝置,所述標(biāo)定裝置用于對待 測簾布進(jìn)行標(biāo)記。
      2. 如權(quán)利要求1所述的一種簾布X射線檢測裝置,其特征在于,所述標(biāo)定裝置設(shè)置在機 架外側(cè)靠近通道出口處。
      3. 如權(quán)利要求1所述的一種簾布X射線檢測裝置,其特征在于,所述標(biāo)定裝置由氣缸、 支架及標(biāo)記裝置構(gòu)成;支架一端固定在氣缸活塞桿上,另一端連接標(biāo)記裝置。
      4. 如權(quán)利要求3所述的一種簾布X射線檢測裝置,其特征在于,所述支架為片彈簧。
      5. 如權(quán)利要求3所述的一種簾布X射線檢測裝置,其特征在于,所述標(biāo)記裝置為畫筆。
      【文檔編號】G01N23/04GK203870039SQ201420274799
      【公開日】2014年10月8日 申請日期:2014年5月27日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月27日
      【發(fā)明者】江賢強, 奚正山, 陸仲福 申請人:合肥美亞光電技術(shù)股份有限公司
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