一種新型試驗(yàn)電源設(shè)備上用倍壓塔的制作方法
【專利摘要】一種新型試驗(yàn)電源設(shè)備上用倍壓塔,包括硅堆、頂罩和絕緣立柱,硅堆位于頂罩的頂部,頂罩的下設(shè)置有絕緣立柱,絕緣立柱為雙桿絕緣立柱,絕緣立柱中間設(shè)有電容托架,電容托架上設(shè)有套管均壓罩,套管均壓罩均勻分布在絕緣立柱中間,支柱均壓罩將電容托架固定在絕緣立柱上,絕緣立柱的底部設(shè)有底盤。采用多層套管均壓罩,能夠使得試驗(yàn)效果更好,得出的試驗(yàn)數(shù)據(jù)更加準(zhǔn)確,通過支柱均壓罩將電容托架固定,能夠讓電容托架固定的更加穩(wěn)定。
【專利說明】一種新型試驗(yàn)電源設(shè)備上用倍壓塔
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種試驗(yàn)設(shè)備用零部件,具體涉及一種新型試驗(yàn)電源設(shè)備上用倍壓塔。
【背景技術(shù)】
[0002]在電力設(shè)備運(yùn)行之前,需要用到大量的試驗(yàn)設(shè)備進(jìn)行電力設(shè)備的試驗(yàn),通過試驗(yàn)設(shè)備得出試驗(yàn)數(shù)據(jù),能夠及時發(fā)現(xiàn)電力設(shè)備的運(yùn)行情況,防止在量產(chǎn)的時候出現(xiàn)大面積的廢品,保證了電力設(shè)備在投產(chǎn)前能夠有充分的試驗(yàn)數(shù)據(jù)支持,但是目前很多試驗(yàn)設(shè)備需要進(jìn)口,倍壓塔在試驗(yàn)設(shè)備中的應(yīng)用十分廣泛,很多倍壓塔結(jié)構(gòu)復(fù)雜,只能夠進(jìn)行單次的試驗(yàn)處理,不能夠多層試驗(yàn)處理,使得試驗(yàn)數(shù)據(jù)結(jié)果不夠精確,影響了整個試驗(yàn)系統(tǒng)的正常運(yùn)行。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種結(jié)構(gòu)簡單,工作效果好的一種新型試驗(yàn)電源設(shè)備上用倍壓塔。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案為:一種新型試驗(yàn)電源設(shè)備上用倍壓塔,包括硅堆、頂罩和絕緣立柱,所述的硅堆位于頂罩的頂部,所述的頂罩的下設(shè)置有絕緣立柱,其特征在于:所述的絕緣立柱為雙桿絕緣立柱,所述的絕緣立柱中間設(shè)有電容托架,所述的電容托架上設(shè)有套管均壓罩,所述的套管均壓罩均勻分布在絕緣立柱中間,所述的電容托架與絕緣立柱之間設(shè)有支柱均壓罩,所述的支柱均壓罩為雙層結(jié)構(gòu),所述的支柱均壓罩將電容托架固定在絕緣立柱上,所述的絕緣立柱的底部設(shè)有底盤,所述的底盤為長條狀底盤。
[0005]所述的頂罩為空心結(jié)構(gòu),所述的頂罩中間設(shè)有電容器,所述的電容器周圍設(shè)有電容均壓罩,所述的電容均壓罩旁設(shè)有均壓電阻,所述的頂罩的厚度為0.5m-0.8m。
[0006]所述的套管均壓罩的個數(shù)為2-6個,所述的套管均壓罩的厚度為10cm-20cm,所述的電容托架之間的間隔距離為0.2m-0.6m,所述的底盤為中間設(shè)有支撐筋,所述的支撐筋為相互平行的雙支撐筋,所述的支撐筋中間設(shè)有縱向支撐管,所述的縱向支撐管與支撐筋形成一橫一縱的結(jié)構(gòu)。
[0007]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:采用多層套管均壓罩,能夠使得試驗(yàn)效果更好,得出的試驗(yàn)數(shù)據(jù)更加準(zhǔn)確,通過支柱均壓罩將電容托架固定,能夠讓電容托架固定的更加穩(wěn)定,保證了電容托架的使用效果,底盤采用雙支撐筋結(jié)構(gòu),能夠讓底盤受力更加的均壓,使得底盤使用起來更加的穩(wěn)定。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0008]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖2為本實(shí)用新型的俯視圖。
[0010]圖中:1為娃堆,2為頂罩,3為絕緣立柱,4為電容托架,5為套管均壓罩,6為立柱均壓罩,7為底盤,8為電容器,9為電容均壓罩,10為均壓電阻。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
[0012]一種新型試驗(yàn)電源設(shè)備上用倍壓塔,包括硅堆1、頂罩2和絕緣立柱3,硅堆I位于頂罩2的頂部,頂罩2的下設(shè)置有絕緣立柱3,絕緣立柱3為雙桿絕緣立柱,絕緣立柱3中間設(shè)有電容托架4,電容托架4上設(shè)有套管均壓罩5,套管均壓罩5均勻分布在絕緣立柱3中間,電容托架4與絕緣立柱3之間設(shè)有支柱均壓罩6,支柱均壓罩6為雙層結(jié)構(gòu),支柱均壓罩6將電容托架4固定在絕緣立柱3上,絕緣立柱3的底部設(shè)有底盤7,底盤7為長條狀底盤,頂罩2為空心結(jié)構(gòu),頂罩2中間設(shè)有電容器8,電容器8周圍設(shè)有電容均壓罩9,電容均壓罩9旁設(shè)有均壓電阻10,頂罩的厚度為0.6m,套管均壓罩的個數(shù)為4個,套管均壓罩的厚度為12cm,電容托架之間的間隔距離為0.4m,底盤為中間設(shè)有支撐筋,支撐筋為相互平行的雙支撐筋,支撐筋中間設(shè)有縱向支撐管,縱向支撐管與支撐筋形成一橫一縱的結(jié)構(gòu)。
【權(quán)利要求】
1.一種新型試驗(yàn)電源設(shè)備上用倍壓塔,包括硅堆、頂罩和絕緣立柱,所述的硅堆位于頂罩的頂部,所述的頂罩的下設(shè)置有絕緣立柱,其特征在于:所述的絕緣立柱為雙桿絕緣立柱,所述的絕緣立柱中間設(shè)有電容托架,所述的電容托架上設(shè)有套管均壓罩,所述的套管均壓罩均勻分布在絕緣立柱中間,所述的電容托架與絕緣立柱之間設(shè)有支柱均壓罩,所述的支柱均壓罩為雙層結(jié)構(gòu),所述的支柱均壓罩將電容托架固定在絕緣立柱上,所述的絕緣立柱的底部設(shè)有底盤,所述的底盤為長條狀底盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型試驗(yàn)電源設(shè)備上用倍壓塔,其特征在于:所述的頂罩為空心結(jié)構(gòu),所述的頂罩中間設(shè)有電容器,所述的電容器周圍設(shè)有電容均壓罩,所述的電容均壓罩旁設(shè)有均壓電阻,所述的頂罩的厚度為0.5m-0.8m。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型試驗(yàn)電源設(shè)備上用倍壓塔,其特征在于:所述的套管均壓罩的個數(shù)為2-6個,所述的套管均壓罩的厚度為10cm-20cm,所述的電容托架之間的間隔距離為0.2m-0.6m,所述的底盤為中間設(shè)有支撐筋,所述的支撐筋為相互平行的雙支撐筋,所述的支撐筋中間設(shè)有縱向支撐管,所述的縱向支撐管與支撐筋形成一橫一縱的結(jié)構(gòu)。
【文檔編號】G01R1/02GK204142759SQ201420504682
【公開日】2015年2月4日 申請日期:2014年9月3日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月3日
【發(fā)明者】張炳生, 冀東旭 申請人:揚(yáng)州市鑫源電氣有限公司