一種檢測密封件平面度專用測量設(shè)備的制作方法
【專利摘要】一種檢測密封件平面度專用測量設(shè)備，所述檢測密封件平面度專用測量設(shè)備構(gòu)成如下：基座(1)、電源箱(2)、鈉光燈(3)、遮光板(4)、后擋板(5)、蓋(6)、標(biāo)準(zhǔn)平晶(8)、安裝平板(9)、磨砂玻璃(10)、平面反射鏡(11)；所述基座(1)水平布置在測量系統(tǒng)底部；電源箱(2)和帶有支架的單色鈉光燈(3)位于基座(1)后部，平面反射鏡(11)水平固定在基座上面；兩個(gè)遮光板(4)分別固定在基座側(cè)面，所述檢測密封件平面度專用測量設(shè)備具備結(jié)構(gòu)簡單、穩(wěn)定，易于制造、使用方便等特點(diǎn)；具有較為巨大的經(jīng)濟(jì)價(jià)值和社會價(jià)值。
【專利說明】一種檢測密封件平面度專用測量設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及測量設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和應(yīng)用【技術(shù)領(lǐng)域】，特別提供了一種檢測密封 件平面度專用測量設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002] 密封件平面度是保證工作狀態(tài)下不生產(chǎn)泄漏或泄漏量在規(guī)定范圍內(nèi)的主要因素， 目前，現(xiàn)場使用平晶檢測密封件工作面平面度，檢定員將標(biāo)準(zhǔn)平晶輕輕壓放在被測面上，通 過觀察平晶與被測面接觸產(chǎn)生的干涉的條紋，判讀其平面度誤差。該方法存在以下問題： (1)對于易變形的薄壁密封件，其重量僅為平晶的重量10%左右，測量壓力相對大，同時(shí)， 光源、溫度等影響因素多，測量精度難以滿足平面度公差要求；（2)平晶直徑大于Φ200mm 以上時(shí)，平晶難以放平，標(biāo)準(zhǔn)平晶和零件均容易被刮碰傷、損壞等。
[0003] 人們迫切希望獲得一種技術(shù)效果優(yōu)良的檢測密封件平面度專用測量設(shè)備。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0004] 本實(shí)用新型的目是提供一種檢測密封件平面度專用測量設(shè)備。實(shí)現(xiàn)航空密封平面 度公差準(zhǔn)確、快速的測量?？梢越鉀Q現(xiàn)有平面度測量過程繁瑣，受外力和溫度影響大，測量 中存在放不平，測不準(zhǔn)，容易損壞平晶和零件等問題。
[0005] 所述檢測密封件平面度專用測量設(shè)備構(gòu)成如下：基座1、電源箱2、鈉光燈3、遮光 板4、后擋板5、蓋6、標(biāo)準(zhǔn)平晶8、安裝平板9、磨砂玻璃10、平面反射鏡11 ;所述基座1水平 布置在測量系統(tǒng)底部；電源箱2和帶有支架的單色鈉光燈3位于基座1后部，平面反射鏡11 水平固定在基座上面；兩個(gè)遮光板4分別固定在基座側(cè)面，兩個(gè)遮光板4均與后擋板5相連 接，后擋板5與兩個(gè)遮光板4相連接形成整個(gè)測量設(shè)備的主體支架；安裝平板9水平固定在 測量系統(tǒng)主體支架上；安裝平板9中部設(shè)置有小孔結(jié)構(gòu)，蓋6和安裝平板9相連接，磨砂玻 璃10固定在基座1和后擋板5之間的框內(nèi)；標(biāo)準(zhǔn)平晶8工作面朝上，水平放置在安裝平板 9小孔結(jié)構(gòu)的上方；被測密封件7放置在標(biāo)準(zhǔn)平晶8上。
[0006] 磨砂玻璃10固定在基座1和后擋板5的框具體為150mmX300mm的長方形框。 [0007]所述后擋板5上設(shè)置有能夠取放電源箱2和鈉光燈3的窗口。
[0008] 將被測密封件7放在標(biāo)準(zhǔn)平晶8上方，被測表面與平晶工作面相接觸；電源箱2內(nèi) 單色鈉光燈3發(fā)出的光束經(jīng)過半透明磨砂玻璃10和安裝平板9的中心孔，投射至標(biāo)準(zhǔn)平晶 8和被測密封件7工作面；同時(shí)，被側(cè)面和平晶工作面產(chǎn)生的一組連續(xù)、明暗相間的干涉條 紋通過安裝平板9的中心孔，投影成像在基座1上的平面反射鏡11內(nèi)；測量人員觀察平面 反射鏡11內(nèi)干涉條紋像，并根據(jù)干涉光譜帶（干涉圖上的暗帶）的數(shù)量和形式，計(jì)算其平 面度誤差并做出合格性判定。
[0009] 所述的光源為單色鈉光燈波長λ= 〇. 589μm，特點(diǎn)是穩(wěn)定性好，可得到干涉條紋 清晰，易于觀察。
[0010] 所述的標(biāo)準(zhǔn)平晶8,達(dá)到一級精度，S卩：平面度在0.02μπι?0. 10μπι之間，能夠保 證測量的精度。
[0011] 所述安裝平板9中央加工一個(gè)小于Φ300_孔，可根據(jù)被測零件和標(biāo)準(zhǔn)平晶直徑 大小制作多個(gè)孔徑活動孔板，達(dá)到更換不同直徑標(biāo)準(zhǔn)平晶的效果。
[0012] 所述的平面反射鏡11應(yīng)沒有變形和失真，通過它方便、快捷的觀察到被測表面產(chǎn) 生的干涉條紋。
[0013] 所述的遮光板4,可防止外來光束干擾，同時(shí)避免光束直接照射到觀察者的皮膚或 眼睛。
[0014] 在每次使用前，對所述鈉光燈預(yù)熱20分鐘，確保光源穩(wěn)定，同時(shí)對零件和平晶的 位置進(jìn)行調(diào)整；確保測量結(jié)果準(zhǔn)確、可靠。
[0015] 使用后，可蓋上蓋子，減少搬動平晶的次數(shù)，防止灰塵污染平晶。
[0016] 利用光波干涉的原理，當(dāng)被測工件以一定傾角與平晶工件表面相接觸，在單色光 下，從平晶上可以看見連續(xù)的明暗相間的干涉條紋，其平面度的大小可根據(jù)一個(gè)干涉帶間 的比例關(guān)系來確定。
[0017]

【權(quán)利要求】
1. 一種檢測密封件平面度專用測量設(shè)備，其特征在于：所述檢測密封件平面度專用測 量設(shè)備構(gòu)成如下：基座（1)、電源箱（2)、鈉光燈（3)、遮光板（4)、后擋板（5)、蓋（6)、標(biāo)準(zhǔn)平 晶（8)、安裝平板（9)、磨砂玻璃（10)、平面反射鏡（11);所述基座（1)水平布置在測量系統(tǒng) 底部；電源箱（2)和帶有支架的單色鈉光燈（3)位于基座（1)后部，平面反射鏡（11)水平 固定在基座上面；兩個(gè)遮光板（4)分別固定在基座側(cè)面，兩個(gè)遮光板（4)均與后擋板（5)相 連接，后擋板（5)與兩個(gè)遮光板（4)相連接形成整個(gè)測量設(shè)備的主體支架；安裝平板（9)水 平固定在測量系統(tǒng)主體支架上；安裝平板（9)中部設(shè)置有小孔結(jié)構(gòu)，蓋（6)和安裝平板（9) 相連接，磨砂玻璃（10)固定在基座（1)和后擋板（5)之間的框內(nèi)；標(biāo)準(zhǔn)平晶（8)工作面朝 上，水平放置在安裝平板9小孔結(jié)構(gòu)的上方；被測密封件（7)放置在標(biāo)準(zhǔn)平晶（8)上。
2. 按照權(quán)利要求1所述檢測密封件平面度專用測量設(shè)備，其特征在于：磨砂玻璃（10) 固定在基座（1)和后擋板（5)的框具體為150mmX300mm的長方形框。
3. 按照權(quán)利要求1或2所述檢測密封件平面度專用測量設(shè)備，其特征在于：所述后擋 板（5)上設(shè)置有窗口。
【文檔編號】G01B11/30GK204255313SQ201420664936
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2014年11月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月10日
【發(fā)明者】王玉, 劉濤, 王東, 于紹永 申請人:沈陽黎明航空發(fā)動機(jī)(集團(tuán))有限責(zé)任公司