本發(fā)明屬于紅外光源技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種可調(diào)節(jié)紅外光源。

背景技術(shù)：

目前使用紅外原理測量的儀表廣泛使用鹵素?zé)艚Y(jié)合濾光片得到所需波長單色光作為系統(tǒng)光源。鹵素?zé)舭惭b的位置直接決定了系統(tǒng)測量的準(zhǔn)確性。目前國內(nèi)主要使用g4、g5.3和gu10等不同規(guī)格的鹵素?zé)?。根?jù)測量對象的不同特性，系統(tǒng)需要選擇不同尺寸、功率和規(guī)格的鹵素?zé)?，造成不同設(shè)備需要使用的光源備件尺寸型號不同，不同型號的鹵素?zé)魺o法直接替換，降低了系統(tǒng)維護(hù)的效率。另一方面在系統(tǒng)調(diào)節(jié)上，一般的光源座都按照設(shè)計尺寸加工，沒有預(yù)留調(diào)整的位置，加工誤差或系統(tǒng)長時間使用造成的光路誤差無法調(diào)整，降低了儀器儀表系統(tǒng)使用的準(zhǔn)確性，降低了使用壽命。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種可調(diào)節(jié)紅外光源，便于調(diào)整系統(tǒng)光路，確保光源發(fā)出的光可以準(zhǔn)確的聚焦到指定濾光片上，解決現(xiàn)有光源無法調(diào)節(jié)、無法使用多種規(guī)格鹵素?zé)舻膯栴}。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明所采取的技術(shù)方案為：

一種可調(diào)節(jié)紅外光源，包括可調(diào)整光源基座、鹵素?zé)艏肮庠垂╇娺B接裝置；可調(diào)整光源基座的中心為空心圓柱腔體，光源供電連接裝置插入空心圓柱腔體中，可在空心圓柱腔體中旋轉(zhuǎn)并上下移動；光源供電連接裝置為圓柱體結(jié)構(gòu)，內(nèi)部開有兩個導(dǎo)電槽，導(dǎo)電槽內(nèi)裝有導(dǎo)電銅片，電源線的金屬絲綁在導(dǎo)電銅片的圓孔上，穿過導(dǎo)電槽，將鹵素?zé)舻囊_裝入空心圓柱腔體并卡住。

所述的可調(diào)整光源基座的底部兩側(cè)分別設(shè)有滑槽a和滑槽b，將螺絲穿過滑槽a和滑槽b可以將其固定在設(shè)備光路的機(jī)架上，通過滑槽a和滑槽b可以調(diào)整光源和反射鏡的距離。

所述的空心圓柱腔體上設(shè)置有固定螺紋a和固定螺紋b，通過螺絲將光源供電連接裝置固定，松開螺絲可以在空心圓柱腔體中調(diào)整光源供電連接裝置的高度。

所述的光源供電連接裝置為四氟材料加工而成。

所述的導(dǎo)電槽的長度為1厘米，可以安裝引腳中心距4-10mm范圍內(nèi)的鹵素?zé)簟?/p>

調(diào)整鹵素?zé)舻母叨瓤梢愿淖儫艚z成像在濾光片的位置，調(diào)節(jié)光源基座和反射鏡位置可以調(diào)整燈絲成像的清晰度，旋轉(zhuǎn)鹵素?zé)艨梢哉{(diào)整燈絲相的大小，將更多的能量聚焦在濾光片上。

本發(fā)明所取得的有益效果為：

本發(fā)明可以適用于多種尺寸和燈絲規(guī)格的鹵素?zé)簦瑸椴煌惣t外原理儀表提供可調(diào)節(jié)紅外光源，其結(jié)構(gòu)簡單，可提高設(shè)備使用和維護(hù)效率，降低生產(chǎn)、使用和維護(hù)成本，便于調(diào)整和標(biāo)準(zhǔn)化加工生產(chǎn)。采用四氟光源供電連接裝置和金屬可調(diào)整光源基座，解決了鹵素?zé)魺崃總鬟f造成光源附近器件老化過快的問題。結(jié)合可調(diào)整光源基座的滑槽和空心圓柱腔體的設(shè)計方案，該系統(tǒng)實現(xiàn)了光源和光學(xué)器件之間距離和燈絲360度角度、鹵素?zé)舾叨热齻€維度的調(diào)整，實現(xiàn)了焦距和焦點成像的優(yōu)化?？烧{(diào)整光源基座可以調(diào)整光源和反射鏡距離，調(diào)整光學(xué)系統(tǒng)的焦距，安裝光源供電連接裝置后可以調(diào)節(jié)鹵素?zé)舾叨群蜔艚z與反射鏡的角度。光源供電連接裝置采用槽型連接口，可以適用于安裝引腳4-10mm范圍內(nèi)的各種鹵素?zé)?，通過改變燈絲和反射鏡角度，可以使不同規(guī)格的鹵素?zé)魺艚z聚焦在小面積的濾光片中，實現(xiàn)能量匯聚。

附圖說明

圖1為可調(diào)整光源基座示意圖；

圖2為光源供電連接裝置示意圖；

圖3為紅外光源整體裝配半剖圖；

圖中：1、固定螺紋a；2、固定螺紋b；3、滑槽a；4、滑槽b；5、空心圓柱腔體；6、導(dǎo)電槽；7、導(dǎo)電銅片；8、電源線；9、引腳；10、鹵素?zé)簟?/p>

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。

如圖1—3所示，本發(fā)明所述可調(diào)節(jié)紅外光源包括可調(diào)整光源基座、鹵素?zé)?0及光源供電連接裝置。

可調(diào)整光源基座的底部兩側(cè)分別設(shè)有滑槽a3和滑槽b4，將螺絲穿過滑槽a3和滑槽b4可以將其固定在設(shè)備光路的機(jī)架上，通過滑槽a3和滑槽b4可以調(diào)整光源和反射鏡等關(guān)系部件的距離；可調(diào)整光源基座的中心為空心圓柱腔體5，用于插入光源供電連接裝置，并通過其上的固定螺紋a1和固定螺紋b2利用螺絲固定，松開螺絲可以在空心圓柱腔體5中調(diào)整光源供電連接裝置的高度。本發(fā)明可以在空心圓柱腔體5內(nèi)旋轉(zhuǎn)調(diào)整角度，可以解決不同鹵素?zé)?0燈絲長度不同造成在濾光片上成像不同的問題；同時鹵素?zé)?0在光路中的高度也可以調(diào)整，擴(kuò)展了該光源可用的鹵素?zé)舴秶?/p>

光源供電連接裝置為四氟材料加工的圓柱體結(jié)構(gòu)，內(nèi)部開有兩個導(dǎo)電槽6，導(dǎo)電槽6內(nèi)裝有導(dǎo)電銅片7，將鹵素?zé)?0的引腳9和電源線8實現(xiàn)電性連接，通過向?qū)щ姴?插入鹵素?zé)?0實現(xiàn)燈泡自鎖，可以有效降低光源通過燈座向設(shè)備其他元件傳遞熱量；導(dǎo)電槽6的長度為1厘米，可以安裝引腳中心距4-10mm范圍內(nèi)的鹵素?zé)?0，即g4-g10等多種型號。光源供電連接裝置安裝在空心圓柱腔體5內(nèi)，實現(xiàn)360度旋轉(zhuǎn)調(diào)整燈絲大小，并通過上下移動調(diào)節(jié)光源高度，以適應(yīng)不同燈頭的鹵素?zé)?0。導(dǎo)電銅片7在空心圓柱腔體5內(nèi)通過鹵素?zé)?0的引腳9的擠壓固定鹵素?zé)?0，并連接電源線8。

本發(fā)明已用于hs-2型紅外水分計的使用。在光源和反射鏡之間安裝可調(diào)節(jié)紅外光源，并使用g4和gu10兩種型號的鹵素?zé)粼诠饴分羞M(jìn)行調(diào)整。在設(shè)備機(jī)架中反射鏡和鹵素?zé)舻墓饴穼?yīng)滑槽a3和滑槽b4位置開一個固定槽，當(dāng)光源位置調(diào)整好后，用螺絲穿過滑槽a3和滑槽b4和固定槽，利用螺母鎖緊可調(diào)整光源基座。將電源線8的一端金屬絲綁在導(dǎo)電銅片7的圓孔上，穿過導(dǎo)電槽6，將鹵素?zé)?0的引腳9裝入空心圓柱腔體5并卡住。將光源供電連接裝置穿過空心圓柱腔體5，打開光源進(jìn)行調(diào)整?？梢钥吹皆诰酃鉃V光片上呈現(xiàn)出燈絲的相。安裝g4規(guī)格的鹵素?zé)?0，調(diào)整鹵素?zé)?0的高度可以有效改變燈絲成像在濾光片的位置，調(diào)節(jié)光源基座和反射鏡位置可以調(diào)整燈絲成像的清晰度，旋轉(zhuǎn)鹵素?zé)?0可以調(diào)整燈絲相的大小，將更多的能量聚焦在濾光片上，從而提高紅外水分計的測量能量，提高了測量量程。更換gu10的鹵素?zé)?，由于燈絲長度、高度等規(guī)格發(fā)生變化，直接更換后，系統(tǒng)燈絲成像無法對準(zhǔn)濾光片，燈絲范圍超出了濾光片接收面積，造成系統(tǒng)探測不準(zhǔn)確，通過旋轉(zhuǎn)光源供電連接裝置角度和其固定高度，可以將燈絲成像調(diào)整到濾光片中心位置，使水分計正常工作。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于紅外光源技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種可調(diào)節(jié)紅外光源。包括可調(diào)整光源基座、鹵素?zé)艏肮庠垂╇娺B接裝置；可調(diào)整光源基座的中心為空心圓柱腔體，光源供電連接裝置插入空心圓柱腔體中，可在空心圓柱腔體中旋轉(zhuǎn)并上下移動；光源供電連接裝置為圓柱體結(jié)構(gòu)，內(nèi)部開有兩個導(dǎo)電槽，導(dǎo)電槽內(nèi)裝有導(dǎo)電銅片，電源線的金屬絲綁在導(dǎo)電銅片的圓孔上，穿過導(dǎo)電槽，將鹵素?zé)舻囊_裝入空心圓柱腔體并卡住。本發(fā)明可以解決現(xiàn)有光源無法調(diào)節(jié)、無法使用多種規(guī)格鹵素?zé)舻膯栴}。

技術(shù)研發(fā)人員：關(guān)鍵;馮威鋒;王騰飛;侯錄;柳杰;侯江;姜玲玲
受保護(hù)的技術(shù)使用者：核工業(yè)北京化工冶金研究院
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.27
技術(shù)公布日：2017.07.14