本技術(shù)涉及vuv光譜儀，具體是一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器。

背景技術(shù)：

1、vuv光譜儀在材料分析，生物化學(xué)等方面有著重要的應(yīng)用，但因其紫外輻射會(huì)被大氣中大多數(shù)氣體吸收而無(wú)法透過(guò)，所以光譜儀在運(yùn)行過(guò)程需要高真空或超高真空。vuv光譜儀主要在高真空或者超高真空內(nèi)運(yùn)行，同時(shí)譜儀進(jìn)行表面物理研究時(shí)需要較高的潔凈度。在各種條件要求下普通的光學(xué)斬波器無(wú)法應(yīng)用在vuv光譜儀上，如圖5所示，當(dāng)前市場(chǎng)上的光學(xué)斬波器主要為風(fēng)扇式，在一定轉(zhuǎn)速下將連續(xù)光調(diào)制成固定周期性的斷續(xù)光，把恒定光源變成脈沖光源。同時(shí)頻率測(cè)量裝置測(cè)量斬波頻率，輸出與脈沖光源同頻的脈沖信號(hào)，用于搭配鎖相進(jìn)行信號(hào)捕捉放大使用。該種光學(xué)斬波器設(shè)計(jì)只輸出一路透射光信號(hào)，另一路阻擋狀態(tài)無(wú)法進(jìn)行光的利用。

2、vuv光譜儀需要對(duì)光進(jìn)行透射和反射兩種利用，所以光學(xué)斬波器需要滿足對(duì)紫外光的反射與透射兩種狀態(tài)，同時(shí)測(cè)頻模塊需要測(cè)量脈沖光頻率并輸出，同時(shí)vuv光譜儀光學(xué)斬波器需要兼容于高真空。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種能同時(shí)利用反射和透射光測(cè)定光譜頻率的斬波器，結(jié)構(gòu)更簡(jiǎn)單。

2、本實(shí)用新型的目的可以通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

3、一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，包括陶瓷光電開(kāi)關(guān)、斬波片、驅(qū)動(dòng)裝置和擋光片，所述斬波片包括至少兩片同心連接的扇葉，相鄰兩片扇葉之間設(shè)置有用于光波透過(guò)的缺口，所述擋光片的扇葉和缺口數(shù)量與斬波片相同，且擋光片每個(gè)扇葉和缺口與斬波片每個(gè)扇葉和缺口一一對(duì)應(yīng)，兩個(gè)對(duì)應(yīng)的扇葉具有相同圓心角，所述擋光片的最大半徑小于所述斬波片，所述斬波片和擋光片依次同軸連接在驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)主軸端，且通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)，所述陶瓷光電開(kāi)關(guān)設(shè)置在所述擋光片的下方，用于感應(yīng)擋光片的位置。

4、所述斬波片和擋光片通過(guò)定位卡環(huán)同軸連接在所述驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)主軸端。

5、所述斬波片遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)裝置一面鍍有反射膜。

6、所述反射膜為金膜或鋁膜，所述反射膜發(fā)射面的粗糙度rms值小于等于3。

7、所述斬波片的扇葉數(shù)量為五片，且五片扇葉沿軸向圓周均布。

8、所述驅(qū)動(dòng)裝置包括用于真空環(huán)境的無(wú)刷直流伺服電機(jī)和固定座，所述固定座用于無(wú)刷直流伺服電機(jī)的固定。

9、所述斬波片的反射面在反射時(shí)與單色器所分出光束形成的入射夾角為45°。

10、所述陶瓷光電開(kāi)關(guān)連接在無(wú)刷直流伺服電機(jī)的殼體下部。

11、進(jìn)一步的方案中，所述陶瓷光電開(kāi)關(guān)包括光電開(kāi)關(guān)和陶瓷基板，所述光電開(kāi)關(guān)一體連接在陶瓷基板上。

12、進(jìn)一步的方案中，所述光電開(kāi)關(guān)為u型光電開(kāi)關(guān)。

13、本實(shí)用新型的有益效果：

14、本實(shí)用新型通過(guò)與斬波片同軸設(shè)置的擋光片，更方便與陶瓷光電開(kāi)關(guān)感應(yīng)，可減小整個(gè)斬波器一體安裝于光路時(shí)的體積，使得結(jié)構(gòu)更簡(jiǎn)單，可采用較小尺寸的陶瓷光電開(kāi)關(guān)，使得整體結(jié)構(gòu)更小更簡(jiǎn)單。

15、采用陶瓷基板的陶瓷光電開(kāi)關(guān)可以使得該光電開(kāi)關(guān)兼容真空環(huán)境中使用。

16、斬波片鍍反射膜可以用于反射光反射信號(hào)的收集，用于參考，可以使得探測(cè)數(shù)據(jù)更精確。

技術(shù)特征：

1.一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，其特征在于，包括陶瓷光電開(kāi)關(guān)(1)、斬波片(2)、驅(qū)動(dòng)裝置(3)和擋光片(4)，所述斬波片(2)包括至少兩片同心連接的扇葉，相鄰兩片扇葉之間設(shè)置有用于光波透過(guò)的缺口，所述擋光片(4)的扇葉和缺口數(shù)量與斬波片(2)相同，且擋光片(4)每個(gè)扇葉和缺口與斬波片(2)每個(gè)扇葉和缺口一一對(duì)應(yīng)，兩個(gè)對(duì)應(yīng)的扇葉具有相同圓心角，所述擋光片(4)的最大半徑小于所述斬波片(2)，所述斬波片(2)和擋光片(4)依次同軸連接在驅(qū)動(dòng)裝置(3)的驅(qū)動(dòng)主軸端，且通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置(3)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)，所述陶瓷光電開(kāi)關(guān)(1)設(shè)置在所述擋光片(4)的下方，用于感應(yīng)擋光片(4)的位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，其特征在于，所述斬波片(2)和擋光片(4)通過(guò)定位卡環(huán)(5)同軸連接在所述驅(qū)動(dòng)裝置(3)的驅(qū)動(dòng)主軸端。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，其特征在于，所述斬波片(2)遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)裝置(3)一面鍍有反射膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，其特征在于，所述反射膜為金膜或鋁膜，所述反射膜發(fā)射面的粗糙度rms值小于等于3。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，其特征在于，所述斬波片(2)的扇葉數(shù)量為五片，且五片扇葉沿軸向圓周均布。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置(3)包括用于真空環(huán)境的無(wú)刷直流伺服電機(jī)(31)和固定座(32)，所述固定座(32)用于無(wú)刷直流伺服電機(jī)(31)的固定。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，其特征在于，所述斬波片(2)的反射面在反射時(shí)與單色器所分出光束形成的入射夾角為45°。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，其特征在于，所述陶瓷光電開(kāi)關(guān)(1)連接在無(wú)刷直流伺服電機(jī)(31)的殼體下部。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，其特征在于，所述陶瓷光電開(kāi)關(guān)(1)包括光電開(kāi)關(guān)(11)和陶瓷基板(12)，所述光電開(kāi)關(guān)(11)一體連接在陶瓷基板(12)上。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種用于vuv光譜儀光學(xué)斬波器，其特征在于，所述光電開(kāi)關(guān)(11)為u型光電開(kāi)關(guān)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及VUV光譜儀技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種用于VUV光譜儀光學(xué)斬波器，包括陶瓷光電開(kāi)關(guān)、斬波片、驅(qū)動(dòng)裝置和擋光片，斬波片包括至少兩片同心連接的扇葉，相鄰兩片扇葉之間設(shè)置有用于光波透過(guò)的缺口，擋光片的扇葉和缺口數(shù)量與斬波片相同，且擋光片每個(gè)扇葉和缺口與斬波片每個(gè)扇葉和缺口一一對(duì)應(yīng)，兩個(gè)對(duì)應(yīng)的扇葉具有相同圓心角，擋光片的最大半徑小于斬波片，斬波片和擋光片依次同軸連接在驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)主軸端，且通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)，陶瓷光電開(kāi)關(guān)設(shè)置在擋光片的下方，用于感應(yīng)擋光片的位置。該斬波器能同時(shí)利用反射和透射光測(cè)定光譜頻率，結(jié)構(gòu)更簡(jiǎn)單。

技術(shù)研發(fā)人員：湯建軍,習(xí)建博,唐逸軒,李朝陽(yáng)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：安徽創(chuàng)譜儀器科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231205
技術(shù)公布日：2024/7/29