本技術涉及光澤度測量儀器，尤其涉及一種接觸與非接觸兩用光澤度儀。

背景技術：

1、光澤度儀是用來數(shù)據(jù)化測量物體表面光澤度的光學儀器，接觸式光澤度儀需要將測量口壓緊被測物體表面進行測量。隨著自動化在線檢測的逐步應用，出現(xiàn)了非接觸式光澤度儀，測量時將其懸置在傳送帶上方，使測量口與被測物體表面保持固定的距離進行測量，類似板材、卷材在傳送帶上連續(xù)運動不受影響。

2、但在自動化應用前期，例如用于標準樣品對比或與其他儀器做數(shù)據(jù)對比以及小批量的樣品調(diào)試等，這些情況下仍然需要采用接觸式測量方式，采用非接觸測量光澤度儀就較難實現(xiàn)。因此，光澤度儀在前期調(diào)試驗證與后期自動化在線檢測應用場景之間切換使用的問題亟需解決。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的是提供一種接觸與非接觸兩用光澤度儀，通過根據(jù)光澤度儀的非接觸測量距離設置磁吸式測量支架，在接觸式測量時裝上測量支架，在非接觸測量時則取下測量支架以使測量口表面保持在規(guī)定的非接觸距離，實現(xiàn)接觸式、非接觸式兩用光澤度儀，接觸測量模式與非接觸測量模式轉(zhuǎn)換方便，極大方便了用戶在前期調(diào)試驗證與后期自動化在線檢測應用場景之間的轉(zhuǎn)換。

2、為實現(xiàn)上述目的，采用以下技術方案：

3、一種接觸與非接觸兩用光澤度儀，包括儀器主體、與儀器主體可拆卸式連接的測量支架，以及與測量支架可拆卸式連接的校正標準板；所述測量支架與儀器主體經(jīng)至少一第一磁吸組件連接；所述儀器主體上開設有測量口，測量支架上對應該測量口開設有測量通孔；所述校正標準板經(jīng)至少一第二磁吸組件與測量支架連接；所述測量支架的厚度等于在非接觸測量時測量口表面與被測物體表面的距離。

4、優(yōu)選地，所述第一磁吸組件、第二磁吸組件均包括磁吸定位柱，以及與磁吸定位柱相匹配的磁吸塊。

5、優(yōu)選地，所述儀器主體上對應每一第一磁吸組件開設有一第一定位槽，每一第一磁吸組件的磁吸塊嵌入一第一定位槽內(nèi)安裝固定；所述第一磁吸組件的磁吸定位柱可伸入對應的第一定位槽內(nèi)與磁吸塊吸附固定。

6、優(yōu)選地，所述測量支架上對應每一第二磁吸組件開設有一第二定位槽，每一第二磁吸組件的磁吸塊嵌入一第二定位槽內(nèi)安裝固定；所述第二磁吸組件的磁吸定位柱可伸入對應的第二定位槽內(nèi)與磁吸塊吸附固定。

7、優(yōu)選地，所述儀器主體包括殼體，以及設于殼體內(nèi)并鏡像布置的光源光路與接收光路；所述光源光路以一定的角度發(fā)射標準光束經(jīng)測量口照射被測物體表面，并經(jīng)接收光路以鏡像角度接收被測物體表面反射的光。

8、優(yōu)選地，所述殼體的側(cè)面開設有若干安裝孔，用于與外部安裝固定。

9、優(yōu)選地，所述殼體上還安裝有顯示屏、按鍵及usb口。

10、采用上述方案，本實用新型的有益效果是：

11、本實用新型通過根據(jù)光澤度儀的非接觸測量距離設置磁吸式測量支架，在接觸式測量時裝上測量支架，在非接觸測量時則取下測量支架以使測量口表面保持在規(guī)定的非接觸距離，實現(xiàn)接觸式、非接觸式兩用光澤度儀，接觸測量模式與非接觸測量模式轉(zhuǎn)換方便，極大方便了用戶在前期調(diào)試驗證與后期自動化在線檢測應用場景之間的轉(zhuǎn)換。此外，通過設置磁吸式的校正標準板，當儀器需要校正時，先裝上測量支架，再裝上校正標準板即可進行校正，對于自動化應用后的定期校正更為方便。

技術特征：

1.一種接觸與非接觸兩用光澤度儀，其特征在于，包括儀器主體、與儀器主體可拆卸式連接的測量支架，以及與測量支架可拆卸式連接的校正標準板；所述測量支架與儀器主體經(jīng)至少一第一磁吸組件連接；所述儀器主體上開設有測量口，測量支架上對應該測量口開設有測量通孔；所述校正標準板經(jīng)至少一第二磁吸組件與測量支架連接；所述測量支架的厚度等于在非接觸測量時測量口表面與被測物體表面的距離。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接觸與非接觸兩用光澤度儀，其特征在于，所述第一磁吸組件、第二磁吸組件均包括磁吸定位柱，以及與磁吸定位柱相匹配的磁吸塊。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接觸與非接觸兩用光澤度儀，其特征在于，所述儀器主體上對應每一第一磁吸組件開設有一第一定位槽，每一第一磁吸組件的磁吸塊嵌入一第一定位槽內(nèi)安裝固定；所述第一磁吸組件的磁吸定位柱可伸入對應的第一定位槽內(nèi)與磁吸塊吸附固定。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接觸與非接觸兩用光澤度儀，其特征在于，所述測量支架上對應每一第二磁吸組件開設有一第二定位槽，每一第二磁吸組件的磁吸塊嵌入一第二定位槽內(nèi)安裝固定；所述第二磁吸組件的磁吸定位柱可伸入對應的第二定位槽內(nèi)與磁吸塊吸附固定。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接觸與非接觸兩用光澤度儀，其特征在于，所述儀器主體包括殼體，以及設于殼體內(nèi)并鏡像布置的光源光路與接收光路；所述光源光路以一定的角度發(fā)射標準光束經(jīng)測量口照射被測物體表面，并經(jīng)接收光路以鏡像角度接收被測物體表面反射的光。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的接觸與非接觸兩用光澤度儀，其特征在于，所述殼體的側(cè)面開設有若干安裝孔，用于與外部安裝固定。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的接觸與非接觸兩用光澤度儀，其特征在于，所述殼體上還安裝有顯示屏、按鍵及usb口。

技術總結(jié)
本技術公開一種接觸與非接觸兩用光澤度儀，包括儀器主體、與儀器主體可拆卸式連接的測量支架，以及與測量支架可拆卸式連接的校正標準板；所述測量支架與儀器主體經(jīng)至少一第一磁吸組件連接；所述儀器主體上開設有測量口，測量支架上對應該測量口開設有測量通孔；所述校正標準板經(jīng)至少一第二磁吸組件與測量支架連接；所述測量支架的厚度等于在非接觸測量時測量口表面與被測物體表面的距離。本技術通過根據(jù)光澤度儀的非接觸測量距離設置磁吸式測量支架，在接觸式測量時裝上測量支架，在非接觸測量時則取下測量支架以使測量口表面保持在規(guī)定的非接觸距離，實現(xiàn)接觸式、非接觸式兩用光澤度儀。

技術研發(fā)人員：蘇朝陽,陳東華
受保護的技術使用者：廣東三恩時智能科技有限公司
技術研發(fā)日：20231215
技術公布日：2024/12/19