本發(fā)明涉及一種分光裝置。

背景技術：

1、在紅外分光分析中，提出了如下技術：通過使用在量子力學上具有相關性的光子對，從而不需要紅外線的檢測，能夠通過僅檢測可見光來進行分光分析(例如參照非專利文獻1、非專利文獻2以及非專利文獻3)。

2、現(xiàn)有技術文獻

3、非專利文獻

4、非專利文獻1：anna?paterova,hongzhi?yang,chengwu?an,dmitry?kalashnikovand?leonid?krivitsky,“measurement?of?infrared?optical?constants?with?visiblephotons”,new?journal?of?physics,april?2018,volume?20?043015

5、非專利文獻2：chiara?lindner,sebastian?wolf,jens?kiessling,and?drankkuhnemann,“fourier?transforminfrared?spectroscopy?with?visible?light”,opticsexpress,vol.28,issue?4,pp.4426-4432(2020)

6、非專利文獻3：y.mukai,m.arahata,t.tashima,r.okamoto,and?s.takeuchi,“quantum?fourier-transform?infrared?spectroscopy?for?complex?transmittancemeasurements”,physical?review?applied,vol.15,issue?3,march?2021

技術實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問題

2、然而，在進行光子對的生成等的光學系統(tǒng)中存在如下問題：在產(chǎn)生了雜散光、干擾光、光學元件的熒光等噪光的情況下，分光分析的精度由于該噪光的影響而變差。

3、本發(fā)明的目的在于提供一種能夠抑制因噪光的影響導致的精度的降低的分光裝置。

4、用于解決問題的方案

5、在本說明書中包含在2022年3月8日申請的日本專利申請/日本特愿2022-035693號的全部內(nèi)容。

6、本發(fā)明的一個方式是，一種分光裝置，具備：光源，其射出泵浦光；量子光學系統(tǒng)，其具有一個以上的非線性光學元件，并且具備試樣配置器具，所述泵浦光入射到所述非線性光學元件，所述非線性光學元件通過糾纏光子對產(chǎn)生過程來從所述泵浦光產(chǎn)生閑頻光及信號光的光子對，所述試樣配置器具用于將試樣配置在所述閑頻光的光路上；檢測部，其檢測從所述量子光學系統(tǒng)輸出的光的光強度；以及解析裝置，其基于所述光強度來獲取干涉圖，其中，所述量子光學系統(tǒng)構(gòu)成為使第一信號光和第二信號光以互不相同的光程射出，所述檢測部具備從所述量子光學系統(tǒng)接收第一信號光和第二信號光的分束器，所述檢測部對從所述分束器射出的兩束光各自的光強度進行檢測，所述解析裝置根據(jù)由所述檢測部檢測到的所述兩束光來獲取所述干涉圖。

7、發(fā)明的效果

8、根據(jù)本發(fā)明的一個方式，能夠抑制因噪光的影響導致的精度的降低。

技術特征：

1.一種分光裝置，具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分光裝置，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分光裝置，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的分光裝置，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分光裝置，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分光裝置，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的分光裝置，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分光裝置，其中，

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分光裝置，其中，

技術總結(jié)
本發(fā)明抑制因噪光的影響導致的精度的降低。分光裝置(1)具備：光源(2)；量子光學系統(tǒng)(4)，其具有一個以上的非線性光學元件(12)，并且具備試樣配置器具(35)，所述非線性光學元件(12)通過糾纏光子對產(chǎn)生過程來從所述泵浦光產(chǎn)生閑頻光及信號光的光子對，所述試樣配置器具(35)用于將試樣(SP)配置在所述閑頻光的光路上；檢測部(6)，其檢測從所述量子光學系統(tǒng)(4)輸出的光的光強度；以及解析裝置(8)。所述量子光學系統(tǒng)(4)構(gòu)成為使第一、第二信號光(s1、s2)以互不相同的光程射出，所述檢測部(6)具備從所述量子光學系統(tǒng)(4)接收第一、第二信號光(s1、s2)的分束器(40)，所述檢測部(6)對從所述分束器(40)射出的兩束光各自的光強度進行檢測，所述解析裝置(8)根據(jù)由所述檢測部(6)檢測到的所述兩束光來獲取干涉圖。

技術研發(fā)人員：久光守,若林直樹,德田勝彥
受保護的技術使用者：株式會社島津制作所
技術研發(fā)日：
技術公布日：2024/12/19