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      磁傳感器裝置的制作方法

      文檔序號(hào):40442969發(fā)布日期:2024-12-24 15:17閱讀:18來源:國(guó)知局
      磁傳感器裝置的制作方法

      本公開涉及磁傳感器裝置。


      背景技術(shù):

      1、具有利用粘接劑將在傳感器基板上設(shè)置有磁檢測(cè)元件的傳感器芯片粘接于支承基板的磁傳感器裝置。例如,在專利文獻(xiàn)1中公開有如下磁傳感器裝置:分別準(zhǔn)備包含生成檢測(cè)信號(hào)的磁傳感器的第一芯片及第二芯片、和包含用于對(duì)檢測(cè)信號(hào)進(jìn)行處理的專用集成電路(asic)的支承體,利用粘接劑將第一芯片及第二芯片與支承體接合。

      2、在這種磁傳感器裝置中,優(yōu)選以從傳感器基板的粘接面稍微露出的方式涂布粘接劑。如果粘接劑的涂布量不足,則容易以未涂布粘接劑的部位為起點(diǎn)產(chǎn)生剝離,粘接強(qiáng)度可能降低。如果粘接劑的涂布量過量,則從傳感器基板露出的粘接劑附著于asic等表面的電極,連接可靠性可能降低。

      3、如果在傳感器基板的粘接面上形成有底孔或貫通孔,則即使涂布量稍微變化,通過表面張力,從傳感器芯片露出的粘接劑的量也不易變化。因?yàn)檎辰訉幼兒瘢哉辰訌?qiáng)度也提高。在專利文獻(xiàn)2中公開一種半導(dǎo)體裝置,雖然不是磁傳感器裝置,但經(jīng)由粘接層將半導(dǎo)體元件搭載于支承體上,其中,在面向支承基板的半導(dǎo)體元件的背面上形成凹部。

      4、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

      5、專利文獻(xiàn)

      6、專利文獻(xiàn)1:日本特開2023-10557號(hào)公報(bào)

      7、專利文獻(xiàn)2:日本特開2010-205893號(hào)公報(bào)


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、發(fā)明所要解決的問題

      2、但是,磁傳感器裝置與專利文獻(xiàn)2所記載的半導(dǎo)體裝置不同,具備由磁性材料構(gòu)成的磁檢測(cè)元件。當(dāng)對(duì)磁性材料施加外力時(shí),由于逆磁致伸縮效應(yīng),相對(duì)于磁場(chǎng)的響應(yīng)會(huì)變動(dòng)。特別是隧道磁阻效應(yīng)元件具有mr比大的優(yōu)異的輸出特性,另一方面,輸出特性容易因外力而變動(dòng)。而且,當(dāng)在傳感器基板上形成有底孔或貫通孔時(shí),傳感器基板的板厚局部變化,因此,傳感器基板由于溫度變化而膨脹或收縮時(shí)的熱變形變得不均等,可能對(duì)磁檢測(cè)元件作用熱應(yīng)力。

      3、本公開是鑒于這種情況而研發(fā)的,其目的在于,提供能夠在支承基板上適當(dāng)固定傳感器基板、且輸出特性穩(wěn)定的磁傳感器裝置。

      4、用于解決問題的技術(shù)方案

      5、本公開的一方式提供一種磁傳感器裝置,其具備支承基板、和固定于支承基板的傳感器基板。傳感器基板具有面向支承基板的第一面、和位于與第一面相反的一側(cè)的第二面,即設(shè)置有包含多個(gè)磁檢測(cè)元件的功能膜的所述第二面,在第一面形成有孔部,孔部的輪廓包含至少一個(gè)拐角,至少一個(gè)拐角在沿著從第二面朝向第一面的法線方向觀察的俯視時(shí)包含與多個(gè)磁檢測(cè)元件的至少一個(gè)重疊的第一拐角,該第一拐角的曲率半徑形成為5μm以上。

      6、根據(jù)該方式,在傳感器基板上形成有孔部,因此,與不形成孔部的情況相比,即使粘接劑的涂布量變化,從傳感器基板的下表面露出的粘接劑的量也不易變化。粘接層變厚,粘接強(qiáng)度也提高。因此,能夠在支承基板上適當(dāng)粘接傳感器基板??撞靠梢允菑牡谝幻娉虻诙姘枷莸挠械卓祝部梢允菑牡谝幻尕炌ㄖ恋诙娴呢炌?。在俯視時(shí),如果孔部的輪廓的拐角的曲率半徑較小,則容易在與該拐角重疊的位置受到熱應(yīng)力的影響。根據(jù)該方式,能夠以與曲率半徑為5μm以上的第一拐角重疊的方式配置磁檢測(cè)元件。與必須避開所有孔部的拐角的情況相比,對(duì)磁檢測(cè)元件的排列的制約少,設(shè)計(jì)的自由度優(yōu)異。與曲率半徑為5μm以上的拐角重疊的位置比不與拐角重疊的位置稍微容易受到熱應(yīng)力的影響,但相較于與曲率半徑低于5μm的拐角重疊的位置時(shí),熱應(yīng)力的影響充分小,因此,能夠提供輸出特性穩(wěn)定的磁傳感器裝置。

      7、在所述方式中,也可以是,傳感器基板使用粘接劑固定于所述支承基板上,在孔部填充有粘接劑。

      8、根據(jù)該方式,能夠利用粘接劑在支承基板上適當(dāng)固定傳感器基板。

      9、在所述方式中,也可以是,至少一個(gè)拐角為多個(gè)拐角,輪廓是使多個(gè)拐角全部帶有曲率半徑為5μm以上的r角的多邊形。

      10、根據(jù)該方式,無論將磁檢測(cè)元件配置于哪一拐角,熱應(yīng)力的影響也較小,因此,不需要留意不能配置磁檢測(cè)元件的拐角。設(shè)計(jì)的自由度優(yōu)異。

      11、在所述方式中,也可以是,在俯視時(shí),多個(gè)磁檢測(cè)元件包含被配置為與輪廓重疊的至少一個(gè)第一磁檢測(cè)元件、和被配置為不與輪廓重疊的多個(gè)第二磁檢測(cè)元件,多個(gè)第二磁檢測(cè)元件的一部分在俯視時(shí)配置于輪廓的內(nèi)側(cè),多個(gè)第二磁檢測(cè)元件的剩余部分在俯視時(shí)配置于輪廓的外側(cè)。在所述方式中,也可以是,多個(gè)磁檢測(cè)元件還包含在俯視時(shí)配置為不與輪廓重疊的至少一個(gè)第二磁檢測(cè)元件,至少一個(gè)第二磁檢測(cè)元件的全部在俯視時(shí)配置于輪廓的內(nèi)側(cè)。至少一個(gè)第二磁檢測(cè)元件的全部也可以在俯視時(shí)配置于所述輪廓的外側(cè)。

      12、根據(jù)這些方式,能夠使與輪廓重疊的第一磁檢測(cè)元件和不與輪廓重疊的第二磁檢測(cè)元件混合存在,跨越輪廓的內(nèi)外地配置第二磁檢測(cè)元件,也能夠僅在輪廓的內(nèi)側(cè)配置第二磁檢測(cè)元件,還可以僅在輪廓的外側(cè)配置第二磁檢測(cè)元件。對(duì)磁檢測(cè)元件的排列的制約少,設(shè)計(jì)的自由度優(yōu)異。

      13、在所述方式中,也可以是,孔部是從第一面朝向第二面凹陷的有底孔,有底孔的深度在法線方向上為傳感器基板的板厚的一半以下。

      14、孔部越深,板厚的差在孔部和孔部以外越大,在傳感器基板由于溫度變化而膨脹或收縮時(shí),磁檢測(cè)元件越容易受到熱應(yīng)力的影響。根據(jù)該方式,孔部和孔部以外的差為板厚的一半以下,因此,能夠提供熱應(yīng)力的影響不易過大、輸出特性穩(wěn)定的磁傳感器裝置。

      15、在所述方式中,也可以是,還具備配線層,該配線層在法線方向上設(shè)置于比功能膜更遠(yuǎn)離支承基板的層,在俯視時(shí),多個(gè)磁檢測(cè)元件中的每一個(gè)配置于配線層的輪廓的內(nèi)側(cè)。

      16、當(dāng)將磁檢測(cè)元件配置于配線層的輪廓的內(nèi)側(cè)時(shí),與沒有配線層的情況相比,磁檢測(cè)元件不易受到熱應(yīng)力的影響。

      17、在所述方式中,也可以是,孔部具有相對(duì)于法線方向傾斜的內(nèi)表面,多個(gè)磁檢測(cè)元件中的每一個(gè)被配置為在俯視時(shí)不與內(nèi)表面重疊。

      18、與傾斜的內(nèi)表面重疊的位置容易受到熱應(yīng)力的影響。根據(jù)該方式,多個(gè)磁檢測(cè)元件中的每一個(gè)不與傾斜的內(nèi)表面重疊,因此,能夠提供不易受到熱應(yīng)力的影響、輸出特性穩(wěn)定的磁傳感器裝置。

      19、在所述方式中,也可以是角度傳感器具備磁傳感器裝置,也可以是磁羅盤具備磁傳感器裝置,也可以是電流傳感器具備磁傳感器裝置,還可以是攝像機(jī)模塊的自動(dòng)聚焦機(jī)構(gòu)和/或光學(xué)式抖動(dòng)校正機(jī)構(gòu)具備磁傳感器裝置。

      20、根據(jù)這些方式,能夠?qū)⒋艂鞲衅餮b置應(yīng)用于各種目的。

      21、發(fā)明效果

      22、根據(jù)本公開,能夠提供能夠在支承基板上適當(dāng)固定傳感器基板、輸出特性穩(wěn)定的磁傳感器裝置。



      技術(shù)特征:

      1.一種磁傳感器裝置,其具備:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置,其中,

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置,其中,

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置,其中,

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置,其中,

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置,其中,

      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置,其中,

      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置,其中,

      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置,其中,

      10.一種角度傳感器,其具備權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置。

      11.一種磁羅盤,其具備權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置。

      12.一種電流傳感器,其具備權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置。

      13.一種攝像機(jī)模塊,其包含具備權(quán)利要求1所述的磁傳感器裝置的自動(dòng)聚焦機(jī)構(gòu)和/或光學(xué)式抖動(dòng)校正機(jī)構(gòu)。


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供能夠在支承基板上適當(dāng)固定傳感器基板、且輸出特性穩(wěn)定的磁傳感器裝置。磁傳感器裝置(1)具備支承基板(2)、和固定于支承基板(2)上的傳感器基板(10)。傳感器基板(10)具有面向支承基板(2)的第一面(10B)、和位于與第一面(10B)相反的一側(cè)的第二面(10A)即設(shè)置有包含多個(gè)磁檢測(cè)元件(E)的功能膜(20)的第二面(10A),在第一面(10B)上形成有孔部(11),孔部(11)的輪廓(O11)包含至少一個(gè)拐角(C1、C2、C3…),在沿著從第二面(10A)朝向第一面(10B)的法線方向(Z)觀察的俯視時(shí),至少一個(gè)拐角(C1、C2、C3…)包含與多個(gè)磁檢測(cè)元件(E)的至少一個(gè)重疊的第一拐角(C1),該第一拐角(C1)的曲率半徑形成為5μm以上。

      技術(shù)研發(fā)人員:山脅和真
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:TDK株式會(huì)社
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/23
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