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      分立器件FV-MI模式測試防燒針的裝置的制作方法

      文檔序號:40361147發(fā)布日期:2024-12-18 13:42閱讀:16來源:國知局
      分立器件FV-MI模式測試防燒針的裝置的制作方法

      本發(fā)明涉及半導(dǎo)體,特別是涉及一種分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置。


      背景技術(shù):

      1、分立器件靜態(tài)測試igss/idss等測試項本質(zhì)上都是fv-mi(施加電壓量測電流)模式,idss測試原理圖如下圖1:將g/s短接,在d-s間施加特定的電壓,量測其兩端的漏電流,用以檢測d-s間是否存在異常;igss測試原理圖如下圖2:d/s短接,在g-s間施加特定的電壓,量測回路中的電流,用以檢測柵極氧化膜是否存在異常。

      2、igss/idss測試fv-mi時典型的電流隨時間變化的關(guān)系如圖3,正常測試時需要施加的電壓或電流維持一段時間關(guān)系圖才趨于穩(wěn)定。

      3、考慮到產(chǎn)品的差異性,量產(chǎn)測試時必須留夠足夠的施加時間來確保電壓或者電流穩(wěn)定,在此期間,被測die承受不住高壓會造成測試回路電流增大,此時若正好針尖與pad(焊墊)接觸處存在鋁屑等玷污致使此處電阻增大分壓升高,會在高電壓大電流下持續(xù)升溫融化更多鋁屑等玷污造成針尖處電阻進(jìn)一步增大分壓僅一步升高,如此正向的激勵反饋下,針尖處電阻越來愈大分壓越來越高,累積熱量越來越多(q=u*i*t),最終造成測試針卡的針尖融化燒毀(典型的燒針照片如圖4)。

      4、為解決上述問題,需要提出一種新型的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置。


      技術(shù)實現(xiàn)思路

      1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本發(fā)明的目的在于提供一種分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中測試針卡的針尖融化燒毀的問題。

      2、為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本發(fā)明提供一種分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,包括:

      3、測試源,其包括高電位和低電位;

      4、固定于卡盤上的被測die,卡盤與測試源的高電位連接;

      5、探針卡,其與測試源的低電位端之間串接有標(biāo)準(zhǔn)電阻,標(biāo)準(zhǔn)電阻用以檢測測試回路中的電流;

      6、外接的低開啟電壓且高耐壓大功率的標(biāo)準(zhǔn)mosfet,其中,

      7、測試時若回路中的電流異常偏大,引起標(biāo)準(zhǔn)電阻分壓增大,則外接的標(biāo)準(zhǔn)mosfet被導(dǎo)通從而分流途經(jīng)探針卡的電流,通過控制流經(jīng)探針卡的電流來避免燒針。

      8、優(yōu)選地,所述測試模式為idss測試,標(biāo)準(zhǔn)mosfet的源漏兩端與測試源的高、低電位端并聯(lián),柵端短接到標(biāo)準(zhǔn)電阻的高電位處。

      9、優(yōu)選地,所述標(biāo)準(zhǔn)mosfet包括:多個標(biāo)準(zhǔn)mosfet?g1至gn,標(biāo)準(zhǔn)mosfet?g1至gn的漏端與測試源的高電位之間分別連接有開關(guān)kd1至kdn,標(biāo)準(zhǔn)mosfet?g1至gn的源端與測試源的低電位之間分別連接有開關(guān)ks1至ksn,標(biāo)準(zhǔn)mosfet?g1至gn的漏端與測試源的高電位之間分別連接有開關(guān)kg1至kgn。

      10、優(yōu)選地,所述標(biāo)準(zhǔn)電阻包括:多個阻值不同的電阻r1至rn,電阻r1至rn分別串接有開關(guān)k1至kn,電阻r1至rn還并聯(lián)有開關(guān)k0。

      11、優(yōu)選地,所述標(biāo)準(zhǔn)電阻用于適應(yīng)不同的標(biāo)準(zhǔn)mosfet開啟電壓vt和測試規(guī)格上限i,阻值選擇需要同時滿足rx>vt/i/k和rx<vt/i,其中,k為調(diào)整系數(shù),取值范圍為1~1000,i越小k取值越大。

      12、優(yōu)選地,所述標(biāo)準(zhǔn)mosfet的耐壓在被測die的1.5倍以上。

      13、優(yōu)選地,所述測試源的低電位接地。

      14、優(yōu)選地,若測試施加的電壓較低無燒針風(fēng)險,則測試整個過程中僅關(guān)閉開關(guān)k0,開關(guān)kdx/ksx/kgx保持全部斷開,無需做電流的控制。

      15、優(yōu)選地,若測試電壓比較高、需要進(jìn)行回路電流控制的情況下,需保證接入的標(biāo)準(zhǔn)mosfet耐壓遠(yuǎn)大于被測die的實際耐壓,之后關(guān)斷相對應(yīng)的開關(guān)kdx/ksx。

      16、優(yōu)選地,測試時可進(jìn)行多次施加電壓測試。

      17、優(yōu)選地,施加測試電壓v0后,等待短時間的t1后,為測試回路中的電容充電,打開開關(guān)k0,關(guān)閉對應(yīng)的開關(guān)kx以及kgx;等待足夠的t0時間后,正常量測漏電i1,計算標(biāo)準(zhǔn)電阻的分壓:vr1=i1*rx。

      18、優(yōu)選地,是否進(jìn)行第二次測試的判斷標(biāo)準(zhǔn)為:vr1/v0>b1%且vr1>=s1、并且第一次測試電流在規(guī)格內(nèi),其中b1以及s1根據(jù)測試精度要求在程序內(nèi)設(shè)定固定的值。

      19、優(yōu)選地,是否進(jìn)行后續(xù)多次測試的判斷標(biāo)準(zhǔn)為:vrx/v0>b1%且vrx>=s1、并且上次測試電流在規(guī)格內(nèi),定義vrx為標(biāo)準(zhǔn)電阻rx當(dāng)前次測試分壓值減去上次測試分壓值,其中b1以及s1根據(jù)測試精度要求在程序內(nèi)設(shè)定固定的值。

      20、優(yōu)選地,若所述標(biāo)準(zhǔn)電阻的分壓vr1較小或者i1超過規(guī)格上限,i1作為被測die的實際漏電值輸出。

      21、優(yōu)選地,若所述標(biāo)準(zhǔn)電阻的分壓vr1值較大且i1未超過規(guī)格上限并且i*rx較大,重新施加電壓:v1=v0+vr1,重新量測漏電i2,然后計算此時的標(biāo)準(zhǔn)電阻的分壓:vr2=i2*rx;定義vr21=vr2-vr1;若i2超過規(guī)格上限或者vr21值較小,i2作為被測die的實際漏電值輸出;若vr21值較大且i2未超過規(guī)格上限并且i*rx較大,重新施加電壓:v2=v0+vr2,重新量測漏電i3,重復(fù)上述判斷邏輯確定是否進(jìn)行下一次測試。

      22、優(yōu)選地,所述t1時間根據(jù)調(diào)試結(jié)果設(shè)定,其不超過2ms。

      23、優(yōu)選地,所述t0時間根據(jù)產(chǎn)品特性設(shè)定,一般在2ms~2000ms。

      24、優(yōu)選地,當(dāng)施加電壓v=v0+i*rx,本次測試值直接作為被測die的實際漏電值輸出,不用后續(xù)再次測試。

      25、優(yōu)選地,設(shè)定所述施加電壓v=v0+i*rx的條件包括:產(chǎn)品施加電壓可以大于預(yù)設(shè)值,或者滿足i*rx/v0<b2%以及i*rx<s2,其中根據(jù)產(chǎn)品特性設(shè)定b2和s2的值。

      26、如上所述,本發(fā)明的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,具有以下有益效果:

      27、本發(fā)明外接的標(biāo)準(zhǔn)mosfet被導(dǎo)通從而分流途徑探針的電流,通過控制流經(jīng)探針卡的電流來避免燒針。



      技術(shù)特征:

      1.一種分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:所述測試模式為idss測試,標(biāo)準(zhǔn)mosfet的源漏兩端與測試源的高、低電位端并聯(lián),柵端短接到標(biāo)準(zhǔn)電阻的高電位處。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:所述標(biāo)準(zhǔn)mosfet包括:多個標(biāo)準(zhǔn)mosfet?g1至gn,標(biāo)準(zhǔn)mosfet?g1至gn的漏端與測試源的高電位之間分別連接有開關(guān)kd1至kdn,標(biāo)準(zhǔn)mosfet?g1至gn的源端與測試源的低電位之間分別連接有開關(guān)ks1至ksn,標(biāo)準(zhǔn)mosfet?g1至gn的漏端與測試源的高電位之間分別連接有開關(guān)kg1至kgn,。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:所述標(biāo)準(zhǔn)電阻包括:多個阻值不同的電阻r1至rn,電阻r1至rn分別串接有開關(guān)k1至kn,電阻r1至rn還并聯(lián)有開關(guān)k0。

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:所述標(biāo)準(zhǔn)電阻用于適應(yīng)不同的標(biāo)準(zhǔn)mosfet開啟電壓vt和測試規(guī)格上限i,阻值選擇需要同時滿足rx>vt/i/k和rx<vt/i,其中,k為調(diào)整系數(shù),取值范圍為1~1000,i越小k取值越大。

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:所述標(biāo)準(zhǔn)mosfet的耐壓在被測die的1.5倍以上。

      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:所述測試源的低電位接地。

      8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:若測試施加的電壓較低無燒針風(fēng)險,則測試整個過程中僅關(guān)閉開關(guān)k0,開關(guān)kdx/ksx/kgx保持全部斷開,無需做電流的控制。

      9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:若測試電壓比較高、需要進(jìn)行回路電流控制的情況下,需保證接入的標(biāo)準(zhǔn)mosfet耐壓遠(yuǎn)大于被測die的實際耐壓,之后關(guān)斷相對應(yīng)的開關(guān)kdx/ksx。

      10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:測試時可進(jìn)行多次施加電壓測試。

      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:施加測試電壓v0后,等待短時間的t1后,為測試回路中的電容充電,打開開關(guān)k0,關(guān)閉對應(yīng)的開關(guān)kx以及kgx;等待足夠的t0時間后,正常量測漏電i1,計算標(biāo)準(zhǔn)電阻的分壓:vr1=i1*rx。

      12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:是否進(jìn)行第二次測試的判斷標(biāo)準(zhǔn)為:vr1/v0>b1%且vr1>=s1、并且第一次測試電流在規(guī)格內(nèi),其中b1以及s1根據(jù)測試精度要求在程序內(nèi)設(shè)定固定的值。

      13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:是否進(jìn)行后續(xù)多次測試的判斷標(biāo)準(zhǔn)為:vrx/v0>b1%且vrx>=s1、并且上次測試電流在規(guī)格內(nèi),定義vrx為標(biāo)準(zhǔn)電阻rx當(dāng)前次測試分壓值減去上次測試分壓值,其中b1以及s1根據(jù)測試精度要求在程序內(nèi)設(shè)定固定的值。

      14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:若所述標(biāo)準(zhǔn)電阻的分壓vr1較小或者i1超過規(guī)格上限,i1作為被測die的實際漏電值輸出。

      15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:若所述標(biāo)準(zhǔn)電阻的分壓vr1值較大且i1未超過規(guī)格上限并且i*rx較大,重新施加電壓:v1=v0+vr1,重新量測漏電i2,然后計算此時的標(biāo)準(zhǔn)電阻的分壓:vr2=i2*rx;定義vr21=vr2-vr1;若i2超過規(guī)格上限或者vr21值較小,i2作為被測die的實際漏電值輸出;若vr21值較大且i2未超過規(guī)格上限并且i*rx較大,重新施加電壓:v2=v0+vr2,重新量測漏電i3,重復(fù)上述判斷邏輯確定是否進(jìn)行下一次測試。

      16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:所述t1時間根據(jù)調(diào)試結(jié)果設(shè)定,其不超過2ms。

      17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:所述t0時間根據(jù)產(chǎn)品特性設(shè)定,一般在2ms~2000ms。

      18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:當(dāng)施加電壓v=v0+i*rx,本次測試值直接作為被測die的實際漏電值輸出,不用后續(xù)再次測試。

      19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的分立器件fv-mi模式測試防燒針的裝置,其特征在于:設(shè)定所述施加電壓v=v0+i*rx的條件包括:產(chǎn)品施加電壓可以大于預(yù)設(shè)值,或者滿足i*rx/v0<b2%以及i*rx<s2,其中根據(jù)產(chǎn)品特性設(shè)定b2和s2的值。


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供一種分立器件FV?MI模式測試防燒針的裝置,包括測試源,其包括高電位和低電位;固定于卡盤上的被測die,卡盤與測試源的高電位連接;探針卡,其與測試源的低電位端之間串接有標(biāo)準(zhǔn)電阻,標(biāo)準(zhǔn)電阻用以檢測測試回路中的電流;外接的低開啟電壓且高耐壓大功率的標(biāo)準(zhǔn)MOSFET,其中,測試時若回路中的電流異常偏大,引起標(biāo)準(zhǔn)電阻分壓增大,則外接的標(biāo)準(zhǔn)MOSFET被導(dǎo)通從而分流途經(jīng)探針卡的電流,通過控制流經(jīng)探針卡的電流來避免燒針。本發(fā)明外接的標(biāo)準(zhǔn)MOSFET被導(dǎo)通從而分流途徑探針的電流,通過控制流經(jīng)探針卡的電流來避免燒針。

      技術(shù)研發(fā)人員:陳培申,謝晉春,李晶晶,李軍華
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/17
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