本技術(shù)涉及樣品測(cè)試，一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具。

背景技術(shù)：

1、隨著顯微鏡、掃描電子顯微鏡(sem)、透射電子顯微鏡(tem)、和x射線衍射(xrd)儀器等測(cè)試裝置的發(fā)展，研究人員開(kāi)始能夠觀察樣品的微觀結(jié)構(gòu)，并通過(guò)測(cè)試裝置分析和推斷樣品材料的各種特性。進(jìn)一步的，部分研究人員還需要研究樣品在特定條件下的各種特性，例如樣品在不同磁場(chǎng)下的各種特性。

2、現(xiàn)有技術(shù)中，一般的夾具無(wú)法使夾具中的樣品維持在真空或特定氣體的環(huán)境下，無(wú)法檢測(cè)樣品在真空或特定氣體的環(huán)境下的各種特性。同時(shí)，一般的產(chǎn)生不同磁場(chǎng)的設(shè)備體積和重量較大，難以放入檢測(cè)裝置中。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的上述不足，提供了一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，包括殼體、固定機(jī)構(gòu)和第一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述殼體中形成有密閉腔體，所述固定機(jī)構(gòu)和所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)均設(shè)置在所述密閉腔體中；

2、所述固定機(jī)構(gòu)用于固定待測(cè)試樣品，所述殼體中設(shè)置有透光窗，以使外部測(cè)試光線透過(guò)所述透光窗對(duì)所述待測(cè)試樣品進(jìn)行測(cè)試；

3、所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)中設(shè)置有用于產(chǎn)生磁場(chǎng)的磁體，所述磁體位于所述待測(cè)試樣品下方，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述磁體轉(zhuǎn)動(dòng)，以改變穿過(guò)所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上方的待測(cè)試樣品的磁場(chǎng)強(qiáng)度。

4、在一個(gè)具體實(shí)施方式中，還包括導(dǎo)磁組件，所述導(dǎo)磁組件的一端靠近所述磁體，另一端靠近所述待測(cè)試樣品，以引導(dǎo)所述磁體的磁場(chǎng)穿過(guò)所述待測(cè)試樣品。

5、在一個(gè)具體實(shí)施方式中，所述導(dǎo)磁組件的底部位于所述磁體的兩側(cè)，所述磁體相對(duì)于所述導(dǎo)磁組件轉(zhuǎn)動(dòng)；

6、所述導(dǎo)磁組件的頂位于部所述待測(cè)試樣品的兩側(cè)，并且朝向所述待測(cè)試樣品的體積逐漸減小，以集中和引導(dǎo)所述磁體的磁場(chǎng)穿過(guò)所述待測(cè)試樣品。

7、在一個(gè)具體實(shí)施方式中，所述導(dǎo)磁組件包括第一導(dǎo)磁件和第二導(dǎo)磁件，所述第一導(dǎo)磁件的頂部靠近所述待測(cè)試樣品，所述第一導(dǎo)磁件底部靠近所述磁體；

8、所述第二導(dǎo)磁件與所述第一導(dǎo)磁件沿所述待測(cè)試樣品與所述磁體連接面對(duì)稱。

9、在一個(gè)具體實(shí)施方式中，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述磁體繞預(yù)設(shè)第一轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述磁體的磁極偏離所述第一轉(zhuǎn)軸。

10、在一個(gè)具體實(shí)施方式中，還包括第二轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述導(dǎo)磁組件連接在所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述導(dǎo)磁組件轉(zhuǎn)動(dòng)，以改變穿過(guò)所述待測(cè)試樣品的磁場(chǎng)方向。

11、在一個(gè)具體實(shí)施方式中，所述殼體中還設(shè)置有固定座，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)動(dòng)座；

12、所述導(dǎo)磁組件和所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)均固在所述轉(zhuǎn)動(dòng)座上，所述轉(zhuǎn)動(dòng)座轉(zhuǎn)動(dòng)連接在所述固定座上方，用于帶動(dòng)所述導(dǎo)磁組件轉(zhuǎn)動(dòng)。

13、在一個(gè)具體實(shí)施方式中，還包括檢測(cè)裝置，所述檢測(cè)裝置位于所述待測(cè)試樣品的下方，用于檢測(cè)穿過(guò)所述待測(cè)試樣品的場(chǎng)強(qiáng)度。

14、在一個(gè)具體實(shí)施方式中，還包括位于所述密閉腔體中的電路板，所述電路板分別連接所述檢測(cè)裝置、所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和外部控制裝置，用于將所述檢測(cè)裝置中的磁場(chǎng)強(qiáng)度信號(hào)輸送至外部控制裝置中，以使外部控制裝置中的根據(jù)所述檢測(cè)裝置中的磁場(chǎng)強(qiáng)度信號(hào)形成的控制所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述磁體轉(zhuǎn)動(dòng)的控制信號(hào)輸送至所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)中。

15、在一個(gè)具體實(shí)施方式中，所述固定機(jī)構(gòu)包括固定支架和透光結(jié)構(gòu)的樣品槽，所述樣品槽位于所述固定支架中，用于容納所述待測(cè)試樣品；

16、所述固定支架連接所述殼體，用于將所述樣品槽架設(shè)在所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上方。

17、有益效果：本實(shí)用新型將樣品架設(shè)在轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的上方，并使轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)中的磁體相對(duì)于樣品轉(zhuǎn)動(dòng)，不需要較大的體積和重量，即可使穿過(guò)樣品的磁場(chǎng)發(fā)生變化，減少了體積和重量。同時(shí)，能夠使固定機(jī)構(gòu)上的樣品維持在真空或特定氣體的環(huán)境下，以使檢測(cè)裝置能夠檢測(cè)樣品在真空或特定氣體的環(huán)境下的各種特性。

技術(shù)特征：

1.一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，其特征在于，包括殼體、固定機(jī)構(gòu)和第一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述殼體中形成有密閉腔體，所述固定機(jī)構(gòu)和所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)均設(shè)置在所述密閉腔體中；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，其特征在于，還包括導(dǎo)磁組件，所述導(dǎo)磁組件的一端靠近所述磁體，另一端靠近所述待測(cè)試樣品，以引導(dǎo)所述磁體的磁場(chǎng)穿過(guò)所述待測(cè)試樣品。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，其特征在于，所述導(dǎo)磁組件的底部位于所述磁體的兩側(cè)，所述磁體相對(duì)于所述導(dǎo)磁組件轉(zhuǎn)動(dòng)；

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，其特征在于，所述導(dǎo)磁組件包括第一導(dǎo)磁件和第二導(dǎo)磁件，所述第一導(dǎo)磁件的頂部靠近所述待測(cè)試樣品，所述第一導(dǎo)磁件底部靠近所述磁體；

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，其特征在于，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述磁體繞預(yù)設(shè)第一轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述磁體的磁極偏離所述第一轉(zhuǎn)軸。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，其特征在于，還包括第二轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述導(dǎo)磁組件連接在所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述導(dǎo)磁組件轉(zhuǎn)動(dòng)，以改變穿過(guò)所述待測(cè)試樣品的磁場(chǎng)方向。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，其特征在于，所述殼體中還設(shè)置有固定座，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)動(dòng)座；

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，其特征在于，還包括檢測(cè)裝置，所述檢測(cè)裝置位于所述待測(cè)試樣品的下方，用于檢測(cè)穿過(guò)所述待測(cè)試樣品的場(chǎng)強(qiáng)度。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，其特征在于，還包括位于所述密閉腔體中的電路板，所述電路板分別連接所述檢測(cè)裝置、所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和外部控制裝置，用于將所述檢測(cè)裝置中的磁場(chǎng)強(qiáng)度信號(hào)輸送至外部控制裝置中，以使外部控制裝置中的根據(jù)所述檢測(cè)裝置中的磁場(chǎng)強(qiáng)度信號(hào)形成的控制所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述磁體轉(zhuǎn)動(dòng)的控制信號(hào)輸送至所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)中。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位xrd測(cè)試夾具，其特征在于，所述固定機(jī)構(gòu)包括固定支架和透光結(jié)構(gòu)的樣品槽，所述樣品槽位于所述固定支架中，用于容納所述待測(cè)試樣品；

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供了一種磁場(chǎng)可調(diào)的樣品原位XRD測(cè)試夾具，包括殼體、固定機(jī)構(gòu)和轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，殼體中形成有密閉腔體，固定機(jī)構(gòu)和轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)均設(shè)置在密閉腔體中。固定機(jī)構(gòu)用于固定待測(cè)試樣品，殼體中設(shè)置有透光窗。轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)中設(shè)置有用于產(chǎn)生磁場(chǎng)的磁體，磁體位于待測(cè)試樣品下方，轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)磁體轉(zhuǎn)動(dòng)，以改變穿過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上方的待測(cè)試樣品的磁場(chǎng)強(qiáng)度。本技術(shù)將樣品架設(shè)在轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的上方，并使轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)中的磁體相對(duì)于樣品轉(zhuǎn)動(dòng)，不需要較大的體積和重量，即可使穿過(guò)樣品的磁場(chǎng)發(fā)生變化，減少了體積和重量。同時(shí)，能夠使固定機(jī)構(gòu)上的樣品維持在真空或特定氣體的環(huán)境下，以使檢測(cè)裝置能夠檢測(cè)樣品在真空或特定氣體的環(huán)境下的各種特性。

技術(shù)研發(fā)人員：馬靜,沈洋,陳逸強(qiáng),馬飛越
受保護(hù)的技術(shù)使用者：清華大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：20240116
技術(shù)公布日：2024/10/10