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      檢測(cè)治具的制作方法

      文檔序號(hào):40396250發(fā)布日期:2024-12-20 12:19閱讀:5來源:國知局
      檢測(cè)治具的制作方法

      本技術(shù)涉及半導(dǎo)體加工,特別是涉及一種檢測(cè)治具。


      背景技術(shù):

      1、半導(dǎo)體指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體在集成電路、消費(fèi)電子、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電、照明、大功率電源轉(zhuǎn)換等領(lǐng)域都有應(yīng)用。在半導(dǎo)體的制造工藝中,需要將晶片研磨到指定厚度,再進(jìn)行后續(xù)的加工工序。

      2、現(xiàn)有的晶片在厚度測(cè)量的過程中會(huì)將晶片直接放置在治具上,導(dǎo)致在厚度測(cè)量的過程中晶片的端面很容易被治具劃傷,影響晶片端面的平整度,尤其在精度要求較高的情況下,端面存在劃傷的晶片嚴(yán)重影響加工質(zhì)量。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是:

      2、厚度測(cè)量過程中劃傷晶片端面,影響加工質(zhì)量。

      3、為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供了一種檢測(cè)治具,包括:

      4、底板,所述底板上設(shè)置有第一鏤空區(qū);

      5、轉(zhuǎn)板,與所述底板可轉(zhuǎn)動(dòng)連接;所述轉(zhuǎn)板上設(shè)置有第二鏤空區(qū);

      6、載物板,與所述轉(zhuǎn)板連接,所述載物板隨所述轉(zhuǎn)板一并相對(duì)所述底板轉(zhuǎn)動(dòng);所述載物板上設(shè)置有第三鏤空區(qū)及多個(gè)插孔,各所述插孔沿所述載物板周緣間隔設(shè)置;

      7、支撐柱,所述支撐柱分別插入各所述插孔內(nèi),所述支撐柱用于將晶片架設(shè)在所述載物板上;及

      8、檢測(cè)件,所述檢測(cè)件用于檢測(cè)其與晶片之間的距離;

      9、其中,所述第一鏤空區(qū)、所述第二鏤空區(qū)及所述第三鏤空區(qū)依次連通形成檢測(cè)通道;所述檢測(cè)件對(duì)稱布置在所述檢測(cè)通道的兩端。

      10、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述支撐柱包括插接部、延伸部及抵持部;所述插接部插入所述插孔內(nèi),所述延伸部自所述插接部向遠(yuǎn)離所述載物板方向延伸,所述抵持部設(shè)置在所述延伸部遠(yuǎn)離所述插接部的一側(cè),所述抵持部用于與晶片相抵接。

      11、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述抵持部的外側(cè)面自所述延伸部向遠(yuǎn)離所述插接部方向呈逐漸收縮狀傾斜設(shè)置。

      12、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述支撐柱還包括手持部;所述手持部與所述抵持部遠(yuǎn)離所述延伸部的一側(cè)連接。

      13、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述底板、所述轉(zhuǎn)板及所述載物板均呈圓形直板狀,所述第一鏤空區(qū)、所述第二鏤空區(qū)及所述第三鏤空區(qū)均呈圓弧形通孔狀,所述第一鏤空區(qū)沿所述底板的周緣間隔設(shè)置,所述第二鏤空區(qū)沿所述轉(zhuǎn)板的周緣間隔設(shè)置,所述第三鏤空區(qū)沿所述載物板的周緣間隔設(shè)置。

      14、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述載物板上設(shè)置有通槽;所述通槽的一端與所述第三鏤空區(qū)相連通,所述通槽的另一端向所述載物板的圓心位置處延伸。

      15、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述轉(zhuǎn)板上設(shè)置有導(dǎo)向條,所述載物板上設(shè)置有導(dǎo)向槽;所述導(dǎo)向條呈長條狀凸設(shè)在所述轉(zhuǎn)板靠近所述載物板的一側(cè),所述導(dǎo)向槽呈長條形凹槽狀設(shè)置在所述載物板靠近所述轉(zhuǎn)板的一側(cè),所述導(dǎo)向條對(duì)應(yīng)嵌入所述導(dǎo)向槽內(nèi),所述導(dǎo)向槽與所述通槽的延伸方向相同。

      16、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述底板上設(shè)置有第一定位塊,所述轉(zhuǎn)板上設(shè)置有第二定位塊;所述第一定位塊凸設(shè)在所述底板的外側(cè)曲面上,所述第二定位塊凸設(shè)在所述轉(zhuǎn)板的外側(cè)曲面上;

      17、其中,所述轉(zhuǎn)板的第二定位塊旋轉(zhuǎn)至與所述第一定位塊對(duì)應(yīng)位置處時(shí),所述通槽的開口方向朝向所述檢測(cè)件。

      18、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述底板上設(shè)置有鉸接孔,所述轉(zhuǎn)板上設(shè)置有鉸接柱;所述鉸接孔呈圓形凹槽狀設(shè)置在所述底板靠近所述轉(zhuǎn)板的一側(cè),所述鉸接柱呈圓柱狀凸設(shè)在所述轉(zhuǎn)板靠近所述底板的一側(cè),所述鉸接柱插設(shè)在所述鉸接孔內(nèi)。

      19、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述載物板上設(shè)置有把手;所述把手凸設(shè)在所述載物板的外側(cè)曲面上。

      20、上述檢測(cè)治具與現(xiàn)有技術(shù)相比,其有益效果在于:

      21、通過在載物板上設(shè)置支撐柱,將晶片架設(shè)在載物板上,實(shí)現(xiàn)晶片端面與載物板分離,進(jìn)而避免厚度測(cè)量過程中對(duì)晶片端面造成劃傷,保證后續(xù)的加工質(zhì)量,提高晶片加工穩(wěn)定性。

      22、通過設(shè)置可相對(duì)底板轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)板,在測(cè)量過程中不需要移動(dòng)檢測(cè)件,通過控制轉(zhuǎn)板的旋轉(zhuǎn)即可對(duì)晶片進(jìn)行全角度的厚度測(cè)量,消除檢測(cè)件移動(dòng)控制過程中出現(xiàn)的位移誤差,進(jìn)而提高對(duì)晶片厚度的檢測(cè)精度,滿足對(duì)晶片的高精度加工需求。



      技術(shù)特征:

      1.一種檢測(cè)治具,其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測(cè)治具,其特征在于,所述支撐柱包括插接部、延伸部及抵持部;所述插接部插入所述插孔內(nèi),所述延伸部自所述插接部向遠(yuǎn)離所述載物板方向延伸,所述抵持部設(shè)置在所述延伸部遠(yuǎn)離所述插接部的一側(cè),所述抵持部用于與晶片相抵接。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測(cè)治具,其特征在于,所述抵持部的外側(cè)面自所述延伸部向遠(yuǎn)離所述插接部方向呈逐漸收縮狀傾斜設(shè)置。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的檢測(cè)治具,其特征在于,所述支撐柱還包括手持部;所述手持部與所述抵持部遠(yuǎn)離所述延伸部的一側(cè)連接。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測(cè)治具,其特征在于,所述底板、所述轉(zhuǎn)板及所述載物板均呈圓形直板狀,所述第一鏤空區(qū)、所述第二鏤空區(qū)及所述第三鏤空區(qū)均呈圓弧形通孔狀,所述第一鏤空區(qū)沿所述底板的周緣間隔設(shè)置,所述第二鏤空區(qū)沿所述轉(zhuǎn)板的周緣間隔設(shè)置,所述第三鏤空區(qū)沿所述載物板的周緣間隔設(shè)置。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢測(cè)治具,其特征在于,所述載物板上設(shè)置有通槽;所述通槽的一端與所述第三鏤空區(qū)相連通,所述通槽的另一端向所述載物板的圓心位置處延伸。

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢測(cè)治具,其特征在于,所述轉(zhuǎn)板上設(shè)置有導(dǎo)向條,所述載物板上設(shè)置有導(dǎo)向槽;所述導(dǎo)向條呈長條狀凸設(shè)在所述轉(zhuǎn)板靠近所述載物板的一側(cè),所述導(dǎo)向槽呈長條形凹槽狀設(shè)置在所述載物板靠近所述轉(zhuǎn)板的一側(cè),所述導(dǎo)向條對(duì)應(yīng)嵌入所述導(dǎo)向槽內(nèi),所述導(dǎo)向槽與所述通槽的延伸方向相同。

      8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢測(cè)治具,其特征在于,所述底板上設(shè)置有第一定位塊,所述轉(zhuǎn)板上設(shè)置有第二定位塊;所述第一定位塊凸設(shè)在所述底板的外側(cè)曲面上,所述第二定位塊凸設(shè)在所述轉(zhuǎn)板的外側(cè)曲面上;

      9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任意一項(xiàng)所述的檢測(cè)治具,其特征在于,所述底板上設(shè)置有鉸接孔,所述轉(zhuǎn)板上設(shè)置有鉸接柱;所述鉸接孔呈圓形凹槽狀設(shè)置在所述底板靠近所述轉(zhuǎn)板的一側(cè),所述鉸接柱呈圓柱狀凸設(shè)在所述轉(zhuǎn)板靠近所述底板的一側(cè),所述鉸接柱插設(shè)在所述鉸接孔內(nèi)。

      10.根據(jù)權(quán)利要求1至8任意一項(xiàng)所述的檢測(cè)治具,其特征在于,所述載物板上設(shè)置有把手;所述把手凸設(shè)在所述載物板的外側(cè)曲面上。


      技術(shù)總結(jié)
      本技術(shù)涉及半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種檢測(cè)治具包括底板、轉(zhuǎn)板、載物板、支撐柱及檢測(cè)件;底板上設(shè)置有第一鏤空區(qū);轉(zhuǎn)板與底板可轉(zhuǎn)動(dòng)連接;轉(zhuǎn)板上設(shè)置有第二鏤空區(qū);載物板隨轉(zhuǎn)板一并相對(duì)底板轉(zhuǎn)動(dòng);載物板上設(shè)置有第三鏤空區(qū)及多個(gè)插孔,各插孔沿載物板周緣間隔設(shè)置;支撐柱分別插入各插孔內(nèi),支撐柱用于將晶片架設(shè)在載物板上;檢測(cè)件用于檢測(cè)其與晶片之間的距離;其中,第一鏤空區(qū)、第二鏤空區(qū)及第三鏤空區(qū)依次連通形成檢測(cè)通道;檢測(cè)件對(duì)稱布置在檢測(cè)通道的兩端。通過支撐柱將晶片架設(shè)在載物板上,實(shí)現(xiàn)晶片端面與載物板分離,進(jìn)而避免厚度測(cè)量過程中對(duì)晶片端面造成劃傷,保證后續(xù)的加工質(zhì)量,提高晶片加工穩(wěn)定性。

      技術(shù)研發(fā)人員:廖和杰,劉火陽,馬金峰,周鐵軍
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:廣東先導(dǎo)微電子科技有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:20240424
      技術(shù)公布日:2024/12/19
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