專利名稱：光干涉膨脹儀測長裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于光干涉膨脹測量技術(shù)領(lǐng)域，是一種測量固體材料膨脹系數(shù)的裝置。
目前，大部份光干涉膨脹儀的溫度測量范圍是從室溫到高溫區(qū)，少數(shù)幾種可進行低溫區(qū)超低膨脹系數(shù)測量的光干涉膨脹儀系統(tǒng)龐大，結(jié)構(gòu)復雜，試樣必須是上下表面嚴格平行的塊狀試樣，其加工精度高、制作困難。實用新型專利90210353.9光干涉測長計恒溫槽提供了良好的等溫場并具有結(jié)構(gòu)簡單、測試方便的特點，但該實用新型專利適于測量室溫至高溫區(qū)的膨脹系數(shù)。
在此基礎(chǔ)上，本實用新型的目的在于提供一種測量精度高、測量范圍寬、能實現(xiàn)低溫至高溫較大溫度范圍的光干涉膨脹儀測長裝置，以滿足科研與生產(chǎn)的需要。
本實用新型的目的通過如下技術(shù)措施實現(xiàn)光干涉膨脹儀測長裝置其樣品測試空間采用雙層黑體空腔式結(jié)構(gòu)，溫度計選擇與樣品的形狀、尺寸基本相同，二者的放置按對稱分布，方向一致，雙層黑體空腔式結(jié)構(gòu)的外側(cè)套置液氮冷卻槽，在其周圍和上下表面附置絕熱層，以此來制造從低溫到高溫的寬溫度變化范圍的溫度環(huán)境。
結(jié)合附圖對本實用新型的具體結(jié)構(gòu)作進一步詳細的描述。


圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖1是本實用新型的實施例。
參照圖1，本實用新型由底座1、密封環(huán)2、下絕熱層3、下側(cè)絕熱層4、外殼5、冷卻槽6、密封塑料7、上側(cè)絕熱層8、上外殼9、上蓋10、上絕熱層11、真空室窗口法蘭12、真空室窗口13、密封圈14、外腔體加熱支架15、外防震件16、電熱體17、內(nèi)防震件18、上干涉片19、鉑溫度計20、試樣21、內(nèi)腔體試樣架22、下干涉片23、支座24、密封金屬板25、密封法蘭26組成，試樣21與鉑溫度計的外形及尺寸基本相同，相互對稱地放置在試樣架22中，并處于同一熱等勢面上，上干涉片19落置在內(nèi)腔體試樣架22上，內(nèi)腔體試樣架22座落于下干涉片23上，下干涉片23固定于支座24、支座24的孔27便于抽真空，電熱體17均布于加熱體支架15內(nèi)，加熱體支架15座落在支座24上，由加熱體支架15與支座24構(gòu)成雙層黑體空腔式測試空間，防震件16和18起到防震及定位作用，冷卻槽6套置于雙層黑體空腔結(jié)構(gòu)外側(cè)，冷卻槽6設(shè)置充氮口28及出口29，在冷卻槽6的四周充填低黑度的熱屏蔽絕熱層3、4、8、11，由底座1、外殼5、上外殼9、上蓋10將其固定，其中外殼5通過密封環(huán)2與底座1配合，上外殼9通過塑料密封7與外殼5配合，上蓋10通過塑料密封7蓋在上外殼9上，上蓋10的環(huán)形槽內(nèi)鑲有密封圈14，真空室窗口13座落于環(huán)形密封圈上，真空室窗口法蘭12與真空室窗口13緊配合，底座1的下端設(shè)置光路通道口31，導線引出端30，抽真空口32、冷卻槽6的充氮口28由密封法蘭26通過密封金屬板25與底座1緊配合。
本實用新型由于采用上述結(jié)構(gòu)，具有如下特點1、冷卻槽采用液氮制冷，可以實現(xiàn)90K～293.15K，低溫范圍內(nèi)的實驗測量；2、利用真空區(qū)的熱傳導及熱幅射促使腔內(nèi)的溫度分布盡量均勻；3、選用低黑度的熱屏蔽絕熱層保證腔內(nèi)橫向，縱向溫差達到最低的程度。
權(quán)利要求1.光干涉膨脹儀測長裝置，該裝置由底座1、密封環(huán)2、下絕熱層3、下側(cè)絕熱層4、外殼5、冷卻槽6、密封塑料7、上側(cè)絕熱層8、上外殼9、上蓋10、上絕熱層11、真空室窗口法蘭12、真空室窗口13、密封圈14、外腔體加熱支架15、外防震件16、電熱體17、內(nèi)防震件18、上干涉片19、鉑溫度計20、試樣21、內(nèi)腔體試樣架22、下干涉片23、支座24、密封金屬板25、密封法蘭26組成，試樣21與鉑溫度計的外形及尺寸基本相同，相互對稱地放置在試樣架22中，并處于同一熱等勢面上，上干涉片19落置在內(nèi)腔體試樣架22上，內(nèi)腔體試樣架22座落于下干涉片23上，下干涉片23固定于支座24，支座24的孔27便于抽真空，電熱體17均布于加熱體支架15內(nèi)，加熱體支架15座落在支座24上，由加熱體支架15與支座24構(gòu)成雙層黑體空腔式測試空間，其特征在于冷卻槽6套置于雙層黑體空腔結(jié)構(gòu)外側(cè)，冷卻槽6設(shè)置充氮口28及出口29，在冷卻槽6的四周充填低黑度的熱屏蔽絕熱層3、4、8、11，由底座1、外殼5、上外殼9、上蓋10將其固定，其中外殼5通過密封環(huán)2與底座1配合，上外殼9通過塑料密封7與外殼5配合，上蓋10通過塑料密封7蓋在上外殼9上，上蓋10的環(huán)形槽內(nèi)鑲有密封圈14，真空室窗口13座落于環(huán)形密封圈上，真空室窗口法蘭12與真空室窗口13緊配合，底座1的下端設(shè)置光路通道口31，導線引出端30，抽真空口32，冷卻槽6的充氮口28由密封法蘭26通過密封金屬板25與底座1緊配合。
專利摘要本實用新型屬于光干涉膨脹測量技術(shù)領(lǐng)域，是一種測量固體材料膨脹系數(shù)的裝置。光干涉膨脹儀測長裝置其樣品測試空間采用雙層黑體空腔式結(jié)構(gòu)，溫度計選擇與樣品的形狀、尺寸基本相同，二者的放置按對稱分布，方向一致，雙層黑體空腔式結(jié)構(gòu)的外側(cè)套置液氮冷卻槽，冷卻槽設(shè)置有充氮入口和出口，冷卻槽的四周充填低黑度的絕熱屏蔽層，通過外殼，上蓋等部件將其固定，以此來制造從低溫到高溫的寬溫度變化范圍的溫度環(huán)境。
文檔編號G01B11/16GK2098006SQ9121070
公開日1992年3月4日 申請日期1991年6月8日 優(yōu)先權(quán)日1991年6月8日
發(fā)明者劉慶國, 岳文生, 吳恩庚, 周必福, 岳文龍, 劉紅心, 劉宏偉, 楊淑文, 劉成銀, 李昕 申請人:東北工學院