專利名稱：斜線光柵密度儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及測量儀器，是一種用以測量平行線條或網(wǎng)點(diǎn)密度的光柵型密度儀。
在織造業(yè)或印刷業(yè)中，廣泛使用光柵型密度儀來測量織物或絲網(wǎng)的密度、質(zhì)量?，F(xiàn)有的斜線光柵密度儀以構(gòu)成光柵的斜線排列形式分類，有等角度間隔排列和等比例間隔排列兩類密度儀。等角度斜線光柵密度儀，以日本產(chǎn)的＂線目測試片＂為代表，它采用等角度間隔分段排列斜線，在分段處標(biāo)定數(shù)值，有單位長度(1厘米和1英吋)刻線，但無線長刻度線。這種密度儀的測量顯示面積較小，測量顯示讀數(shù)精度較低。等比例斜線光柵密度儀，以＂經(jīng)緯密度儀＂為代表，是目前使用較廣的一種斜線光柵密度儀。它是一種在全透明基板上制有呈水平置向等腰梯形光柵圖形的斜線光柵密度儀，構(gòu)成光柵的若干條斜線以光柵圖形中心線為基準(zhǔn)向兩側(cè)間隔排列，在構(gòu)成光柵圖形最外側(cè)的兩對稱斜線上從底端至頂端等比例地對稱刻有垂直于斜線的刻度線。這種密度儀的最大不足有二，一是各斜線不是等間隔排列，二是刻度線的設(shè)置垂直于最外側(cè)的斜線。因?yàn)樾本€光柵密度儀測量顯示時(shí)其干涉條紋的曲線中心是垂直于梯形光柵(圖形)中心線的，因此用上述這種等比例斜線光柵密度儀來測量時(shí)，其干涉條紋曲線中心與光柵斜邊上的刻度就存在一角度偏差，這就給測量顯示讀數(shù)的精確度帶來影響；而且，現(xiàn)有的這種＂經(jīng)緯密度儀＂的測量范圍不夠，最多只能測量至120/厘米；基板是用玻璃材料制成的，跌落易碎。
本實(shí)用新型的目的是為了提供一種改進(jìn)的斜線光柵密度儀，以提高其顯示讀數(shù)精度，能測量出更細(xì)密的線條，服務(wù)于制造出高質(zhì)量的衣服面料，編織出更細(xì)密的絲網(wǎng)。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的在一塊全透明的基板上制有呈水平置向的等腰梯形光柵圖形，構(gòu)成光柵圖形的若干條斜線以光柵圖形中心線為基準(zhǔn)向兩側(cè)間隔排列，在構(gòu)成光柵圖形最外側(cè)的兩對稱斜線上從底端至頂端等比例地對稱刻有刻度線，本設(shè)計(jì)的特點(diǎn)是所說間隔排列于光柵圖形中心線兩側(cè)的斜線，在任一光柵圖形中心線的垂直線上其寬度相同，且兩相鄰斜線間的間距與斜線的寬度相等；在斜線的長度方向上各斜線均呈一截頂三角形；所說刻度線垂直于光柵圖形中心線，一側(cè)斜線上刻度線的刻度值為公制刻度值，另一側(cè)斜線上刻度線的刻度值為英制刻度值；位于同一光柵圖形中心線之垂直線上的斜線寬度與刻度線之刻度值成反比。
為測量方便，最好在光柵圖形上能明確表示出測量定義和方向。為此，本實(shí)用新型在等腰梯形光柵圖形的寬底外側(cè)平行于底邊設(shè)置有公制和英制的單位長度刻度及測量方向組合標(biāo)記。
一般情況下，全透明基板、特別是用高分子材料制成的基板易受溫度或濕度的影響而發(fā)生局部變形。為識別變形與否，并能隨時(shí)校驗(yàn)讀數(shù)誤差，本設(shè)計(jì)在光柵圖形兩側(cè)設(shè)置有一與光柵圖形中心線相平行的校驗(yàn)框線。
為防止或減少裸面基板在使用過程中光柵圖形的磨損，本實(shí)用新型把制有光柵圖形的全透明基板用透明薄膜封裝。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是，由于本實(shí)用新型是采用等比例間隔均布排列形式來確定斜線位置的，同一截面(垂直于圖形中心線的垂直線)上的各條斜線的線寬相等，并且兩斜線間的間距又與線寬相等，這就符合均布平行線條(或網(wǎng)點(diǎn))的密度分布測量原理，克服了等角度間隔斜線與均布平行線相干涉時(shí)，在斜線外側(cè)刻度處會產(chǎn)生彎曲而帶來的讀數(shù)誤差；因本實(shí)用新型中的刻度線垂直于圖形中心線，則刻度線的方向就與測量干涉條紋的曲線中心線方向一致，這就克服了斜向刻度線(即刻度線垂直于光柵外側(cè)斜線，使得刻度線相對于圖形中心線而言成為斜向刻度線)對顯示讀數(shù)的不便和由此產(chǎn)生的誤差；本實(shí)用新型中構(gòu)成光柵的斜線整體分布均勻，提高了干涉條紋的顯示清晰度。
本實(shí)用新型的實(shí)施例如附圖所示。
以下結(jié)合附圖所示實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。


圖1為本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例的正向視圖。
圖2為本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例的正向視圖。
圖3為本實(shí)用新型的局部放大視圖。
由圖1見，本實(shí)施例中，在一塊用全透明塑料制成的基板1上設(shè)置有由若干條斜線2組成的等腰梯形光柵圖形3，此若干條斜線2以光柵圖形中心線為基準(zhǔn)間隔均布在兩側(cè)，位于光柵圖形中心線之垂直線上的各條斜線2的寬度相等，各條間隔也相等。在光柵圖形3兩邊側(cè)的斜線上刻有垂直于圖形中心線的刻度線4，刻度線4上標(biāo)有刻度值，上邊側(cè)上刻度線4的刻度值為公制值，下邊側(cè)上刻度線4的刻度值為英制，該刻度線4自左向右等比例提升間隔設(shè)置，刻度值(測量范圍)為40-200/厘米(或100-500/英吋)。由圖見，本實(shí)施例在光柵圖形3的左側(cè)設(shè)置有一與光柵圖形左側(cè)邊相平行的綜合標(biāo)記5，該標(biāo)記5的上部為公制單位長度及方向標(biāo)，下部為英制單位長度及方向標(biāo)。在光柵圖形3的上、下方設(shè)置有一與圖形中心線相平行的校驗(yàn)框線6。本實(shí)施例中的斜線及斜線間的排列方式還如附圖3所示。由圖3見，組成光柵圖形3的每一根斜線2均呈水平置向的三角形(截去頭部)，每兩相鄰斜線2間具有一間隔7。從左至右，斜線2的寬度A連續(xù)縮小，間隔7的寬度B也相應(yīng)連續(xù)縮小，使在任一垂直于圖形中心線8之垂直線9上的斜線寬度A和間隔寬度B相等；斜線寬度A與刻度值的關(guān)系是斜線寬度A與刻度值成反比，即從左至右刻度值增大，斜線寬度A(亦即間隔寬度B)相應(yīng)縮小。本實(shí)施例中，位于上邊側(cè)上刻度線4的最大刻度值達(dá)到200/厘米(相應(yīng)地，位于下邊側(cè)上刻度線4的刻度值為500/英吋)，比現(xiàn)有＂經(jīng)緯密度儀＂的最大刻度值120/厘米要擴(kuò)展80/厘米，基本上已超過了目前最高級織物的檢測要求。本實(shí)施例的測量范圍為40-200/厘米。
圖2所示實(shí)施例與上述實(shí)施例之基本構(gòu)成相同，區(qū)別在于刻度值不同，亦即斜線的設(shè)計(jì)線寬A(間隔寬度B)的數(shù)值與上不同。本實(shí)施例的測量范圍為10-50/厘米。
權(quán)利要求1，一種在全透明基板上制有呈水平置向等腰梯形光柵圖形的斜線光柵密度儀，構(gòu)成光柵的若干條斜線以光柵圖形中心線為基準(zhǔn)向兩側(cè)間隔排列，在構(gòu)成光柵圖形最外側(cè)的兩對稱斜線上從底端至頂端等比例地對稱刻有刻度線，其特征在于所說間隔排列于光柵圖形中心線兩側(cè)的斜線，在任一光柵圖形中心線的垂直線上其寬度相同，且兩相鄰斜線間的間距與斜線的寬度相等；在斜線的長度方向上各斜線均呈一截頂三角形；所說刻度線垂直于光柵圖形中心線，一側(cè)斜線上刻度線的刻度值為公制刻度值，另一側(cè)斜線上刻度線的刻度值為英制刻度值；位于同一光柵圖形中心線之垂直線上的斜線寬度與刻度線之刻度值成反比。
2，根據(jù)權(quán)利要求1所述斜線光柵密度儀，其特征在于在等腰梯形光柵圖形的寬底外側(cè)平行于底邊設(shè)置有公制和英制的單位長度刻度及測量方向組合標(biāo)記。
3，根據(jù)權(quán)利要求1或2所述斜線光柵密度儀，其特征在于在光柵圖形兩側(cè)設(shè)置有一與光柵圖形中心線相平行的校驗(yàn)框線。
4，根據(jù)權(quán)利要求3所述斜線光柵密度儀，其特征在于所說制有光柵圖形的全透明基板用透明薄膜封裝。
專利摘要本實(shí)用新型是一種用以測量平行線條或網(wǎng)點(diǎn)密度的斜線光柵密度儀，主要特點(diǎn)是間隔排列于光柵圖形中心線兩側(cè)的斜線，在任一光柵圖形中心線的垂直線上其寬度相同，且兩相鄰斜線間的間隔與斜線的寬度相等；對稱設(shè)置在光柵圖形兩側(cè)斜線上的刻度線垂直于光柵圖形中心線；位于同一光柵圖形中心線之垂直線上的斜線寬度與刻度值成反比。本實(shí)用新型中構(gòu)成光柵的斜線整體分布均勻，干涉條紋顯示清晰，測量精度高，能滿足現(xiàn)代織造技術(shù)對檢測測量的要求。
文檔編號G01B9/02GK2240711SQ95243970
公開日1996年11月20日 申請日期1995年5月12日 優(yōu)先權(quán)日1995年5月12日
發(fā)明者潘志剛, 陳藝鳴 申請人:潘志剛